「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

When the line quality is satisfactory, the synchronization pattern setting circuit 12 is controlled to decrease the synchronization pattern to quickly lock the synchronization.例文帳に追加

回線品質が良い場合には、同期用パターン設定回路１２に対して同期用パターンを短くするように制御し、同期引込みを迅速に行なう。 - 特許庁

To obtain a variable rectangular electron beam exposure apparatus capable of highly finely conducting exposure with respect to a predetermined fine line pattern having an arbitrary angle in the pattern region.例文帳に追加

任意角度をもった所定の細線パターンについて、そのパターン領域内を高精細に露光することのできる可変矩形型電子ビーム露光装置を得る。 - 特許庁

To compose a process of forming a pattern of an internal electrode and a pattern of a step cancellation dielectric where the leveling property of paste is excellent, and an entire path line length is short.例文帳に追加

ペーストのレベリング性が良く、全体のパスライン長が短い、内部電極用パターンおよび段差解消誘電体用パターンの形成工程を構成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a superior pattern causing no crack even when the line width of the remaining pattern in a butting part is ≤130 nm, and also to provide a mask.例文帳に追加

突合せ部の残しパターンの線幅が１３０ｎｍ以下になっても亀裂を生じることのない優れたパターン形成方法およびマスクを提供する。 - 特許庁

All the display patterns are changed (a) and the left pattern and the right pattern are temporarily stopped on an effective line L in a lichich (ready-for-win display condition in which the patterns aligned are both 'A' (b).例文帳に追加

全ての表示図柄を変動させ（ａ）、左図柄と右図柄とを有効ラインＬ上に「Ａ」で揃えたリーチ表示態様で仮停止させる（ｂ）。 - 特許庁

To increase resolution in a pattern even in an end portion of a line-and-space pattern, and to suppress decrease in a lithographic margin or increase in a CAD processing time.例文帳に追加

ライン＆スペースのパターンの端部においてもパターンの解像性を高めることができ、且つリソグラフィマージンの低下やＣＡＤ処理時間の増大を抑制する。 - 特許庁

To provide a selective method of an exposure threshold whereto the correspondent line-width variation of a formed pattern is made small even when the blooming quantity of the formed pattern is varied during its exposure operation.例文帳に追加

露光動作中にボケの量が変動したとしても形成されるパターンの線幅変動の少ない閾値の選定方法を提供する。 - 特許庁

The pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the line width of the absorbing film 4 of a portion adjacent in a horizontal direction of the pattern defect is made narrow.例文帳に追加

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の水平方向隣にある部分の吸収膜４のパターンの線幅を狭くする。 - 特許庁

In a right headlamp unit, a second lighting fixture unit 28 forms an additional light distribution pattern including an upper region from a cutoff line of the light distribution pattern for low beam.例文帳に追加

右前照灯ユニットにおいて、第２灯具ユニット２８は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含む付加配光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a technology capable of preventing a film exfoliation and obtaining an excellent pattern shape even when a small line width is adopted for a pattern of a black matrix.例文帳に追加

ブラックマトリックスのパターンの線幅を小さくする場合であっても、膜剥れを防止すると共に、良好なパターン形状を得る技術を提供する。 - 特許庁

If you'd like to replace the first pattern that appears on the current line, type:s/regexp/replacement/ and hit ENTER, where regexp is the pattern you'd like to match and replacement is the replacement string.例文帳に追加

もし、現在行で出現する最初のパターンを置き換えたい場合はtype:s/regexp/replacement/をタイプし、ENTERを押します。 regexpはマッチさせるパターンで、replacementは置き換える文字です。 - Gentoo Linux

The first electrode pattern 11 and the second electrode pattern 12 are formed by using conductive films in layers equal to a gate wiring line 1 and the counter electrode 6, respectively.例文帳に追加

また、第１の電極パターン１１はゲート配線１と、第２の電極パターン１２は対向電極６と同一層の導電膜で形成する。 - 特許庁

The image forming body with the hologram has a hologram forming layer and a line pattern forming layer having a concealed pattern constituted of lines.例文帳に追加

ホログラム形成層と、万線で隠しパターンが構成された万線パターン形成層とを具備することを特徴とするホログラム付き画像形成体である。 - 特許庁

An inter-board connection electrode wiring pattern similar to the signal line take-out electrode wiring pattern is formed on the surface of the connection substrate.例文帳に追加

接続基板の表面には、信号線取り出し電極配線パターンと同一パターンの基板間接続用電極配線パターンが形成されている。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of stably detecting a pair of line segments constituting a test pattern without increasing the number of parts, and the test pattern.例文帳に追加

部品点数を増やすことなく、テストパターンを構成する一対の線分を安定して検出することのできる画像形成装置、及びそのテストパターンの提供。 - 特許庁

To prevent pattern collapse of a line end portion or a defect pattern as a whole and to improve the process margin in lithography and the manufacturing yield of a device.例文帳に追加

ライン端部のパターン倒壊若しくはパターン自体がディフェクトとなるのを防止し、リソグラフィのプロセスマージン及びデバイスの製造歩留まりの向上をはかる。 - 特許庁

In the first column of this table, n denotes an n-fold rotation axis normal to the CBED pattern, and m a mirror line in the plane of the pattern. 例文帳に追加

この表の最初の列では、n はCBED 図形に対して垂直なn-回 回転軸を表わし、そしてmはその図形面内にある鏡映線を表わす。 - 科学技術論文動詞集

A wiring material 6 is connected to the termination of a line pattern conducting to the through hole of the printed board 5.例文帳に追加

プリント基板５のスルーホール５１と導通する線パターン５２の終端に配線材６を接続する。 - 特許庁

One area is selected among a plurality of selection areas based on a prescribed pattern line.例文帳に追加

そして、所定の絵柄列に基づいて複数の選択領域の中から一つの領域を選択させる。 - 特許庁

To set a temperature of a heat plate so that a width of line of a resist pattern is uniformly formed on a wafer surface.例文帳に追加

レジストパターンの線幅がウェハ面内で均一に形成されるように，熱板の温度設定を行う。 - 特許庁

To provide a technique for making a pattern which reflects a three-dimensional shape ranged from a bust to a waist line.例文帳に追加

バストからウエストラインにかけての三次元形状を反映したパターンの作成技術を提供する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material which comprises a transparent substrate and a fine line pattern formed thereon.例文帳に追加

透明基材及びその上に形成された細線パターンからなる電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁

To cut a fuse with high precision in a semiconductor device that trims the fuse with a laser and reduce the area of a laser trimming positioning pattern in the scribe line region.例文帳に追加

ヒューズをレーザトリミングをする半導体装置において、高精度でヒューズを切断すること。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of manufacturing a resist pattern excellent in line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition which enables to obtain a pattern having excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which enables a resist pattern having superior line edge roughness to be formed.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which provides a pattern having an excellent line width roughness (LWR).例文帳に追加

優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To avoid the problem of a processing process such as the collapse of a resist pattern at ends of a plurality of line patterns.例文帳に追加

複数のライン状のパターンの端部におけるレジストパターン倒れ等の加工プロセスの問題を回避する。 - 特許庁

To provide an electronic apparatus with a case embedded with a transmission line pattern, and a manufacturing method of the same.例文帳に追加

本発明は、伝送線路パターンがケースに埋め込まれる電子装置及びその製造方法に関する。 - 特許庁

Also, when the rotation of all the rotary reels is stopped by the stop control means and it is determined by the effective line pattern determination means that the shift pattern combination is displayed on the effective line, the slot machine shifts to one special game on the basis of the effective line on which the shift pattern combination is displayed.例文帳に追加

また、スロットマシンは、停止制御手段によりすべての回転リールの回転が停止され、且つ有効ラインに移行図柄組み合わせを表示していると有効ライン図柄判定手段により判定された場合に、移行図柄組み合わせの表示された有効ラインに基づき一の特殊遊技に移行させる。 - 特許庁

In this regard, a transmission pattern is multiplexed onto the voice data for that call being delivered to a voice line.例文帳に追加

この際、音声回線へ送出する当該呼についての音声データに透過パターンを多重化しておく。 - 特許庁

The VSS power supply line is connected to a CMOS type SRAM cell through an island-shaped VSS pattern formed by the wiring layer just below the VSS power supply line, and connection of the VSS power supply line to the island-shaped VSS pattern is attained by arrangement of a plurality of via parts per island-shaped VSS pattern.例文帳に追加

ＶＳＳ電源配線は、ＶＳＳ電源配線より１層下の配線層で形成された島形状ＶＳＳパターンを介してＣＭＯＳ型ＳＲＡＭセルと接続されており、ＶＳＳ電源配線と島形状ＶＳＳパターンとの接続が１つの島形状ＶＳＳパターンあたり複数のビア部の配置によってなされる。 - 特許庁

Then, the punctured pattern to a radio transmission line on different transmission sides are made different each other.例文帳に追加

このとき、送信側の異なる無線伝送路向けのパンクチャパターンは、互いに異なるものとなるようにする。 - 特許庁

To form a resist pattern having few defects, an excellent shape, and excellent line edge roughness.例文帳に追加

欠陥が少なく、かつ優れた形状及びラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁

To set the temperature of a hot plate oven so that the line width of a resist pattern is formed uniformly in a wafer surface.例文帳に追加

レジストパターンの線幅がウェハ面内で均一に形成されるように，熱板の温度設定を行う。 - 特許庁

As the design having the counterfeit-proof function, for example, a relief (an embossing pattern) and a line raster are used.例文帳に追加

偽造防止機能を有するデザインとしては、例えば、レリーフ（浮き彫り模様）やラインラスターが採用される。 - 特許庁

By lighting the first light source unit 14, the low-beam light distribution pattern having a cutoff line is formed.例文帳に追加

第１光源ユニット１４の点灯により、カットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁

Sipes 6 are formed in blocks 4 of pattern elements 5L, 5M, and 5S positioned in the same block line.例文帳に追加

同じブロック列に位置する各パターン要素５Ｌ，５Ｍ，５Ｓのブロック４にサイプ６が設けられている。 - 特許庁

This technique can improve the line-end pattern definition and improve the manufacturability and a patterning process window.例文帳に追加

この技術は、配線の端部パターンの形成を改良し、生産性とパターニング工程ウィンドウを改善する。 - 特許庁

The character pattern is given to a character line width calculating part 35, and the width of lines constituting the character.例文帳に追加

文字パターンは文字線幅算出部３５に与えられ、文字を構成する線の幅が算出される。 - 特許庁

To precisely control the line width of a resist pattern in the longitudinal direction of a substrate to be processed, and between substrates to be processed.例文帳に追加

被処理基板の面内及び被処理基板間のレジストパターンの線幅を精度高く制御すること。 - 特許庁

although the line pattern 132 for phase matching provided on the line pattern layer 125 for phase matching is extended around even onto a wire bonding pad layer 122 and a cavity layer 123a provided right below it in conventional constitution, the branching filter of the present invention does not have the line pattern for phase matching extended around.例文帳に追加

従来構成では、位相整合用線路パターン層１２５上に設けられた位相整合用線路パターン１３２が、ワイヤボンディングパッド層１２２およびその直下に設けられているキャビティ層１２３ａ上にも引き回されているのに対して、本発明の分波器ではかかる位相整合用線路パターンの引き回しがない。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of suppressing nonuniformity in the line width of an exposure pattern due to flare.例文帳に追加

フレアによる露光パターンの線幅のばらつきを抑制することができる露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for forming a minutely-processed pattern of a hole or line more easily than the conventional configuration.例文帳に追加

微細化したホール又はラインのパターンを、従来よりも容易に形成する製造方法を提供する。 - 特許庁

When absorbing a component, an absorbing pattern which shows a line of a position of a feeder for supplying a component to be absorbed by each absorbing nozzle of an absorbing head is obtained to form a matrix row depending on a type of the absorbing pattern, which expands the line of the feeder position as a matrix line to the matrix depending on the type of absorbing pattern.例文帳に追加

部品吸着時吸着ヘッドの各吸着ノズルが吸着する部品を供給するフィーダの位置の並びを示す吸着パターンを求め、その種別に応じてマトリックス列を形成し、フィーダ位置をマトリックス行としてフィーダ位置の並びを吸着パターンの種別に応じてマトリックスに展開する。 - 特許庁