「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

In the inspection stage, the inspection region 35 of the pattern 30 for inspection is measured to inspect line widths and misalignment of the main pattern.例文帳に追加

検査工程では、検査用パターン３０の検査領域３５を計測することにより、主パターンにおける線幅とアライメントずれとを検査する。 - 特許庁

After the ion implantation, a thickness of the resist film is measured using an ellipsometer by selecting a part on a scribe line, a large-pattern portion, etc., of the resist pattern.例文帳に追加

イオン注入後、レジストパターンのうちスクライブ線上やパターンの大きなところなどを選択してエリプソメーターでレジスト膜厚を測定する。 - 特許庁

To provide an exposure system for forming a circuit pattern of a first direction and a line/space circuit pattern of a second direction through only one exposure.例文帳に追加

第１の方向の回路パターン及び第２の方向のライン／スペース回路パターンを一回の露光に形成するための露光システムを提供する。 - 特許庁

To keep the detection capacity of the flaw on a semiconductor pattern even if the line width and pitch of the semiconductor pattern become the wavelength of inspection light or below.例文帳に追加

半導体パターンの線幅、ピッチが検査光の波長以下になっても半導体パターン上の欠陥の検出能力を維持すること。 - 特許庁

To form a high-accuracy pattern so that a residual film of a photosensitive material may not be generated on a joint of the pattern on a boundary line of a scanning band.例文帳に追加

走査バンドの境界線上におけるパターンのつなぎ目に感光材料の残膜が生じないように、高精度のパターンを形成する。 - 特許庁

To achieve high-precision finishing by adjusting variations in the finishing of the width of a pattern line caused by the thickness of copper foil, or the like for forming a pattern.例文帳に追加

銅箔厚などによるパターン線の線幅の仕上がりのばらつきを調整して、パターンを形成することで精度の高い仕上がりにする。 - 特許庁

To suppress disconnection of a wiring line and losing pattern width by preventing lack of a print resist pattern occurring in a level difference section and by filling a gap.例文帳に追加

段差部などに生じた印刷レジストパターンの欠落を防止し空隙を埋め、配線の断線やパターンの細りなどを抑制することにある。 - 特許庁

To solve a problem that a conventional vehicular lighting tool can not obtain a main light-distribution pattern with a cut-off line and a sub light-distribution pattern of a beam-convergent type.例文帳に追加

従来の車両用灯具では、カットオフラインを有するメイン配光パターンと集光タイプのサブ配光パターンとを得ることができない。 - 特許庁

To detect an inclined weld line, a weld line of a circular arc, a weld line free from external illumination, etc., a weld line having higher detection precision than that of a pattern matching, etc.例文帳に追加

角度の付いた溶接ラインの検出や、円弧部分の溶接ラインの検出や、外部の照明等の影響を受けにくい溶接ラインの検出や、パターンマッチングなどより検出精度の高い溶接ラインの検出を可能とする。 - 特許庁

When a pattern change notice performance is executed, a change pattern different in display mode from the numerical pattern is variably displayed on each line in place of the numerical pattern, and the change patterns are displayed in a suspension state once on right and left lines constituting the ready-to-win pattern combination, respectively.例文帳に追加

そして、図柄変化予告演出が実行される場合、数字図柄に代えて、各列に数字図柄とは表示態様の異なる変化図柄が変動表示され、リーチの図柄組み合わせを構成する左列と右列に変化図柄を一旦停止表示させる。 - 特許庁

In the pattern forming method for forming a transfer pattern for a design pattern by performing lithographic processing, the line width measuring position of the design pattern is extracted on the basis of a previously set condition and a length measuring position recognition pattern is added to the extracted position (ST101).例文帳に追加

リソグラフィ処理を行うことで設計パターンの転写パターンを形成するパターン形成方法において、予め設定された条件に基づいて設計パターンにおける線幅測長箇所を抽出し、抽出箇所に測長箇所認識パターンを追加する（ST101）。 - 特許庁

To provide a device and a method for computing approximation bending line of an operation pattern, which accurately perform automatic computing of an approximation bending line of an operation pattern based on a result of measurement of the operation pattern of an index value of a requested driving force of a vehicle.例文帳に追加

車両の要求駆動力の指標値の操作パターンの測定結果からの同操作パターンの近似屈曲線の自動演算を的確に行うことのできる操作パターンの近似屈曲線演算装置及び演算方法を提供する。 - 特許庁

The second electrode pattern 16 is provided with a pull-out part 17b pulled out to the first reference line L1 toward the second reference line L2.例文帳に追加

第２の電極パターン１６は、第２の基準線Ｌ２に向かって第１の基準線Ｌ１まで引き出された引き出し部１７ｂを有する。 - 特許庁

A pattern of a memory region selected by specifying a word line mode by a word line mode control circuit (106) in a memory array (101) is changed.例文帳に追加

ワード線モード制御回路（１０６）によるワード線モード指定により、メモリアレイ（１０１）において選択されるメモリ領域のパターンを変更する。 - 特許庁

To provide a line head which enables the easy creation of a pattern for detecting the inclination of the line head, and an image forming apparatus using it.例文帳に追加

ラインヘッドの傾き検出用パターンの作成を簡単に行うことができる、ラインヘッドおよびそれを用いた画像形成装置の提供。 - 特許庁

The mask 8 is provided with an opening having an exposure margin of 0.5-1.0 times of the line width in the line width direction of the resist pattern 7.例文帳に追加

マスク８は、レジストパターン７の線幅方向に、この線幅の０．５倍以上１．０倍以下の寸法の露光マージンを有する開口部を備える。 - 特許庁

Four sidewalls of the quantum dot 21 and a sidewall of the line pattern 29 in a direction parallel to the bit line are covered with a thermally oxidized film 33.例文帳に追加

量子ドット２１の４つの側壁と、ラインパターン２９のビット線に平行な方向における側壁は、熱酸化膜３３で覆われている。 - 特許庁

Each line pattern is imaged to obliquely cross at a predetermined angle to acquire a plurality of profile graphs indicating the variation of image signal values of a one-dimensional pixel row crossing each line pattern from the picked-up image.例文帳に追加

各ラインパターンを所定の角度で斜めに横切るように撮像し、当該撮像画像から各ラインパターンを横切る１次元画素列の画像信号値の変動を表すプロファイルブラフを複数取得する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for forming a fine line pattern particularly even when the space width of a line-and-space pattern is wide and excellent also in transparency, sensitivity and resolution to radiation.例文帳に追加

特に、ライン・アンド・スペースパターンのスペース幅が広い場合にも、微細なラインパターンを形成でき、しかも放射線に対する透明性、感度、解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The line pattern of each measurement mark region is disposed in such a manner that each line pattern does not overlap other patterns when the shots are transferred onto the substrate with each mark region completely overlaps others.例文帳に追加

各測定マーク領域のラインパターンは、各マーク領域が完全に重なる状態で基板上に転写されたときに、各ラインパターンが互いに重なることのない状態に配置されている。 - 特許庁

In the slot machine 1, when a combination of symbols corresponding to a bonus pattern along a prize winning line, a combination of symbols corresponding to a specific small prize pattern is displayed along another prize winning line.例文帳に追加

スロットマシン１では、いずれかの入賞ラインに沿ってボーナス役に対応する図柄組合せが表示される場合には、特定小役に対応する図柄組合せが他の入賞ラインに沿って表示される。 - 特許庁

A second input port (24) and a second output port (25) are electromagnetically coupled to the resonance pattern at two cross points between the second virtual straight line and the outer circumference line of the resonance pattern, respectively.例文帳に追加

第２の仮想直線と、共振パターンの外周線との２つの交差箇所において、それぞれ第２の入力ポート(24)及び第２の出力ポート(25)が、共振パターンと電磁気的に結合する。 - 特許庁

A first input port (22) and a first output port (23) are electromagnetically coupled to the resonance pattern at two cross points between the first virtual straight line and an outer circumference line of the resonance pattern, respectively.例文帳に追加

第１の仮想直線と、共振パターンの外周線との２つの交差箇所において、それぞれ第１の入力ポート(22)及び第１の出力ポート(23)が、共振パターンと電磁気的に結合する。 - 特許庁

Secondly, the metal plate is heated and applied with the gas or liquid pressure in several stages to be tightly pressed against the surface of the forming die, and the first fine line pattern is pressed to obtain a second fine-line pattern.例文帳に追加

次に金属板を加熱して多段的に気圧または液圧をかけ、金属板を成形型の表面に密着させて成形するとともに、第一細線を押印して第二細線を取得する。 - 特許庁

Thus, with respect to a prize winning line L2 or L3, in the case that stop operation is performed when the BB2 pattern is placed on the N2 frame, it is possible to draw the BB2 pattern into a prescribed line in isolation.例文帳に追加

これにより、入賞ラインＬ２またはＬ３に対し、ＢＢ２図柄がＮ２駒上に位置するときに停止操作を行えば、ＢＢ２図柄を単独で所定のラインに引き込むことが可能になる。 - 特許庁

Respective wiring patterns of the signal line and the scanning line are extended near the terminal pattern and are electrically connected to the terminal pattern via an ITO film 215, made of the same base as that of a pixel electrode.例文帳に追加

信号線、走査線の配線パターンはそれぞれ上記端子パターンの近傍まで延伸され、画素電極と同一基材のＩＴＯ膜２１５を介して、上記端子パターンと電気的に接続される。 - 特許庁

To form an accurate upper electrode extraction line by eliminating deformation of a mask pattern by forming a film forming mask for the upper electrode extraction line in a luminescent display device with a stable pattern shape.例文帳に追加

発光表示装置における上部電極引き出し線の成膜用マスクを安定したパターン形状で構成し、マスクパターンの変形を無くすことで精度の高い上部電極引き出し線を形成する。 - 特許庁

Also, on the valid line L including the valid line L2, the pattern combination composed of the pattern '7' displayed in the display area H1 and the patterns displayed in the display areas H2 and H3 is recognized.例文帳に追加

また、有効ラインＬ２を含む有効ラインＬでは、表示領域Ｈ１に表示された図柄「７」と表示領域Ｈ２，Ｈ３に表示される図柄で構成される図柄パターンが認識される。 - 特許庁

Exposure value of a substrate is controlled to such a level as the resist image of a line pattern is resolved, in other words, to such a level as the contrast value of the resist image of a line pattern has a predetermined value or above.例文帳に追加

基板の露光量をラインパターンのレジスト像が解像する露光量以上になる大きさ、換言すれば、ラインパターンのレジスト像のコントラスト値が所定値以上になる大きさに制御する。 - 特許庁

Since the first pattern 201 to the third pattern 203 where the high frequency current is generated are formed apart from an AC power source line 82, propagation of the high frequency noise to the power source line can be prevented.例文帳に追加

高周波電流の発生する第１パターン２０１〜第３パターン２０３をＡＣ電源ライン８２から離れた位置に形成することで、高周波ノイズの電源ラインへの伝搬を防止できる。 - 特許庁

Then, on the valid line L including the valid line L1, a pattern combination composed of the pattern '6' displayed in the display are H1 and the patterns displayed in the display areas H2 and H3 is recognized.例文帳に追加

そして、有効ラインＬ１を含む有効ラインＬでは、表示領域Ｈ１に表示された図柄「６」と表示領域Ｈ２，Ｈ３に表示される図柄で構成される図柄パターンが認識される。 - 特許庁

Projection images which are formed by repeatedly using a pixel group on a horizontal line for every individually different horizontal line in the pattern image, are input to a projection part 207 in the transmission period of the pattern image.例文帳に追加

パターン画像の送信周期内に、パターン画像におけるそれぞれ異なる水平ラインごとに、該水平ライン上の画素群を繰り返し用いて形成される投影画像を投影部２０７に入力する。 - 特許庁

To provide a pattern manufacturing system for suppressing irregularity from occurring on line width of a pattern line by irregularity of thickness of a conductor formed on a substrate, and to provide an exposure device and an exposure method.例文帳に追加

基板上に形成する導体の厚さのばらつきによりパターン線の線幅にばらつきが生じるのを抑えることができるパターン製造システム、露光装置、及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To permit a game player to easily recognize position information with respect to the stop line of a pattern by providing another display means in addition to a means for directly displaying the pattern of each drum (rotary body) concerning the stop line.例文帳に追加

各ドラム（回胴）の図柄が停止ラインに対して直接表示されるものに加えて、別の表示手段を設け、容易に遊技者に図柄の停止ラインに対する位置情報を認識させる。 - 特許庁

By this setup, the line width of the resist pattern is predicted by the use of the above function models, a feed forward control can be realized, and the line width of the resist pattern and the thickness of the resist film can be controlled with high accuracy.例文帳に追加

これにより、上記関数モデルによって、例えば線幅を予測することによりフィードフォワード制御が可能となり、精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる。 - 特許庁

The board 11 includes a wiring pattern of a high-speed digital signal line 14 and the like, a land pattern, a via hole conductor and the like, and the semiconductor IC chip 12 is connected to the high-speed digital signal line 14.例文帳に追加

基板１１は、高速デジタル信号ライン１４等の配線パターン、ランドパターン、ビアホール導体等を含んでおり、半導体ＩＣチップ１２は高速デジタル信号ライン１４に接続されている。 - 特許庁

The signal pattern detection circuit is provided with the first filter circuit 111 corresponding to a part sign line A as a factor of a spreading code line, and the second filter circuit 112 corresponding to a part sign line B.例文帳に追加

拡散符号列の要素としての部分符号列Ａに対応する第１フィルタ回路１１１と部分符号列Ｂに対応する第２フィルタ回路１１２とを備えている。 - 特許庁

For example, a control of a trimming amount of the line width of the photoresist 105b is performed so that the line width of the photoresist 105b may be the same as the line width of the mask pattern constituted by the SiO_2 layer 103.例文帳に追加

例えば、フォトレジスト１０５ｂの線幅が、ＳｉＯ_2層１０３からなるマスクパターンの線幅と同一になるようにフォトレジスト１０５ｂの線幅のトリミング量の制御を行う。 - 特許庁

Consequently, the scanning range in the main scanning direction is fluctuated, a boundary line L1 of the partial pattern doesn't become a straight line shape, and the shear of the exposure patterns is prevented from standing in the shape of the line.例文帳に追加

これにより主走査方向の走査範囲が変動して部分パターンの境界線Ｌ１が一直線状にならず、露光パターンのズレが筋状に連なることを防止する。 - 特許庁

The line includes the equal-resistance part in a zigzag pattern and then the actual length of the line is longer than a lengthwise straight distance or the line is different in width from other parts.例文帳に追加

等抵抗部では、配線がジグザグパターンを描くことにより配線の実際の長さが長手方向の直線距離より大きく、または配線の幅が他の部分の幅とは異なる。 - 特許庁

To provide a method for forming a line pattern from an original mask by a proximity exposure method in which the width of a line pattern in a black matrix or black stripes can be decreased to around a 6 μm line width by a PB (post baking) processing.例文帳に追加

近接露光方法による原版マスクからのラインパターン形成方法において、ブラックマトリクスあるいはブラックストライプのラインパターンの幅をＰＢ処理において６μｍレベル線幅と微細化して形成することができるパターニング方法を提供する。 - 特許庁

The slot machine includes a stop control means for controlling the stop of a rotary reel, and an effective line pattern determination means for determining on which effective line a shift pattern combination is displayed or if it is not displayed on any effective line.例文帳に追加

スロットマシンは、回転リールの停止制御を行う停止制御手段と、移行図柄組み合わせをいずれの有効ラインに表示しているか、又はいずれの有効ラインにも表示していないかを判定する有効ライン図柄判定手段と、を備える。 - 特許庁

Also, line impedance with the same pattern width matches by making the tester board substrate 101 a film substrate with the same material and thickness as the film substrate 70 and a phase difference is eliminated by mutually equalizing line lengths of the line pattern on the substrate 70.例文帳に追加

またテスタボード基板１０１をフィルム基板７０と同じ材質で同じ厚みのフィルム基板にすることで、同一のパターン幅で線路のインピーダンスを合わせ、さらにフィルム基板７０上線路パターンの線路長を互いに等しくして位相差を無くす。 - 特許庁

To provide a mask pattern inspecting method for electron beam exposure, with which a position relation between a first complementary pattern and a second complementary pattern, which are formed by dividing an original mask pattern for electron beam exposure, by a cut line, is inspected on a computer.例文帳に追加

元の電子線露光用マスクパターンを切断線で分割して形成した第１の相補パターン及び第２の相補パターンの位置関係を計算機上で検査することができる電子線露光用マスクパターン検査方法を得る。 - 特許庁

To provide a metal pattern forming method that forms a metal pattern by electroless plating technique, the method forming a pattern excellent in adhesion to a substrate and excellent in a fine line drawing property, and to provided the metal pattern formed by using the method.例文帳に追加

無電解めっき技術で金属パターンを形成する方法において基板との密着性が優れ、且つ細線描画性の優れた金属パターン形成方法とそれを用いて形成された金属パターンを提供することである。 - 特許庁