「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

In this working method, a notch line 5 is formed in a diagonal pattern on the inner surface of the lead insertion hole 4 through which the writing lead is inserted at the apex part 2 of a chuck main body 1.例文帳に追加

チャック本体１の先端部２の筆記芯が挿通する芯挿通穴４の内面に、綾模様の切欠線５を形成する。 - 特許庁

Recesses are not produced between the data line 6a and the projecting pattern 81 and the boundary part between two pixel electrodes has a uniform projecting shape.例文帳に追加

しかも、データ線６ａ及び凸パターン８１相互間も、窪みは発生せず、画素電極同士の境界において、一様な凸形状を有する。 - 特許庁

To control the characteristics such as a line width of a pattern to be transferred using other characteristics than the upper limit of the spectrum width as spectrum characteristics of laser light.例文帳に追加

レーザ光のスペクトル特性として、スペクトル幅の上限値以外の特性を用いて、露光されるパターンの線幅等の特性を制御する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board and an element mounting apparatus that rarely causes a crack in a signal line pattern around a corner section and has excellent reliability.例文帳に追加

コーナー部周辺の信号線パターンにクラックが起こりにくく、信頼性に優れた多層配線基板及び素子搭載装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology capable of forming a pattern having a fixed line width on a coating object having steps by an ink-jet method.例文帳に追加

段差を有する塗布対象物においてインクジェット法を用いて一定の線幅のパターンを形成することができる技術を提供する。 - 特許庁

Also, in this pattern antenna, a microstrip line 13 for power feed is formed on the surface opposite to a planar radiation conductor 5 of the resin substrate 1.例文帳に追加

また、このパターンアンテナでは、給電用のマイクロストリップ線１３が樹脂基板１の平面放射導体部５と反対側の面に形成される。 - 特許庁

In this pattern, the audience does not experience stability as the story line suddenly provides a sense of instability from a normal state, which causes a laugh, 例文帳に追加

安定状態を経由せず、通常の状態からいきなり物事が不安定な方向に逸脱してしまう作用によって笑いが起きる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A transmitter 18 transmits a received adjustment pattern from a transmission side adjustment control unit 16 to a SBTL signal line 36 at a time of adjustment.例文帳に追加

送信部１８は、調整時、送信側調整制御部１６から受け取った調整パターンをＳＢＴＬ信号線３６に送信する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electronic component, which can form a microscopic wiring pattern of a line width narrower than 100 μm reliably and at low cost.例文帳に追加

線幅が１００μｍ以下の微細な配線パターンを確実且つ安価にして形成できる電子部品の製造方法を提案する。 - 特許庁

To dissolve the inconvenience that a symbol in a pull-in range can not be stopped on a winning line due to relation with a single winning pattern.例文帳に追加

単独入賞図柄との関係で引き込み範囲にある図柄を入賞ライン上に停止させることができない不都合を解消する。 - 特許庁

A plurality of test patterns prepared by varying the layout area of line-and-space pattern in different levels of factors are formed on a mask substrate by lithographic processes (S1, S2).例文帳に追加

リソグラフィー処理により、ラインアンドスペースパターンの展開面積を水準振りした複数のテストパターンをマスク基板上に形成する（Ｓ１，Ｓ２）。 - 特許庁

In the 2D pattern calculating part 3, the intersection of the inputted vector and a scan line and various flags are calculated by an intersection calculating part 6.例文帳に追加

２次元パターン計算部３では、交点計算部６により入力されたベクトルとスキャンラインとの交点及び各種フラグが計算される。 - 特許庁

On both sides of the bending part W, a center conductor connecting pattern 21 and a shield connecting pad 22 are arranged so as to be aligned in one line.例文帳に追加

折り曲げ部Ｗの両側には、中心導体接続用パターン２１とシールド接続用パッド２２とが一列に並ぶ様に配置される。 - 特許庁

Therefore the line pattern can be formed by the simple operation, quickly and advantageously in cost, and this is suitable for the small-lot production of a wide variety of products.例文帳に追加

このため、簡単な操作で迅速かつコスト的に有利に線模様を形成することができて多品種少量生産に好適となる。 - 特許庁

To provide a method of forming a film pattern on a substrate by which a thin film of fine and thin line can be formed conveniently.例文帳に追加

基板上に膜パターンを形成するに際し、薄膜で、微細且つ細線な膜を簡便に形成することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

Upper and lower antenna conductors of the loop pattern 12 vertically exist in an area at an equal distance from a center line 16 of the side glass in its lateral direction.例文帳に追加

ループパターン１２の上側および下側アンテナ導体は、サイドガラスの横方向中心線１６から上下に等距離に振り分けられている。 - 特許庁

After a resistance heating element pattern with wave-like changing line width is formed in a prescribed range in a surface of the ceramic substrate, a part of the resistance heating element pattern is trimmed in this method of manufacturing the ceramic heater.例文帳に追加

セラミック基板表面の所定領域に波状に線幅が変わる抵抗発熱体パターンを形成した後、前記抵抗発熱体パターンの一部をトリミングすることを特徴とするセラミックヒータの製造方法。 - 特許庁

To form a pattern (e.g., a print character, a design) having good printing reproducibility in terms of thin line, on a resin screen printing plate with a laser beam with hardly affecting a resin screen gauze used for the formation of the pattern.例文帳に追加

レーザ光により樹脂スクリーン印刷版にパターン（印刷文字、図案など）を形成させる際、樹脂スクリーン紗にほとんど影響を与えることなく、かつ細線の印刷再現性のよいパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a gradation interpolation circuit for eliminating a stripe pattern by detecting a border line (step difference) of the stripe pattern caused in a gradation region or the like in a display image caused by roughness of quantization applied to a video signal.例文帳に追加

映像信号の量子化の粗さに起因して表示画像中のグラデーション領域等に生じる縞模様の境界線（段差）を検出して縞模様を解消する階調補間回路を提供する。 - 特許庁

To provide a noise filter circuit for a switching power source in which the width of a conductor pattern can be made small and the conductor pattern can be prevented from being burnt when a line bypass capacitor short-circuits.例文帳に追加

この発明は、導体パターンの幅を小さくでき、しかもラインバイパスコンデンサが短絡した場合において、導体パターンが焼損しないようにできるスイッチング電源用のノイズフィルタ回路を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a device which vividly illuminates and displays drawings disposed in close contact with a rear surface of a light guide plate, freely selectively without a striped pattern, a narrow line pattern, or the like by a light source on a side face in a front light system.例文帳に追加

フロントライト方式で、側面の光源からその導光板でこの背面に密着配設された図画を選択自由に縞模様、細線模様等なしで鮮明に照明表示する装置を提供する。 - 特許庁

Further, the correction value is acquired based on the density of pixels determined by printing a correction pattern on the medium and measuring the density of the pixels located on the same line of the correction pattern.例文帳に追加

そして、補正値は、補正用パターンを媒体上に印刷するとともに、補正用パターンの同じライン上の位置にある複数画素の濃度を測定し、この測定された複数画素の濃度に基づいて、取得される。 - 特許庁

To provide a comparatively inexpensive aligner which maintains high productivity even in such constitution that a high density and high thin line pattern partially coexists in the ordinary circuit pattern of a substrate in future.例文帳に追加

将来的に基板の通常の回路パターン内に、部分的に高密度・高細線パターンが混在する構成となっても、高い生産性を維持し、あわせて比較的安価な露光装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

In addition, the pattern of each unit memory cell in the memory cell array region 1 and the pattern of the dummy cell in a piling region 2 are made equal to each other and both patterns have an axisymmetrical relation with respect to their boundary line BC2.例文帳に追加

加えて、メモリセルアレイ領域１の１メモリセル単位のメモリセルのパターンと杭打ち領域２のダミーセルのパターンとは同一で、かつ両者のパターンは境界線ＢＣ２に対してに線対称な関係を呈している。 - 特許庁

A contact brought into contact with an electrode on a semiconductor device 200 is provided on a film substrate 70 and a line pattern on the film substrate 70 and a wiring pattern on a side of a tester board 101 are directly connected by pressure welding.例文帳に追加

半導体デバイス２００の電極と接触させる接触子をフィルム基板７０上に設け、フィルム基板７０の線路パターンとテスタボード１０１側の配線パターンとを圧接により直接接続する。 - 特許庁

The first terminal electrode 17 is connected to a feeding line formed on the printed board 20 and connected to a ground pattern formed on the printed board 20 through an inductance pattern formed on the printed board 20.例文帳に追加

第１の端子電極１７は、プリント基板２０上に形成された給電ラインに接続されると共に、プリント基板２０上に形成されたインダクタンスパターンを介してプリント基板上のグランドパターンに接続されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with which it is possible to form a high resolution resist pattern with low line edge roughness, and which is used as an upper layer resist of a two layer resist process and a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

低ラインエッジラフネスで、高解像度なレジストパターンを形成することが可能となり、２層レジストプロセスの上層レジストとして用いることができる感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Otherwise, the wiring pattern for taking out the potential difference between both ends of the shunt resistance is drawn out from a land fringe part positioned on the prolonged line of a wiring pattern for the current to be detected connected to the shunt resistance mounting land.例文帳に追加

又はシャント抵抗両端の電位差を取り出すための配線パターンを、前記シャント抵抗取付け用ランドにつながれた被検出電流用配線パターンの延長線上に位置するランド外縁部から引き出す。 - 特許庁

Moreover, a uniform pattern can be obtained on the wafer by measuring an opening/closing ratio within the region influenced by flare can be measured based on the amount of flare of lens and then correcting (S8) the line widths of the mask pattern based on this opening/closing ratio.例文帳に追加

また、レンズのフレア量により、フレアの影響を受ける領域内にて開閉比を測定し、この開閉比により、マスクパターンの線幅を補正（Ｓ８）することにより、ウェーハ上部に均一なパターンが得られる。 - 特許庁

To provide a patterning process without causing a deformation of a resist pattern and an increase in LWR (line width roughness) in forming a silicon oxide film on a photoresist pattern, in a sidewall spacer method.例文帳に追加

側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成したときのフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern profile detecting device or method that is capable of detecting at a high-speed a shaping defect in a pattern profile of a patterned media surface and a stamper as well as a production line for patterned media disks.例文帳に追加

本発明は、本高速でパターンドメディア表面やスタンパのパターン形状の整形不良を検査できるパターン形状検査装置または検査方法並びにパターンドメディアディスク製造ラインを提供することである。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition excellent in resolution, line edge roughness and etching resistance, and excellent in sensitivity and a pattern profile; and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

解像度、ラインエッジラフネスおよびエッチング耐性に優れ、かつ感度及びパターン形状に優れる感活性光線性または感放射線性組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A line-shapes semiconductor pattern 104 extending in the first direction is formed at a lower part of the conductive layer pattern 122 by etching the substrate 100 at a portion which is exposed due to the patterning of the conductive layer 120.例文帳に追加

導電層１２０をパターニングするとき露出する半導体用基板１００をエッチングして導電層パターン１２０の下部に第１方向に延長する線形の半導体パターン１０４を形成する。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

On a polysilicon film 4 on a semiconductor substrate 1, a resist pattern 5a of a line shape is formed in a memory cell region S, and a dummy resist pattern 5b is formed on a region P excepting the memory cell region S.例文帳に追加

半導体基板１上のポリシリコン膜４上において、メモリセル領域Ｓではライン状のレジストパターン５ａが形成され、メモリセル領域Ｓ以外の領域Ｐではダミーのレジストパターン５ｂが形成される。 - 特許庁

To provide a polymer for a photoresist having high transmittance, etching resistance, thermal resistance, adhesiveness and low light absorbance, and high affinity for a developer in order to obtain a pattern improved of LFR (line edge roughness), and to provide a photoresist composition including the polymer, and a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＬＥＲが改善されたパターンを得るため透過率、エッチング耐性、耐熱性、接着性及び低い光吸収度を有し、現像液に対する親和度の高いフォトレジスト用重合体を提供する。 - 特許庁

A conductor pattern 23m of the ground layer 23 has stubs 23m-st1 to 23m-st4 formed at respective input/output-side end parts of a signal line 22a provided on the wiring layer 22 and connected to a ground pattern 25 by via holes 24-v of the insulating layer 24.例文帳に追加

接地層２３の導体パターン２３mには、配線層２２に設けた信号線路２２aの入出力側の各端部にスタブ２３m-st1〜２３m-st4を形成し、絶縁層２４のビア２４-vで接地パターン２５と接続する。 - 特許庁

To solve the problem of the conventional products being unable to form complicated magnetic flux density pattern (asymmetric magnetic flux pattern for magnetic flux density peak), because the extending line of the side surface of a sector type magnet piece passes the center of a magnet roller.例文帳に追加

従来品では、扇形状マグネットピース側面の延長線がマグネットローラ中心を通る為、複雑な磁束密度パターン（磁束密度ピークに対して非対称な磁束密度パターン）を形成することができない。 - 特許庁

The camouflage pattern P of the dial 5 is formed into one piece with the line pattern of the solar cell as a whole, gives a camouflage effect in a harmony, and operates so that it does not make every body feel the presence of the solar cell 7.例文帳に追加

文字板５のカムフラージュパターンＰは太陽電池の筋目模様と全体的に一体化し、１つのまとまりのある調和したカムフラージュ効果を与え、太陽電池７の存在を感じさせない作用をする。 - 特許庁

The dielectric substrate 25 for the antenna and the ground pattern 22 are set up together, and the distance between the ground pattern 22 and the side margin portion is increased continuously and in a saturated manner, as it separates farther from a straight line, passing through a load-dispatching position of the planar element 21.例文帳に追加

アンテナ用誘電体基板25とグランドパターン22とは併置され、グランドパターン22と側縁部との距離は、平面エレメント21の給電位置を通る直線から離れるに従い、連続的且つ飽和的に増加する。 - 特許庁

Since the two pieces of light distribution patterns P1 (P2) are symmetrically synthesized as for this light distribution pattern P, it has a high light intensity zone at the center part, and becomes to have a long light distribution pattern in the right and left on the horizontal line HL-HR.例文帳に追加

この配光パターンＰは、２個の配光パターンＰ１（Ｐ２）を対称に合成したので、中央部に高光度帯を有しかつ水平線ＨＬ−ＨＲ上に左右に長い配光パターンＰとなる。 - 特許庁

The pitch pattern deciding part 202 corrects a point pitch pattern by using a value proportional to the component exceeding a pitch inclination straight line passing through a point pitch positioned at the head of the words and a point pitch at the end of the words.例文帳に追加

ピッチパタン決定部２０２は、単語先頭に位置する点ピッチと単語終端に位置する点ピッチとを直線で結んだピッチ傾斜線を超える成分に比例した値を用いて点ピッチパタンを修正する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which a high- density resist pattern the line width of which can be controlled excellently on the surface of a wafer and between wafers can be formed, a semiconductor manufacturing apparatus a semiconductor device, and a portable information terminal.例文帳に追加

ウェハ面内,ウェハ間の線幅制御性の良好な高密度レジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法および半導体製造装置および半導体装置および携帯情報端末を提供する。 - 特許庁

When the film pack is manufactured, the flap 14 adheres to a discharge port in a specified adhering pattern with the hotmelt by a melting iron on which the protrusion of a fixed pattern is formed in a line, so that an adhering part 14b is formed.例文帳に追加

遮光フラップ１４は、フイルムパック１の製造時に、一定パターンの突起が並んだ溶融コテにより、一定の接着パターンで排出口７ａにホットメルト接着され、接着部１４ｂが形成される。 - 特許庁

To prevent wiring from being reduced in reliability and manufacturing yield due to it that a wiring pattern, which is formed resting on single minimum line width data in the formation of a wiring mask pattern, is used in a semiconductor device or the like.例文帳に追加

配線マスクパターン発生において、単一最小線幅データで発生させた配線パターンを半導体装置等で使用することに起因する配線の信頼性低下や製造歩留り低下を抑制する。 - 特許庁