「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve products in manufacturing yield by reducing influence of irregularities in a line width of a pattern formed on a reticle so as to form the pattern having a uniform line width on a wafer, in a process of forming a prescribed pattern by transferring a pattern formed on the reticle onto the wafer by the use of photography.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンを写真技術を利用してウェハ上に転写することにより所定のパターンを形成するプロセスにおいて、レチクルに形成されたパターンの線幅のばらつきによる影響を低減することにより、ウェハ上に均一の線幅を有するパターンを形成して製品の歩留まり向上を図る。 - 特許庁

To provide a connector capable of facilitating bonding between a conductor pattern and a terminal and of protecting the bonded portion between the conductor pattern and the terminal from an external force in the connector which connects the conductor pattern formed on the surface of a window plate with a power supply line or a signal line.例文帳に追加

窓板の表面に形成された導体パターンと給電線や信号線との接続を提供するコネクタにおいて、導体パターンと端子との接合を容易ならしめ、導体パターンと端子との接合部を外力から保護し得るコネクタを提供する。 - 特許庁

The pattern of the mask is projected on the photosensitive substrate with an exposure light quantity substantially different from a standard exposure light quantity required for forming a pattern of desired line width on the photosensitive substrate using a standard mask having a pattern of line width same as the converted value.例文帳に追加

換算値に等しい線幅のパターンを有する標準マスクを用いて感光性基板上に所望線幅のパターンを形成するのに必要な標準露光光量とは実質的に異なる露光光量で、マスクのパターンを感光性基板上に投影する。 - 特許庁

A photoresist pattern 1 having reinforcing parts is formed by forming a photoresist film on a substrate and developing the film after exposing the photoresist, wherein the photoresist pattern 1 composed of line parts 2 and reinforcing parts 3 connecting to the line parts and having widths larger than those of the line parts.例文帳に追加

基板上にホトレジスト膜を形成し、該ホトレジスト膜を露光した後、現像処理することによって、ライン部２と、該ライン部に連続しており、前記ライン部の線幅よりも大きい幅を有する補強部３を備えた補強部付ホトレジストパターン１を形成する。 - 特許庁

In a pattern drawing device directly forming a circuit pattern, a measuring plate on which a complete set of line sensors composed of a first line sensor along a secondary scanning direction and a second line sensor along a main scanning direction is disposed is placed on a drawing table in place of a print-circuit board.例文帳に追加

直接回路パターンを形成するパターン描画装置において、プリント基板の代わりに、副走査方向に沿った第１ラインセンサ、主走査方向に沿った第２ラインセンサから構成されるラインセンサ一式を配置した計測板を描画テーブルに設置する。 - 特許庁

The slimming processing method for a resist pattern for performing slimming processing for a resist pattern formed on a substrate comprises a slimming processing process by applying a reacting substance for solubilizing a resist pattern onto the resist pattern, carrying out heat treatment under predetermined heat treatment conditions and executing development processing for resist pattern slimming processing; and a first line width measuring process for measuring the line width of the resist pattern before the slimming processing process.例文帳に追加

基板上に形成したレジストパターンをスリミング処理するレジストパターンのスリミング処理方法において、レジストパターン上にレジストパターンを可溶化する反応物質を塗布し、次に予め決定された熱処理条件で熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程と、スリミング処理工程前にレジストパターンの線幅を測定する第１の線幅測定工程とを含む。 - 特許庁

The curve amount of the image formation line in the main scanning line direction is calculated, on the basis of a mark-pattern formed in three parts different from one another in the main scanning line direction of an intermediate transfer belt 20, and color shift in a subscanning line direction is corrected, on the basis of the curve amount of the image formation line in the main scanning line direction.例文帳に追加

中間転写ベルト２０の主走査線方向の互いに異なる３箇所に形成されたマークパターンに基づいて、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量を算出し、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量に基づき、副走査線方向の色ずれ（レジスト）補正を行う。 - 特許庁

To provide a positive resist composition, from which a pattern having superior pattern strength, hardly causing pattern collapse and having high resolution and low line edge roughness can be formed, and to provide a method for producing a relief pattern and electronic components using the positive resist composition.例文帳に追加

パターン強度に優れ、パターン倒れが起こりにくく、かつ、高解像度で低ラインエッジラフネスのパターンを得ることができるポジ型レジスト組成物、当該ポジ型レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

A first wiring pattern having a line width W and extending in a first direction is generated, and a second wiring pattern having a predetermined angle with the first wiring pattern and extending on the slant is generated so that its end part is overlapped each other with the end part of the first wiring pattern.例文帳に追加

第１方向に延びる線幅がＷの第１配線パターンを生成し、第１配線パターンと所定の角度を成して斜めに延びる第２配線パターンを、その終端部が第１配線パターンの終端部と重なり合うように生成する。 - 特許庁

Thereby, in a fourth interlayer insulation film formed above the data line 6a and the projecting pattern 81, only the parts corresponding to the data line 6a and the projecting pattern 81 are swollen and the other part has a nearly flat shape.例文帳に追加

これにより、データ線６ａ及び凸パターン８１の上方に形成される第４層間絶縁膜は、データ線６ａ及び凸パターン８１の部分のみが盛り上がり、他の部分は略平らな形状を有する。 - 特許庁

The amplified spontaneous light is amplified in the line pattern, and emitted from the end surface of the line pattern.例文帳に追加

基板、および該基板上に載置した、所定の励起光を照射することにより、蛍光を発する＋３価の非対称型希土類イオン錯体を導入した透明マトリックスから成る薄膜を備えたレーザー発振装置を作製する。 - 特許庁

To provide a container decoration method of outputting a hair line pattern image to at least two or more films having different printing colors with the use of luster-image editing software being a personal computer software, and printing the hair line pattern on the container surface.例文帳に追加

パソコンソフトのラスター画像の編集ソフトを用いて、少なくとも２種類以上の異なる印刷色のヘアーライン模様の画像を出力し、容器表面にヘアーライン模様印刷を印刷する容器の加飾方法。 - 特許庁

To provide a development processing method capable of accurately controlling a line width of a second resist pattern in a second development processing of double patterning by LLE and accurately controlling a line width of a first resist pattern as well.例文帳に追加

ＬＬＥによるダブルパターニングの２回目の現像処理において、２回目のレジストパターンの線幅を精度良く制御でき、１回目のレジストパターンの線幅も精度良く制御できる現像処理方法を提供する。 - 特許庁

On the top surfaces of two layers of a line pattern layer 125 for phase matching and a pattern layer/foot pad layer 127 for phase matching, line patterns 132 and 133 for phase matching are formed respectively.例文帳に追加

位相整合用線路パターン層１２５および位相整合用線路パターン層／フットパッド層１２７の２枚の層の各上面にはそれぞれ、位相整合用線路パターン１３２および１３３が形成されている。 - 特許庁

The combination of pattern Y is halted on the effective line when the winning combination is not won during the game state A and the stop switch 42 is pressed in order and the combination of pattern Y is not halted on the effective line when the stop switch is pressed in disorder.例文帳に追加

遊技状態Ａにおいて役の非当選時に、順押しであるときは図柄の組合せＹを有効ラインに停止させ、順押し以外であるときは図柄の組合せＹを有効ラインに停止させない。 - 特許庁

A utility demand pattern generation part 109 generates a time series pattern of utility demand needed for the whole production line based on utility demand amount of the whole production line acquired from the performance of the simulation.例文帳に追加

用役需要パターン生成部１０９は、このシミュレーションを行う中で得られた生産ライン全体の用役需要量に基づき、生産ライン全体が必要とする用役の需要の時系列パターンを生成する。 - 特許庁

Then when a dot-by-dot ON/OFF pattern and a line-by-line ON/OFF pattern are displayed, the voltage of the external capacitor is balanced between a half of the address voltage and the address voltage and the power recovering operation is carried out.例文帳に追加

そして，ドット毎オン／オフパターンやライン毎オン／オフパターンが表示される場合には外部キャパシタの電圧がアドレス電圧の半分とアドレス電圧の間で平衡状態になって電力回収動作が行なわれる。 - 特許庁

A display part 205 reduces inter-character spaces in the line, to which the attribute of inter-character space reduction is given, and acquires a corresponding character pattern stored in a character pattern storage part 207 so as to display it in the end of the line.例文帳に追加

表示部２０５は、文字間短縮の属性が付加されている行の文字間を短縮し、行末に文字パタン記憶部２０７に記憶されている対応する文字パタンを取得して表示することにより実行する。 - 特許庁

The additional light-distribution pattern Pa, Pb are formed on a stepped horizontal cutoff line CL of the base light- distribution pattern Po to alleviate a light and dark ratio between an upper side region and a lower side region of the stepped horizontal cutoff line CL.例文帳に追加

付加配光パターンＰａ、Ｐｂは、ベース配光パターンＰｏの段付き水平カットオフラインＣＬ上に形成し、該段付き水平カットオフラインＣＬの上側領域と下側領域との明暗比を緩和させる。 - 特許庁

When it is judged that the input position is included in any area, the line pattern is automatically switched to a vertical image (S215), and in the other case, the line pattern is switched to a horizontal image and displayed (S213).例文帳に追加

上記いずれかの領域に含まれる場合には、ライン模様を自動的に縦方向の画像に切替え（Ｓ２１５）、上記いずれの領域にも含まれない場合には横方向の画像に切替えて表示する（Ｓ２１３）。 - 特許庁

By using the expanded separating information plane, in a multi-layer separation part 6, the color information of a character line part is separated to a character information plane and image pattern information and background images other than the character line part are separated to an image pattern information plane.例文帳に追加

この膨張分離情報プレーンを用いて多層分離部６にて文字線画部の色情報を文字情報プレーンに、文字線画部以外の絵柄情報と背景画像を絵柄情報プレーンに分離する。 - 特許庁

To provide a diffraction grating pattern in which a smooth profile line regulating the outline of the pattern can be formed approximately to the objective profile line without significantly increasing the manufacturing time and work and which shows no decrease in the chroma.例文帳に追加

作製時間と労力の大幅な増大を招くことなく、目標とする輪郭線に近似させて、外形を規定する輪郭線が滑らかであり、彩度が低下しない回折格子パターンを提供する。 - 特許庁

Thus, a microstrip transmission line 130A having the pattern electrode 13A and a microstrip transmission line 130B having the pattern electrode 13B have different characteristic impedances without changing a pure resistance component.例文帳に追加

これにより、パターン電極１３Ａを有するマイクロストリップ伝送線路１３０Ａと、パターン電極１３Ｂを有するマイクロストリップ伝送線路１３０Ｂとで、純抵抗成分を変化させることなく特性インピーダンスが変化する。 - 特許庁

The measuring instrument comprises a broken line processing means of generating a broken line pattern signal changing the value, and a calculation processing means of inputting an external signal and performing calculation processings on the external signal, by using the broken pattern signal.例文帳に追加

値が変化する折線パターン信号を生成する折線処理手段と、 外部信号を入力し、この外部信号を前記折線パターン信号を用いて演算処理する演算処理手段と、を備える。 - 特許庁

A check point where the necessity of the layer change of a return current route on a solid pattern should be decided is detected from a signal line and the shape of a pattern adjacent to the signal line by a check point detection means 110.例文帳に追加

チェックポイント検出手段１１０により、信号線と信号線に隣接するべたパターンの形状から、べたパターン上のリターン電流ルートの層変更の必要性を判断すべきチェックポイントを検出する。 - 特許庁

The adjustable inductance filter is provided with a filter wiring line with first line width having a first end and a second end, at least one repair pattern with second line width that are arrayed between the first end and the second end of the filter wiring line, and at least one unit filter bank connected in parallel with the repair pattern.例文帳に追加

第１端部及び第２端部を備え、第１線幅を持つフィルタ配線ラインと、フィルタ配線ラインの第１端部と第２端部との間に配列され、第２線幅を持つ少なくとも一つのリペアパターンと、リペアパターンと並列に連結される少なくとも一つの単位フィルタバンクと、を備える調節可能なインダクタンスフィルタ。 - 特許庁

A pattern detecting section 50 detects whether or not a line is a vertical line in a width of one dot based on a target pixel and a pattern of two-bit data of a peripheral pixel adjacent thereto in a main scanning direction and a data converting section 60 converts multi-value data of the pixel forming the vertical line to light emission data so as to enlarge the width of the vertical line.例文帳に追加

パターン検出部５０は注目画素とその主走査方向に隣接する周辺画素の２ビットデータのパターンに基づいて１ドット幅の縦線か否かを検出し、データ変換部６０は縦線の幅が太くなるようにその縦線を構成する画素の多値データを発光データに変換する。 - 特許庁

Further, a colored pattern having an OD value of 2 or more is formed on a line electrode provided side by side with the line electrode of the display-surface side substrate or the electrode wiring line provided side by side with the line electrode of the display-surface side substrate is provided on the colored pattern which is formed on the display-surface side substrate and has the OD value of ≥2.例文帳に追加

また、表示面側基板のライン電極に併設された電極配線の上に、ＯＤ値が２以上の有色パターンを形成するか、表示面側基板のライン電極に併設された電極配線が、表示面側基板に形成されたＯＤ値が２以上の有色パターンの上に設けられたものである。 - 特許庁

To provide an exposure method, or the like, for easily forming an exposure pattern with a line width in a sub-micron size using a photoresist for g-line and i-line by using a solid laser or a gas laser which is inexpensive and stable as an exposure light source.例文帳に追加

安価で安定性のある個体レーザやガスレーザを露光光源として使用し、ｇ線用、ｉ線用のフォトレジストを使用して、簡便にサブミクロンサイズの線幅の露光パターンを形成する。 - 特許庁

Subsequently, the pattern measurement apparatus maps a basic shape to the image border line (step S304), and obtains a position of a measurement border line using the normal vector corresponding to the basic shape mapped to the image border line (step S305).例文帳に追加

次に、画像輪郭線に基本形状をマッピングし（ステップＳ３０４）、画像輪郭線にマッピングされた基本形状に対応する法線ベクトルを用いて測長輪郭線の位置を求める（ステップＳ３０５）。 - 特許庁

To provide a top rod with an outer guide hardly coiled with a line and facilitating the unwinding of the line even if the line coils around by devising the twisted direction of helical streak pattern carved on the surface of the top rod.例文帳に追加

穂先竿の表面に刻設される螺旋状の条痕の捩じれ方向に工夫を凝らすことによって、巻き付き難くかつ巻き付いても解け易い外ガイド付き穂先竿を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that word line and data line ends are short-circuited or broken at boundary parts between a memory array and a sub-word driver or a sense amplifier due to interference of diffracted light generated at a pattern end part when a fine word line and a data line having a line width less than a wavelength are patterned in a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決する。 - 特許庁

An output control circuit 21 converts a matching error data pattern to the corresponding normal data pattern by comparing sent-out data inputted to a buffer 18 with error pattern data in the pattern memory 17 by a pattern check circuit 19 and sends them from a data output signal line 25, and also sends a control signal indicating that from a control signal line 26 at the same time.例文帳に追加

出力制御回路２１は、パターンチェック回路１９によるバッファ１８に入力された送出データとパターンメモリ１７内のエラーデータパターンとの比較により、一致したエラーデータパターンを、対応した正常データパターンに変換してデータ出力信号線２５から送出すると共にその旨を表す制御信号も同時に制御信号線２６から送出する。 - 特許庁

Further, the contact member CP1 is disposed on the selective gate line SGSL where the EI pattern is not formed.例文帳に追加

さらに、コンタクト材ＣＰ１は、ＥＩパターンが配置されていない選択ゲート線ＳＧＳＬ上に配置されている。 - 特許庁

To perform high-speed multi-class classification by mapping a data pattern on an independent section of a number line.例文帳に追加

データパターンを数直線の独立区間に写像して多値分類を高速に訓練し、高速に分類を行うこと。 - 特許庁

The first and the second semi-dense line patterns are positioned at an alternate position, and provide a desired dense pattern of lines and spaces.例文帳に追加

第１および第２の半密ラインパターンは、交互位置に配置され、ラインアンドスペースの所望の密パターンをもたらす。 - 特許庁

To solve the following problem: it is difficult to form in high precision a cut-off line of light distribution pattern in a conventional vehicle lamp.例文帳に追加

従来の車両用灯具では、配光パターンのカットオフラインを高精度に形成することが難しい。 - 特許庁

Furthermore, a fine-pitch interconnect line pattern board which is comparatively expensive can be reduced in size to an irreducible minimum.例文帳に追加

さらに、比較的高コストとなる狭ピッチ配線パターンの基板を必要最小限の大きさにすることができる。 - 特許庁

To provide a method for separating a pattern image area and a character / line drawing area of a dotted image with high accuracy.例文帳に追加

網点化画像の絵柄画像領域と文字・線画領域とを高精度に分離する方法を提供する。 - 特許庁

Right and left light fittings 30 irradiate regions which include an upper part from the cutoff line of a luminous intensity distribution pattern for low beams.例文帳に追加

左右の灯具３０は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方を含む領域を照射する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition that allows formation of a pattern having a good shape and line edge roughness.例文帳に追加

形状及びラインエッジラフネスが良好なパターンを形成できるレジスト組成物フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

On a data transmission line 106, the print data and the enciphered fingerprint pattern are sent from a computer to the printer.例文帳に追加

１０６はデータ電送路であり、コンピュータからプリンタに、プリントデータおよび、暗号化された指紋パターンが送られる。 - 特許庁

To provide a pattern correction device for easily correcting a wiring line which does not exist on a wiring grid.例文帳に追加

配線格子上に無い配線を容易に修正することのできるパターン修正装置を提供すること。 - 特許庁

Data is written so that a reversed data pattern is stored in a spare word line before address conversion and after address conversion.例文帳に追加

アドレス変換前および変換後のスペアワード線には逆のデータパターンが格納されるようにデータを書込む。 - 特許庁

A transmission device A11 has a function of outputting data after outputting a clock pattern to a data line 13.例文帳に追加

送信デバイスＡ１１はデータ線１３上にクロックパターンを出力した後、データを出力する機能を備える。 - 特許庁