「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, by reducing the winding up length A for the scooping pattern from the standard scooping line length for controlling the scooping and performing the fishing line-winding up in the scooping actions until the delivered fishing line length agrees with the reduced value (S905: No, S907, S909; S905: Yes, S921).例文帳に追加

そして、当該シャクリ制御基準糸長からシャクリパターンの巻上げ長さＡを減算し、釣糸繰出し糸長が当該減算値と一致するまでシャクリ動作における釣糸巻上げを行う（Ｓ９０５：Ｎｏ、Ｓ９０７、Ｓ９０９、Ｓ９０５：Ｙｅｓ、Ｓ９２１）。 - 特許庁

To carry out patterning without requiring an additional investment even when a line-and-space pattern with a fine pitch is formed on an object to be processed.例文帳に追加

被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行う。 - 特許庁

To provide a printed wiring board which reconciles both a thin-line and high-density conductor pattern and connection reliability, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

導体パターンの細線化及び高密度化と接続信頼性の双方を兼ね備えたプリント配線板と、その製造方法を提供する。 - 特許庁

As a result, an increase of dimension of the line portion 13a is restrained which is caused by optical proximity effect due to large pattern dimension of the contact portion 13b.例文帳に追加

これにより、コンタクト部１３ｂの寸法が太いパターンからの光近接効果によるライン部１３ａの寸法太りが抑制される。 - 特許庁

A dummy conductive layer 34a for covering a slit-like groove 28 forming the accessory pattern 50 formed in the scribing line region 13 is formed.例文帳に追加

スクライブ線領域１３に形成されるアクセサリパターン５０を構成するスリット形状の溝２８を覆うダミー導電層３４ａを形成する。 - 特許庁

Corrective conditions of astigmatism can be narrowed down by observing the linkage of dots 51 in each pattern group 53 (separability of line).例文帳に追加

各パターン群５３のドット５１のつながり具合（ライン分離性）を観察することにより非点収差の補正条件を絞り込むことができる。 - 特許庁

Alternatively, a unit pattern of blue, green and red may be repeated a plurality of times within a unit time corresponding to one line.例文帳に追加

また、１ラインに対応する単位時間内に、青色、緑色、赤色を１単位のパターンとし、その同じパターンを複数回行うこととしてもよい。 - 特許庁

Shield 12 of an output signal cable having a signal line 11 extends through a board connector 9 and a part 141 of a wiring pattern to the fixing screw 7.例文帳に追加

信号線１１を持つ出力信号ケーブルのシールド１２は基板コネクタ９、配線パターンの一部１４１を経て固定ネジ７まで延びる。 - 特許庁

Thus, on the side of memory substrate 16, a wiring pattern 18 can freely be drawn without needing to adjust a wiring length of a signal line.例文帳に追加

これにより、メモリ基板１６側では信号線の配線長の調整を行う必要がなく自由に配線パターン１８を引くことができる。 - 特許庁

After the horizontal pattern sensor substrate 10 is mounted, part of the substrate is cut at a cutting line L1 to remove the potential difference elimination structure 16.例文帳に追加

横パターンセンサ基板１０が組み込まれた後に基板の一部が切断線Ｌ１で切断され、電位差解消構造１６が除去される。 - 特許庁

To provide a salt for an acid generator of a resist composition which can form a pattern having outstanding resolution and line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁

The patterning method comprised of such steps has a benefit that the pattern line width can be adjusted by adjusting the surface energy of the substrate.例文帳に追加

このように構成された本発明は、基板の表面エネルギーを調整してパターンの線幅を調整することができるという利点がある。 - 特許庁

A projection optical system 150 of a projector 100 projects a pattern image MI for measurement which includes a measurement line LM1 onto a projection screen SC.例文帳に追加

プロジェクタ１００の投写光学系１５０は、測定線ＬＭ１を有する測定用パターン画像ＭＩを、投写スクリーンＳＣに投写する。 - 特許庁

To carry out the evaluation of the defect inspection or the like of a test piece having a pattern of a minimum line width of 0.2 μ or less by using a multiple beam at high throughput.例文帳に追加

最小線幅０．２ミクロン以下のパターンを有する試料の欠陥検査等の評価を、マルチビームを用いて高スループットで行なう。 - 特許庁

The conductive layer has a pattern pitch not longer than a quarter of a wavelength being transmitted or received and not shorter than ten times of the line width.例文帳に追加

また、前記導電層のパターンピッチが、送信または受信する波長の１／４以下かつ線幅の１０倍以上であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a reverse tapered resist pattern having excellent chemical stability, line width controllability, and easiness for process control and handling.例文帳に追加

化学的安定性、線幅制御性、工程管理と取扱いの容易性の点で優れた逆テーパ形レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet image-drawing method and an inkjet image-drawing apparatus, capable of drawing a highly accurate line pattern with a few scanning numbers in a short time.例文帳に追加

少ない走査数にて短時間に高精度な線パターンを描画できるインクジェット描画方法およびインクジェット描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition having good line edge roughness and a chemically amplified positive resist composition wherein the pattern is miniaturized in a reflow step.例文帳に追加

ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

On the printed-circuit board 44, a line pattern 46 which is connected to an external conductor of the coaxial connector 40 and extends to the outside is formed.例文帳に追加

プリント配線基板４４には、同軸コネクタ４０の外部導体に接続されて外方向に延びる線状パターン４６を形成しておく。 - 特許庁

CD-SEM 1 measures the line width of a resist pattern by lots as units of several wafers and stores measurement data in a database 4.例文帳に追加

ＣＤ−ＳＥＭ１は、何枚かのウェハーを単位としたロット毎にレジストパターンの線幅を測定し、測定データをデータベース４に記憶して行く。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity, high resolution and excellent edge roughness of a line pattern.例文帳に追加

高感度かつ高解像度で、ラインパターンのエッジラフネスが優れた電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To perform high-precision stable resist trimming by suppressing variations in resist pattern line width extremely small during processing of many substrates.例文帳に追加

多数枚の基板処理を行う際のレジストパターン線幅寸法のバラツキを極めて小さく抑制し、高精度かつ安定なレジストトリミングを行う。 - 特許庁

The inspection camera 1 and the lighting parts 2 and 3 are arranged 5-20° from the vertical line relative to the pattern surface.例文帳に追加

また，検査カメラ１と照明部２，３とがパターン面に対する垂線の方向から５〜２０度の範囲内の傾斜角をもって配置されている。 - 特許庁

To correct even a segmentation error of a complicated pattern through a small number of times of operations on an on-line handwriting character recognizing device.例文帳に追加

オンライン手書き文字認識装置において、複雑なパターンの切出し誤りであっても少ない回数の操作で修正することを可能とする。 - 特許庁

A capacitance forming electrode pattern is formed in a gate leader line forming region 31B of a first TAB block 50B-1.例文帳に追加

静電容量形成用電極パターン６０が第１のＴＡＢブロック５０Ｂ−１のゲート引出し線形成領域３１Ｂに形成してある。 - 特許庁

The method forms a line-type pattern by laminating a lower dielectric film 12 and an upper dielectric film onto a substrate 10 and then etching the upper dielectric film.例文帳に追加

基板１０上に下部絶縁膜１２と上部絶縁膜とを積層した後、上部絶縁膜をエッチングしてラインタイプパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure apparatus that can expose and transfer a pattern of finer line width, as compared with an electron beam exposure apparatus of conventional conception.例文帳に追加

従来考えられている電子線露光装置に比して微細な線幅のパターンを露光転写可能な電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

Additionally, each individual sector includes a line of symmetry over which the dimple pattern on one half of the sector is mirrored on the other half.例文帳に追加

さらに、各個別セクターは、それを境界にして、該セクターの一半分のディンプルパターンが、他方の半分と鏡像を形成する対称ラインを含む。 - 特許庁

On March 18, 2007, the operation pattern of trains on the Sagano Line was significantly changed, and the trains for Sonobe Station restarted to leave and arrive at Platform 2 during the daytime. 例文帳に追加

2007年3月18日の改正で嵯峨野線の列車パターンがかなり変わり、昼間の園部方面行き電車の2番のりば発着が復活した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which effectively uses a scriber line region, without provisions for a light shielding pattern, and also to provide a reticle thereof.例文帳に追加

遮光パターンを設けることなく、スクライブライン領域の有効利用を実現する半導体装置の製造方法及びレチクルを提供する。 - 特許庁

The bend region 204b is constituted of a laminate structure including the base layer 300, the signal line pattern layer 310, and the first shield layer 330.例文帳に追加

屈曲領域２０４ｂは、ベース層３００と、信号線パターン層３１０と、第１シールド層３３０とを含む積層構造により構成する。 - 特許庁

To accurately detect positional information of a surface to be detected in normal line direction by reducing an influence of a pattern or a reflectance distribution of the surface to be detected.例文帳に追加

被検面のパターン又は反射率分布の影響を低減させて、被検面の法線方向の位置情報を高精度に検出する。 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR STORING FUNCTIONAL LIQUID DEVICE AND METHOD FOR FORMING INTERCONNECT LINE PATTERN, WIRING BOARD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

機能液保管装置、機能液保管方法、配線パターン形成装置、配線パターン形成方法、配線基板、電気光学装置および電子機器 - 特許庁

By combining the outer and inner drums, the performances as if to increase an identical pattern in a same line visually recognizable by the player is realized.例文帳に追加

外ドラムと内ドラムとで、遊技者が視認可能な同一ラインの中で同じ図柄が増えていくような演出を実現することができる。 - 特許庁

To provide method and device especially suitable for determining irregularity of line & space pattern formed on sample.例文帳に追加

本発明の目的は、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供することにある。 - 特許庁

In such a case, a start address instruction line showing a start address number where each test pattern program 101 is stored is attached to the program 101.例文帳に追加

その際に、各テストパタンプログラム１０１に当該テストパタンプログラム１０１が記憶される開始アドレス番号を示す開始アドレス指示行を付加する。 - 特許庁

To obtain fail pattern data in a spare area on a must repair line without spending much time in the process of the defect relief and analysis processing of a memory.例文帳に追加

メモリの不良救済解析処理の過程において、マストリペアライン上のスペア領域のフェイルパターンデータを時間を掛けることなく取得する。 - 特許庁

Thereafter, surface roughness is moderated in the tangsten film by CMP, and a bit line pattern 103 is formed of low-resistance tangsten by an etching process.例文帳に追加

この後、ＣＭＰによりタングステン膜の表面粗さを緩和し、エッチングにより低抵抗タングステンからなるビットラインパターン１０３を形成する。 - 特許庁

When a bell and a dummy winning combination are doubly won, control is performed in reference to a second control table to draw a bell pattern onto an effective line.例文帳に追加

ベルとダミー役とが重複当選した場合には、第２制御テーブルを参照し、ベル図柄を有効ライン上に引き込む制御を行う。 - 特許庁

A number of identification marks is embossed on-line as a pattern and read by a suitable apparatus and evaluated by means of an image evaluation method.例文帳に追加

いくつかの識別マークがパターンとしてオンラインでエンボス加工され、適切な装置で読み取られ画像評価方法によって評価される。 - 特許庁

Thus, the capacitance to ground with respect to the substrate surface can be easily varied in the conductive pattern layer 17 that serves as a signal line.例文帳に追加

これにより、信号線路としての導電体パターン層１７において、基板面に対する対地容量を容易に変化させることができる。 - 特許庁

A test pattern forming part makes an inkjet head print a plurality of the line patterns 71 which extend in a paper conveyance direction with respect to each delivering opening.例文帳に追加

テストパターン形成部が、インクジェットヘッドに、各吐出口に関して用紙搬送方向に延在する複数のラインパターン７１を印刷させる。 - 特許庁

As a result, a main light-distribution pattern MP with a cut-off line CL and sub light-distribution patterns SP1, SP2 of a beam-convergent type can be obtained.例文帳に追加

この結果、カットオフラインＣＬを有するメイン配光パターンＭＰと集光タイプのサブ配光パターンＳＰ１、ＳＰ２とを得ることができる。 - 特許庁

To obtain a resist pattern having a good profile reduced in line width roughness (LWR).例文帳に追加

ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）が低減された良好な形状のレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which is improved in exposure latitude and line edge roughness performance, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能が改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁