「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Based on a value of the convolution A(I, J), a range wherein the line pattern is present is decided in each the line.例文帳に追加

このコンボリュ−ションＡ（Ｉ，Ｊ）の値に基づいて、各ラインにおいて、ラインパターンが存在する範囲を判定する。 - 特許庁

ACTIVE ENERGY LINE SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE ENERGY LINE SENSITIVE RESIN FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE FILM例文帳に追加

感活性エネルギー線樹脂組成物、感活性エネルギー線樹脂フィルム及び該フィルムを用いるパターン形成方法 - 特許庁

To provide a method of drawing an interatomic force electron beam line which draws an electron beam line of a detailed pattern of 10 nm or less.例文帳に追加

１０ｎｍ以下の微細パターンの電子線描画を可能とする原子間力電子線描画法の提供。 - 特許庁

When a fluctuation display in a first pattern row C1 and a third pattern row C3 are stopped and a ready-to-win pattern arrangement: 7, ↓, 7 is displayed on a line L1, a partition line 70b for partitioning between a fourth pattern row C4 and a second pattern row C2 moves right.例文帳に追加

第１図柄列Ｃ１及び第３図柄列Ｃ３における変動表示が停止して、ラインＬ１上に「７，↓，７」のリーチ図柄配列が表示されると、第４図柄列Ｃ４と第２図柄列Ｃ２との間を仕切る仕切線７０ｂが右方向に移動する。 - 特許庁

The test pattern is composed of a horizontal line pattern (pattern 1) which forms an electrostatic latent image with laser beams radiated from laser diodes on both ends and a horizontal line pattern (pattern 2) which forms an electrostatic latent image with laser beams irradiated from inner laser diodes.例文帳に追加

このテストパターンは、両端のレーザーダイオードから照射されるレーザー光で静電潜像パターンを形成する横線パターン（パターン１）と、内側のレーザーダイオードからの照射されるレーザー光で静電潜像パターンを形成する横線パターン（パターン２）とで構成されている。 - 特許庁

When the display device is brought under n-line dot inversion drive control, the polarity pattern of subpixels are shifted, line by line, in an n-frame cycle.例文帳に追加

表示装置がｎラインのドット反転駆動制御を受ける場合、ｎフレーム周期で１ラインずつサブピクセルの極性パターンをシフトさせていく。 - 特許庁

The conduction pattern determining section 205 of the line thermal printer 100 determines the conduction pattern of each heating element for making constant the print density based on the division pattern of previous one dot line data and the division pattern of next one dot line data and then delivers a conduction pattern thus determined to a print mechanism section 104.例文帳に追加

ラインサーマルプリンタ１００の通電パターン決定部２０５は、前回の１ドットラインデータの分割パターンおよび次回の１ドットラインデータの分割パターンに基づいて、印字濃度を一定にするために各発熱素子の通電パターンを決定し、決定した通電パターンを印刷機構部１０４へ出力する。 - 特許庁

A mask pattern 4 consisting of a first mask pattern 4a in the shape of a line of with a width WT of 0.15 μm and a second mask pattern 4b in the shape of a line with a width WF of 1.0 μm parallel with the pattern 4a is made on a mask 1.例文帳に追加

マスク１に、線幅Ｗ_Ｔが０．１５μｍの線形状の第１マスクパターン４ａ、このパターン４ａに平行な線幅Ｗ_Ｆが１．０μｍの線形状の第２マスクパターン４ｂからなるマスクパターン４を形成する。 - 特許庁

A scan line halftone pattern writing section 74 receives a parameter such as a value of a coordinate Y for plotting an image, reads the halftone pattern corresponding to the coordinate Y for plotting the image from the main memory 54, and then sequentially writes the halftone pattern to a scan line halftone pattern memory section 76.例文帳に追加

スキャンラインハーフトンパターン書込部７４は，描画のＹ座標値などのパラメータを受け取り，メインメモリ５４から描画するＹ座標に対応するハーフトンパターンを読み込み、スキャンラインハーフトンパターン記憶部７６へ順次書き込む。 - 特許庁

The gate pattern is electrically connected with the scanning line and has a opening inside.例文帳に追加

ゲートパターンは走査線と電気的に接続し、内部に開口部を備えている。 - 特許庁

An impedance adjustment pattern 15 is provided at the end of a coplanar transmission line 14.例文帳に追加

コプレーナ型伝送線路１４の端部にインピーダンス調整パターン１５を設ける。 - 特許庁

A line pattern is printed by quadrupole illumination for a dipole illumination mode.例文帳に追加

二重極照明モードの代わりに四重極照明でラインパターンをプリントする。 - 特許庁

ELECTRONIC APPARATUS WITH CASE EMBEDDED WITH TRANSMISSION LINE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

伝送線路パターンがケースに埋め込まれる電子装置及びその製造方法 - 特許庁

The Hamon pattern (the distinct swerving line down the center of the blade) was near-straight but slightly irregular and had a taste of old Bizen. 例文帳に追加

刃文は直刃調の小乱れ刃を焼き、古備前の趣がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a technique of prevention of duplication effective also for a straight-line pattern.例文帳に追加

直線模様についても有効な複写防止の技術を提供すること。 - 特許庁

To detect the inherent contour line of a shape indicated by an embroidery pattern accurately even in the case that a gradation pattern is used for the contour of the embroidery pattern.例文帳に追加

刺繍模様の輪郭に「ぼかし模様」が用いられている場合でも、刺繍模様が表す形象本来の輪郭線を正確に検出する。 - 特許庁

Two sides between right angle portions of the auxiliary pattern 16 are in line contact with each of the first conductive pattern 12 and second conductive pattern 14.例文帳に追加

補助パターン１６は、直角部分を挟む２辺が、それぞれ第１の導電パターン１２及び第２の導電パターン１４に線接触している。 - 特許庁

To make a game interesting not only by the presentation on the way of pattern variation, but also by a stopped pattern as the result in the variation of a prescribed pattern line.例文帳に追加

変動途中の演出ばかりでなく、所定の絵柄列の変動結果である停止絵柄によっても興趣を与えることを可能にする。 - 特許庁

If the pattern in the die is, for example, a line-and-space pattern, both of end lines of a flat and long face in a projecting part act as boundaries of the pattern.例文帳に追加

型のパターンが例えばラインアンドスペースであれば、凸部の細長く延在する平坦な面における両端の線が、パターンの境界部となる。 - 特許庁

As a result, the light distribution pattern can be changed without steps from the high-beam light distribution pattern to the light distribution pattern with a cutoff line.例文帳に追加

この結果、この発明は、配光パターンをハイビーム用配光パターンからカットオフラインを有する配光パターンまで無段階で変化させることができる。 - 特許庁

Whether mask pattern data are right or not is verified by comparing the L/S obtained by measuring a dimension in each line pattern group with a L/S pattern specification table.例文帳に追加

各線パターン集合を測長して得られるＬ／Ｓと、Ｌ／Ｓパターン仕様テーブルと、を比較することによって、マスクパターンデータが正しいかどうかを検証する。 - 特許庁

To provide a base material for a pattern forming material, a positive resist composition, and a method for forming a resist pattern which enable a pattern with reduced line edge roughness (LER) to be formed.例文帳に追加

ＬＥＲの低減されたパターンが形成できるパターン形成材料用基材、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the resist pattern for the alignment measurement for which the resist pattern is formed and then shrunk by heat flow, the resist pattern is formed of a plurality of line positive type patterns.例文帳に追加

レジストパターン形成後、熱フローによりシュリンクさせる合わせ測定用のレジストパターンにおいて、前記レジストパターンを複数のラインポジ型パターンで形成すること。 - 特許庁

With this, the additional light distribution pattern can be formed as a light distribution pattern which expands further downward than a cutoff line of the low beam light distribution pattern.例文帳に追加

これにより、付加用配光パターンをロービーム用配光パターンのカットオフラインよりも下方側まで拡がる配光パターンとして形成するようにする。 - 特許庁

To provide a composition for microfabrication of a resist pattern which is used for miniaturizing the line width of a resist pattern in a step of forming a resist pattern in a semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスにおけるレジストパターンの形成段階でレジストパターンの線幅微細化に使用されるレジストパターン微細化組成物を提供すること。 - 特許庁

The printing pattern with a clear border line is formed by giving more heating amount to the dot composing the border line of the printing pattern, and further the printing pattern in which adjoining dots connect each other is formed.例文帳に追加

また、印字パターンの輪郭を構成するドットにはより多くの熱量を付与して輪郭線が明瞭な印字パターンを形成し、更に、隣接するドット同士が連結した印字パターンを形成する。 - 特許庁

The resist is exposed/developed using an evaluation mask pattern arranged opposedly to a line and space pattern with pitches different each other, and the line end retreat amount of the pattern is found using an overlapping inspection device.例文帳に追加

互いにピッチの異なるラインアンドスペースパターンが対向して配置される評価用マスクパターンを用いてレジストの露光／現像をし、重ね合わせ検査装置を利用してパターンのライン端後退量を求める。 - 特許庁

Subsequently, the resist pattern 18 is irradiated with an electron beam at an irradiation energy of 100eV-500keV to shrink the line width of the resist pattern 18 thus forming a resist pattern 20 having a shrunk line width.例文帳に追加

続いて、レジストパターン１８に１００ｅＶ以上５００ｋｅＶ以下の照射エネルギーで電子線を照射して、レジストパターン１８の線幅を縮小させ、線幅が縮小したレジストパターン２０を形成する。 - 特許庁

A lower limit of an interval between the auxiliary pattern 13 and the isolated line pattern 11c corresponds to a minimum space of a design rule and an upper limit is three times the width of the isolated line pattern 11c.例文帳に追加

また、上記補助パターン１３と上記孤立ラインパターン１１ｃとの間隔は、その下限がデザインルールの最小スペース分であり、その上限が該孤立ラインパターン１１ｃの幅の３倍である。 - 特許庁

A latent image formed by exposing a resist film 2 is removed through development to form a pattern 3' corresponding to a line pattern 3 and a set of auxiliary line patterns 4 which are parallel to each other on both sides of the pattern 3'.例文帳に追加

レジスト膜２を露光して形成された潜像を現像により除去して、ラインパターン３に対応するパターン３’と、パターン３’の両側に並列する１組の補助ラインパターン４とを形成する。 - 特許庁

The photomask has a glass substrate 15, an isolated line pattern 11c disposed on the substrate 15 and an auxiliary pattern 13 of a phase shifter formed near the isolated line pattern 11c.例文帳に追加

本発明に係るフォトマスクは、ガラス基板１５と、該基板１５の上に配置された孤立ラインパターン１１ｃと、該孤立ラインパターン１１ｃの近傍に形成された位相シフタの補助パターン１３と、を具備するものである。 - 特許庁

A line segment extraction means 8 selects all the line segments that match with the read line information from the CAD drawing, and extracts the line segment that matches with a member definition pattern stored beforehand in a member pattern storage means 7 from them.例文帳に追加

線分抽出手段８は、読み込まれた線情報と一致する線分をＣＡＤ図面から全て選択し、その中から部材パターン記憶手段７に予め記憶されている部材定義パターンと一致する線分を抽出する。 - 特許庁

A first conductor line pattern 12 having a plurality of first line pieces 12a to 12c and a second conductor line pattern 13 having a plurality of second line pieces 13a to 13c are disposed in both sides of a dielectric substrate 1b.例文帳に追加

誘電体基板１ｂの両面に、複数の第１のライン片１２ａ〜１２ｃを有する第１の導体ラインパターン１２と、複数の第２のライン片１３ａ〜１３ｃを有する第２の導体ラインパターン１３が配置されている。 - 特許庁

To provide a metal mask, which is made of a metal layer and is employed for a fabric-free printing and which develops no tendency for becoming thickening from the end part of a line pattern to its central part in the line pattern made of printing material obtained by printing and consequently the line pattern with a desired line width can be formed.例文帳に追加

金属層からなる、紗を用いない印刷用のメタルマスクで、印刷して得られる印刷材料からなるラインパターンにおいて、ラインパターンの端部から中央部にかけて線太になる傾向が見られず、所望のライン幅のラインパターンを形成できるメタルマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material satisfying both high resolution and thin line adhesion, and forming a high-definition pattern, and also to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高解像度と細線密着性を両立でき、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A pattern stop sequence pattern in which patterns in each line are displayed in normal pattern stop sequence (left → right → middle), and multiple sorts of pattern stop sequence patterns to display them in different pattern stop sequence from the normal pattern stop sequence are provided.例文帳に追加

各列の図柄を通常の図柄停止順序（左→右→中）で表示させる図柄停止順序パターンと、通常の図柄停止順序とは異なる図柄停止順序で表示させる複数種類の図柄停止順序パターンを用意する。 - 特許庁

At this time after establishment of an effective line, further a pattern memory means 122 stores a display pattern where a new effective line including a display area being not located on the effective line is established.例文帳に追加

このとき、パターン記憶手段１２２は、有効ラインが設定された後、更に、その有効ライン上に位置しない表示領域を含む新たな有効ラインが設定される表示パターンを記憶する。 - 特許庁

The extension ratio η of the line width when the pattern data of a line conductor is converted into the pattern data of a plating window through CAD/CAM conversion is set higher for a region where the line conductors are distributed coarsely.例文帳に追加

線路導体の図形データを、メッキウィンドウの図形データにＣＡＤ／ＣＡＭ変換する際の線路幅の拡張比率ηを、導体線路が疎に分布する領域ほど大きくなるように設定する。 - 特許庁

Pattern matching (c) using a detection pattern of one (lateral) pixel by four (longitudinal) pixels is performed for a lateral line (a) of interest with a 2-pixel width and an oblique line (a) of interest to make line width corrections.例文帳に追加

２ｐｉｘｅｌ幅の横方向の注目ライン（ａ）および斜め方向の注目ライン（ｂ）に対し、１（横）ｘ４（縦）ｐｉｘｅｌの検出パターンによるパターンマッチング（ｃ）を行って線幅補正する。 - 特許庁

After that, the same test pattern as the test pattern described above is sequentially recorded using the second and the subsequent line recording heads 203-205.例文帳に追加

ついで、第２以降のライン記録ヘッド２０３〜２０５の各々により、順次、前記テストパターンと同じテストパターンを記録する。 - 特許庁

To reduce degradation of a picture by surely discriminating a pattern area reproduced by fine parallel line patterns as a pattern area.例文帳に追加

万線パターンによって再生された絵柄領域を確実に絵柄領域と判定し、画像劣化を減少させること。 - 特許庁

Multiple pattern lines are displayed on the display section 13a, and each pattern line is formed with multiple kinds of patterns.例文帳に追加

表示部１３ａには複数の図柄列が表示され、図柄列は複数種類の図柄によって構成されている。 - 特許庁

Then, the image of the recorded test pattern is read and the width of each fine line is determined from the image of the read test pattern.例文帳に追加

そして、記録されたテストパターンの画像を読み取り、読み取ったテストパターンの画像から各細線の幅を求める。 - 特許庁

When the spacer is mounted on the printed board, both ends of the stub are connected to the signal line pattern and conductor pattern respectively.例文帳に追加

スペーサを印刷基板上に実装すると、スタブの両端は信号線パターンと導体パターンにそれぞれ接続する。 - 特許庁

Thereby, a cyan image (C-Plain) using the "dot pattern" being a minority group is changed to use of the "line pattern".例文帳に追加

そのため、少数派である「ドットパターン」を使用しているシアンの像（Ｃ−Ｐｌａｉｎ）を「ラインパターン」の使用に変更する。 - 特許庁