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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > line patternの意味・解説 > line patternに関連した英語例文

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line patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3472



例文

To achieve high-precision finishing by adjusting variations in the finishing of the width of a pattern line caused by the thickness of copper foil, or the like for forming a pattern.例文帳に追加

銅箔厚などによるパターン線の線幅の仕上がりのばらつきを調整して、パターンを形成することで精度の高い仕上がりにする。 - 特許庁

To suppress disconnection of a wiring line and losing pattern width by preventing lack of a print resist pattern occurring in a level difference section and by filling a gap.例文帳に追加

段差部などに生じた印刷レジストパターンの欠落を防止し空隙を埋め、配線の断線やパターンの細りなどを抑制することにある。 - 特許庁

To solve a problem that a conventional vehicular lighting tool can not obtain a main light-distribution pattern with a cut-off line and a sub light-distribution pattern of a beam-convergent type.例文帳に追加

従来の車両用灯具では、カットオフラインを有するメイン配光パターンと集光タイプのサブ配光パターンとを得ることができない。 - 特許庁

To detect an inclined weld line, a weld line of a circular arc, a weld line free from external illumination, etc., a weld line having higher detection precision than that of a pattern matching, etc.例文帳に追加

角度の付いた溶接ラインの検出や、円弧部分の溶接ラインの検出や、外部の照明等の影響を受けにくい溶接ラインの検出や、パターンマッチングなどより検出精度の高い溶接ラインの検出を可能とする。 - 特許庁

例文

When a pattern change notice performance is executed, a change pattern different in display mode from the numerical pattern is variably displayed on each line in place of the numerical pattern, and the change patterns are displayed in a suspension state once on right and left lines constituting the ready-to-win pattern combination, respectively.例文帳に追加

そして、図柄変化予告演出が実行される場合、数字図柄に代えて、各列に数字図柄とは表示態様の異なる変化図柄が変動表示され、リーチの図柄組み合わせを構成する左列と右列に変化図柄を一旦停止表示させる。 - 特許庁


例文

In the pattern forming method for forming a transfer pattern for a design pattern by performing lithographic processing, the line width measuring position of the design pattern is extracted on the basis of a previously set condition and a length measuring position recognition pattern is added to the extracted position (ST101).例文帳に追加

リソグラフィ処理を行うことで設計パターンの転写パターンを形成するパターン形成方法において、予め設定された条件に基づいて設計パターンにおける線幅測長箇所を抽出し、抽出箇所に測長箇所認識パターンを追加する(ST101)。 - 特許庁

To provide a device and a method for computing approximation bending line of an operation pattern, which accurately perform automatic computing of an approximation bending line of an operation pattern based on a result of measurement of the operation pattern of an index value of a requested driving force of a vehicle.例文帳に追加

車両の要求駆動力の指標値の操作パターンの測定結果からの同操作パターンの近似屈曲線の自動演算を的確に行うことのできる操作パターンの近似屈曲線演算装置及び演算方法を提供する。 - 特許庁

The second electrode pattern 16 is provided with a pull-out part 17b pulled out to the first reference line L1 toward the second reference line L2.例文帳に追加

第2の電極パターン16は、第2の基準線L2に向かって第1の基準線L1まで引き出された引き出し部17bを有する。 - 特許庁

A pattern of a memory region selected by specifying a word line mode by a word line mode control circuit (106) in a memory array (101) is changed.例文帳に追加

ワード線モード制御回路(106)によるワード線モード指定により、メモリアレイ(101)において選択されるメモリ領域のパターンを変更する。 - 特許庁

例文

To provide a line head which enables the easy creation of a pattern for detecting the inclination of the line head, and an image forming apparatus using it.例文帳に追加

ラインヘッドの傾き検出用パターンの作成を簡単に行うことができる、ラインヘッドおよびそれを用いた画像形成装置の提供。 - 特許庁

例文

The mask 8 is provided with an opening having an exposure margin of 0.5-1.0 times of the line width in the line width direction of the resist pattern 7.例文帳に追加

マスク8は、レジストパターン7の線幅方向に、この線幅の0.5倍以上1.0倍以下の寸法の露光マージンを有する開口部を備える。 - 特許庁

Four sidewalls of the quantum dot 21 and a sidewall of the line pattern 29 in a direction parallel to the bit line are covered with a thermally oxidized film 33.例文帳に追加

量子ドット21の4つの側壁と、ラインパターン29のビット線に平行な方向における側壁は、熱酸化膜33で覆われている。 - 特許庁

Also, on the valid line L including the valid line L2, the pattern combination composed of the pattern '7' displayed in the display area H1 and the patterns displayed in the display areas H2 and H3 is recognized.例文帳に追加

また、有効ラインL2を含む有効ラインLでは、表示領域H1に表示された図柄「7」と表示領域H2,H3に表示される図柄で構成される図柄パターンが認識される。 - 特許庁

Projection images which are formed by repeatedly using a pixel group on a horizontal line for every individually different horizontal line in the pattern image, are input to a projection part 207 in the transmission period of the pattern image.例文帳に追加

パターン画像の送信周期内に、パターン画像におけるそれぞれ異なる水平ラインごとに、該水平ライン上の画素群を繰り返し用いて形成される投影画像を投影部207に入力する。 - 特許庁

To provide a pattern manufacturing system for suppressing irregularity from occurring on line width of a pattern line by irregularity of thickness of a conductor formed on a substrate, and to provide an exposure device and an exposure method.例文帳に追加

基板上に形成する導体の厚さのばらつきによりパターン線の線幅にばらつきが生じるのを抑えることができるパターン製造システム、露光装置、及び露光方法を提供する。 - 特許庁

The line pattern of each measurement mark region is disposed in such a manner that each line pattern does not overlap other patterns when the shots are transferred onto the substrate with each mark region completely overlaps others.例文帳に追加

各測定マーク領域のラインパターンは、各マーク領域が完全に重なる状態で基板上に転写されたときに、各ラインパターンが互いに重なることのない状態に配置されている。 - 特許庁

Secondly, the metal plate is heated and applied with the gas or liquid pressure in several stages to be tightly pressed against the surface of the forming die, and the first fine line pattern is pressed to obtain a second fine-line pattern.例文帳に追加

次に金属板を加熱して多段的に気圧または液圧をかけ、金属板を成形型の表面に密着させて成形するとともに、第一細線を押印して第二細線を取得する。 - 特許庁

Each line pattern is imaged to obliquely cross at a predetermined angle to acquire a plurality of profile graphs indicating the variation of image signal values of a one-dimensional pixel row crossing each line pattern from the picked-up image.例文帳に追加

各ラインパターンを所定の角度で斜めに横切るように撮像し、当該撮像画像から各ラインパターンを横切る1次元画素列の画像信号値の変動を表すプロファイルブラフを複数取得する。 - 特許庁

To permit a game player to easily recognize position information with respect to the stop line of a pattern by providing another display means in addition to a means for directly displaying the pattern of each drum (rotary body) concerning the stop line.例文帳に追加

各ドラム(回胴)の図柄が停止ラインに対して直接表示されるものに加えて、別の表示手段を設け、容易に遊技者に図柄の停止ラインに対する位置情報を認識させる。 - 特許庁

By this setup, the line width of the resist pattern is predicted by the use of the above function models, a feed forward control can be realized, and the line width of the resist pattern and the thickness of the resist film can be controlled with high accuracy.例文帳に追加

これにより、上記関数モデルによって、例えば線幅を予測することによりフィードフォワード制御が可能となり、精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for forming a fine line pattern particularly even when the space width of a line-and-space pattern is wide and excellent also in transparency, sensitivity and resolution to radiation.例文帳に追加

特に、ライン・アンド・スペースパターンのスペース幅が広い場合にも、微細なラインパターンを形成でき、しかも放射線に対する透明性、感度、解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the slot machine 1, when a combination of symbols corresponding to a bonus pattern along a prize winning line, a combination of symbols corresponding to a specific small prize pattern is displayed along another prize winning line.例文帳に追加

スロットマシン1では、いずれかの入賞ラインに沿ってボーナス役に対応する図柄組合せが表示される場合には、特定小役に対応する図柄組合せが他の入賞ラインに沿って表示される。 - 特許庁

A second input port (24) and a second output port (25) are electromagnetically coupled to the resonance pattern at two cross points between the second virtual straight line and the outer circumference line of the resonance pattern, respectively.例文帳に追加

第2の仮想直線と、共振パターンの外周線との2つの交差箇所において、それぞれ第2の入力ポート(24)及び第2の出力ポート(25)が、共振パターンと電磁気的に結合する。 - 特許庁

A first input port (22) and a first output port (23) are electromagnetically coupled to the resonance pattern at two cross points between the first virtual straight line and an outer circumference line of the resonance pattern, respectively.例文帳に追加

第1の仮想直線と、共振パターンの外周線との2つの交差箇所において、それぞれ第1の入力ポート(22)及び第1の出力ポート(23)が、共振パターンと電磁気的に結合する。 - 特許庁

To form an accurate upper electrode extraction line by eliminating deformation of a mask pattern by forming a film forming mask for the upper electrode extraction line in a luminescent display device with a stable pattern shape.例文帳に追加

発光表示装置における上部電極引き出し線の成膜用マスクを安定したパターン形状で構成し、マスクパターンの変形を無くすことで精度の高い上部電極引き出し線を形成する。 - 特許庁

Exposure value of a substrate is controlled to such a level as the resist image of a line pattern is resolved, in other words, to such a level as the contrast value of the resist image of a line pattern has a predetermined value or above.例文帳に追加

基板の露光量をラインパターンのレジスト像が解像する露光量以上になる大きさ、換言すれば、ラインパターンのレジスト像のコントラスト値が所定値以上になる大きさに制御する。 - 特許庁

Since the first pattern 201 to the third pattern 203 where the high frequency current is generated are formed apart from an AC power source line 82, propagation of the high frequency noise to the power source line can be prevented.例文帳に追加

高周波電流の発生する第1パターン201〜第3パターン203をAC電源ライン82から離れた位置に形成することで、高周波ノイズの電源ラインへの伝搬を防止できる。 - 特許庁

Then, on the valid line L including the valid line L1, a pattern combination composed of the pattern '6' displayed in the display are H1 and the patterns displayed in the display areas H2 and H3 is recognized.例文帳に追加

そして、有効ラインL1を含む有効ラインLでは、表示領域H1に表示された図柄「6」と表示領域H2,H3に表示される図柄で構成される図柄パターンが認識される。 - 特許庁

Thus, with respect to a prize winning line L2 or L3, in the case that stop operation is performed when the BB2 pattern is placed on the N2 frame, it is possible to draw the BB2 pattern into a prescribed line in isolation.例文帳に追加

これにより、入賞ラインL2またはL3に対し、BB2図柄がN2駒上に位置するときに停止操作を行えば、BB2図柄を単独で所定のラインに引き込むことが可能になる。 - 特許庁

Respective wiring patterns of the signal line and the scanning line are extended near the terminal pattern and are electrically connected to the terminal pattern via an ITO film 215, made of the same base as that of a pixel electrode.例文帳に追加

信号線、走査線の配線パターンはそれぞれ上記端子パターンの近傍まで延伸され、画素電極と同一基材のITO膜215を介して、上記端子パターンと電気的に接続される。 - 特許庁

The board 11 includes a wiring pattern of a high-speed digital signal line 14 and the like, a land pattern, a via hole conductor and the like, and the semiconductor IC chip 12 is connected to the high-speed digital signal line 14.例文帳に追加

基板11は、高速デジタル信号ライン14等の配線パターン、ランドパターン、ビアホール導体等を含んでおり、半導体ICチップ12は高速デジタル信号ライン14に接続されている。 - 特許庁

The signal pattern detection circuit is provided with the first filter circuit 111 corresponding to a part sign line A as a factor of a spreading code line, and the second filter circuit 112 corresponding to a part sign line B.例文帳に追加

拡散符号列の要素としての部分符号列Aに対応する第1フィルタ回路111と部分符号列Bに対応する第2フィルタ回路112とを備えている。 - 特許庁

For example, a control of a trimming amount of the line width of the photoresist 105b is performed so that the line width of the photoresist 105b may be the same as the line width of the mask pattern constituted by the SiO_2 layer 103.例文帳に追加

例えば、フォトレジスト105bの線幅が、SiO_2層103からなるマスクパターンの線幅と同一になるようにフォトレジスト105bの線幅のトリミング量の制御を行う。 - 特許庁

Consequently, the scanning range in the main scanning direction is fluctuated, a boundary line L1 of the partial pattern doesn't become a straight line shape, and the shear of the exposure patterns is prevented from standing in the shape of the line.例文帳に追加

これにより主走査方向の走査範囲が変動して部分パターンの境界線L1が一直線状にならず、露光パターンのズレが筋状に連なることを防止する。 - 特許庁

The line includes the equal-resistance part in a zigzag pattern and then the actual length of the line is longer than a lengthwise straight distance or the line is different in width from other parts.例文帳に追加

等抵抗部では、配線がジグザグパターンを描くことにより配線の実際の長さが長手方向の直線距離より大きく、または配線の幅が他の部分の幅とは異なる。 - 特許庁

Also, line impedance with the same pattern width matches by making the tester board substrate 101 a film substrate with the same material and thickness as the film substrate 70 and a phase difference is eliminated by mutually equalizing line lengths of the line pattern on the substrate 70.例文帳に追加

またテスタボード基板101をフィルム基板70と同じ材質で同じ厚みのフィルム基板にすることで、同一のパターン幅で線路のインピーダンスを合わせ、さらにフィルム基板70上線路パターンの線路長を互いに等しくして位相差を無くす。 - 特許庁

The slot machine includes a stop control means for controlling the stop of a rotary reel, and an effective line pattern determination means for determining on which effective line a shift pattern combination is displayed or if it is not displayed on any effective line.例文帳に追加

スロットマシンは、回転リールの停止制御を行う停止制御手段と、移行図柄組み合わせをいずれの有効ラインに表示しているか、又はいずれの有効ラインにも表示していないかを判定する有効ライン図柄判定手段と、を備える。 - 特許庁

To provide a method for forming a line pattern from an original mask by a proximity exposure method in which the width of a line pattern in a black matrix or black stripes can be decreased to around a 6 μm line width by a PB (post baking) processing.例文帳に追加

近接露光方法による原版マスクからのラインパターン形成方法において、ブラックマトリクスあるいはブラックストライプのラインパターンの幅をPB処理において6μmレベル線幅と微細化して形成することができるパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern inspecting method for electron beam exposure, with which a position relation between a first complementary pattern and a second complementary pattern, which are formed by dividing an original mask pattern for electron beam exposure, by a cut line, is inspected on a computer.例文帳に追加

元の電子線露光用マスクパターンを切断線で分割して形成した第1の相補パターン及び第2の相補パターンの位置関係を計算機上で検査することができる電子線露光用マスクパターン検査方法を得る。 - 特許庁

To provide a metal pattern forming method that forms a metal pattern by electroless plating technique, the method forming a pattern excellent in adhesion to a substrate and excellent in a fine line drawing property, and to provided the metal pattern formed by using the method.例文帳に追加

無電解めっき技術で金属パターンを形成する方法において基板との密着性が優れ、且つ細線描画性の優れた金属パターン形成方法とそれを用いて形成された金属パターンを提供することである。 - 特許庁

To provide a composition for nano imprint excellent in pattern formability and mold releasability, can form a good pattern, and give a pattern after the etching that is small in line edge roughness, and to provide a pattern and a patterning method using this.例文帳に追加

パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The third conductive pattern has a small line width that can be removed by etching, and can be disposed in a region where the conductive pattern is not formed, and thereby, the third conductive pattern can prevent dielectric breakdown caused by discharge between figure patterns when the mask pattern is charged.例文帳に追加

第3導電性パターンはエッチングで除去可能な細い線幅を有し、導体パターンが形成されない領域に配置できるため、マスクパターンの帯電時に図形パターン間の放電による静電破壊を防止可能となる。 - 特許庁

A mask pattern having a line width below a stipulated value is selected from mask patterns each projecting from an element region, the distance from the selected mask pattern to an adjacent pattern is calculated and the mask pattern is corrected corresponding to the distance.例文帳に追加

素子領域から突き出すマスクパターンのうち規定値以下になる線幅を有するマスクパターンが選択された後、このマスクパターンに隣り合うパターンまでの距離が算出され、この距離に応じてマスクパターンに補正が施される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのLWRに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅45nm以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

Further, the circuit pattern 8 of the power supply line of the integrated circuit 11 for electrically connecting a hole-type bypass capacitor 12, and the circuit pattern 9 of a ground line may be formed in any pattern layer, the flexibility of the design of the circuit pattern in the printed-wiring board 1 is increased, and the cost of the design of the circuit pattern is suppressed.例文帳に追加

また、バイパスコンデンサであるホール型コンデンサ12を電気的に接続する集積回路11の電源ラインの回路パターン8と、グランドラインの回路パターン9については、どのパターン層に形成してもよいので、プリント配線基板1における回路パターンの設計の自由度が増し、回路パターンの設計にかかるコストが抑えられる。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and realizing formation of an accurate pattern free from variation in line width, a chip and disconnection, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、線幅のバラツキや欠け、断線のない正確なパターン形成が可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Next, the sub-field, where the area rate is minimum, including the pattern element of minimum line width is selected, and a non-pattern part area rate thereof is defined as a minimum area rate.例文帳に追加

次に、面積率が最小で且つ最小線幅のパターン要素を含むサブフィールド20を選択し、その非パターン部面積率を最小面積率と定める。 - 特許庁

A division region is set in a mask pattern, and a virtual line perpendicular to the pattern is set as a second positioning mark in each division region.例文帳に追加

マスタパターン中に分割領域を設定し、パターンと直交する仮想のラインを第2の位置決めマークとして設定することを分割領域毎に行う。 - 特許庁

The bent part and crossing part (F71, F72 and F73) of the line segment of a character pattern after nonlinear normalization are detected by the direction change of a character pattern contour.例文帳に追加

非線形正規化後の文字パターンの線分の屈曲個所や交差個所(F71、F72、F73)を、文字パターン輪郭の方向変化で検出する。 - 特許庁

例文

To achieve a coating pattern size measurement apparatus for which the influence of path line variation can be minimized and which can flexibly cope with the coating pattern and be downsized.例文帳に追加

パスライン変動の影響を最小限とし、塗工パターンに柔軟に対応できると共に、小型化できる塗工パターン寸法測定装置を実現する。 - 特許庁




  
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