「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

After the copied patterns are displayed, the two patterns of '7' in the left and the middle pattern display columns make a winning chance line.例文帳に追加

複写図柄表示後は、左図柄表示列１１０及び中図柄表示列１３０の２つの図柄「７」でリーチラインが形成される。 - 特許庁

A main controller 28 changes a control factor of the system 100 contributing to the throughput, in response to a minimum line width of the pattern.例文帳に追加

また、主制御装置２８が、パターンの最小線幅に応じてスループットに寄与する露光システム１００の制御ファクタを変更する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves the profile of a resist pattern and suppresses a variation of line width due to laying in a vacuum chamber.例文帳に追加

レジストパターンプロファイル、真空チャンバー内での引き置きによる線幅変動が改善されたポジ型レジスト組成物が提供すること。 - 特許庁

To provide an inexpensive line scanner device having a simple structure, which can read a pattern of colors using light-emitting diodes as a light-receiving element.例文帳に追加

発光ダイオードを受光素子として利用し、色のパターンを読み取ることのできる安価で簡単な構造のラインスキャナを提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of giving a pattern in which a change in the line width is low, while maintaining high sensitivity even when a recycled developing solution is used.例文帳に追加

リサイクル現像液を用いても、高感度を維持しながら、線幅変化が低いパターンを与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent the undesired maximum value of intensity of light from being caused on the upper side of a light-shade boundary line of a light distribution pattern of a motor vehicle headlamp.例文帳に追加

自動車ヘッドランプの配光パターンの明暗境界線より上で、望まれざる光強度最大値が生じるのを防止する。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying positive resist composition excellent in decrease in line edge roughness, resolution and a cross-sectional profile of the resist pattern.例文帳に追加

ラインエッジラフネスの低減、解像性及びレジストパターン断面形状に優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Inspection units 10 and 20 performing macro defect inspection or line width measurement of a pattern are disposed in the indexer ID.例文帳に追加

マクロ欠陥検査やパターンの線幅測定等を行う検査ユニット１０および検査ユニット２０はインデクサＩＤの内部に配置している。 - 特許庁

When adjusting vertical and horizontal line widths, first, patch data are created by rotating an anisotropic pattern by 0° and 90° (S1 in Fig.5).例文帳に追加

そして、縦横の線幅の調整では、まず異方性のあるパターンを０°と９０°に回転させたパッチデータを作成する（図５のＳ１）。 - 特許庁

Further, the defect compensating circuit 76 performs interpolation using a prepared interpolation pattern selected according to adjacent patterns of the dot flaw and line flaws.例文帳に追加

また、欠陥補正回路７６は点キズと線キズの隣接パターンに応じて予め用意された補間パターンから選択して補間する。 - 特許庁

To manufacture easily an electromagnetic wave shielding type light transmission window material having a mesh conductive pattern with small line width and high numerical aperture.例文帳に追加

線幅が小さく開口率の高いメッシュ状の導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を容易に製造する。 - 特許庁

The pattern PA for evaluation has a plurality of striped patterns having a density distribution in the direction orthogonal to a luster line direction.例文帳に追加

評価用パターンＰＡは、ラスタライン方向と直交する方向に濃度分布を有する縞模様をもつ複数のパターン領域を有する。 - 特許庁

Namely, the correlation between the pitch of the pattern and correction quantities (bias quantity) of the line width and length of the shifter part is assumed and put in a table.例文帳に追加

つまり、パターンのピッチと、シフタ部の線幅、線長の補正量（以下、バイアス量と言う）との相関関係を規定し、テーブル化する。 - 特許庁

A protective film is formed on the data line and a pixel electrode having the first opening pattern is formed on the protective film.例文帳に追加

データ線の上には保護膜が形成されており、保護膜の上には第１開口パターンを有する画素電極が形成されている。 - 特許庁

A pattern combining curved-line pieces of gold leaf, imitating stalks, and lozenge-shaped pieces of gold leaf, imitating grass leaves, to express intertwined plants, for example, ivies. 例文帳に追加

茎に見立てた曲線と草の葉に見立てた菱形の截箔を組み合わせ、蔓などの植物が絡み合う様子を表す文様 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The lines of each recorded test pattern are detected by an optical sensor 210 provided downstream of the plurality of line recording heads.例文帳に追加

記録された各テストパターンは複数のライン記録ヘッドの下流に設置された光学センサ２１０によりテストパターンのラインを検出する。 - 特許庁

Since the substrate whose temperature is controlled at a desired value is shifted to the following step, a variance of line width of the pattern after development can be eliminated.例文帳に追加

この基板温度が所望値に制御された基板が次工程に移行されるので、現像後のパターンの線幅のバラツキを抑制する。 - 特許庁

A main control part 200 irradiates a position corresponding to a pattern stop position on the selected valid line with the light of a selected color.例文帳に追加

主制御部２００は、選定された有効ライン上の図柄停止位置に対応する位置に選定された色の光を照射する。 - 特許庁

The document format is identified by performing filtering for weakening the feature in the prescribed part of the inputted document information (1), extracting the featured values of the input ruled line pattern from filtered input document information (2) and comparing the featured values of the input ruled line pattern with the pre-registered format information featured values so as to decide the format of the input ruled line pattern (3).例文帳に追加

帳票フォーマットの識別は、（１）入力された帳票情報の所定部分に、特徴を弱めるフィルタリングを実行し、（２）前記フィルタリングを行った入力帳票情報から入力罫線パターンの特徴量を抽出し、（３）入力罫線パターンの特徴量を、予め登録されているフォーマット情報の特徴量と比較することにより、入力罫線パターンのフォーマットを決定することにより行う。 - 特許庁

This manufacturing method is provided with a process to form a positive electrode having a line pattern on a substrate, a process to form an organic EL luminescent layer on the substrate having the positive electrode formed on it, and a process to form a negative electrode having a line pattern extending perpendicularly to the line pattern of the positive electrode on the organic EL luminescent layer.例文帳に追加

基板上にラインパターンを有する陽極を形成する工程と、陽極を形成した前記基板上に有機ＥＬ発光層を形成する工程と、マスクとして複数本の耐熱性金属のワイヤを用いて、有機ＥＬ発光層上に陽極のラインパターンと直交する方向に延びるラインパターンを有する陰極を形成する工程とを具えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の作製方法。 - 特許庁

At least, one of a plurality of pattern line rotating members 22 is constituted of a light transmissible member, a first polarized light sheet is fixed to its outer circumferential face or internal circumferential face in such a manner as being visible stacked on a plurality of patterns except for a specific pattern and a lighting means 25 is disposed inside the pattern line rotating means.例文帳に追加

複数の図柄列回転部材２２のうちの少なくとも１つを光透過可能な部材によって構成し、その外周面又は内周面に第１の偏光シートを特定の図柄を除く複数の図柄と重なって見える状態に固定するとともに、この図柄列回転部材の内側に照明手段２５を配置する。 - 特許庁

In the method of manufacturing an exposure mask which is used to perform pattern exposure with a high resolution by shifting the phase of light transmitting both sides in the line width direction of a mask pattern, high-precision patterns requiring line width precision and high-resolution patterns requiring pattern exposure with high resolution are extracted from gate patterns (design patterns) (S2).例文帳に追加

マスクパターンの線幅方向両側を透過する光の位相をシフトさせることで高解像度のパターン露光を行う際に用いられる露光マスクの作製方法であって、ゲートパターン（設計パターン）の中から、線幅精度が要求される高精度パターンと、高解像度でのパターン露光が要求される高解像度パターンとを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

A minute pattern resin film 22 is formed on one main surface of a key top body 36 by using a minute pattern forming resin film 20 having properties such that it retains liquid state at ordinary temperature and is cured with light to form a minute pattern (e.g., line width and line interval of 0.1 mm or less) by transfer or others followed by curing by UV irradiation.例文帳に追加

常温下で液状を保持し光を受けて硬化する性質の微細模様形成用樹脂膜２０を用い転写その他により微細模様（線幅及び線間例えば０．１ｍｍ以下）を形成し、ＵＶ光照射により硬化させた微細模様樹脂膜２２を、キートップ本体３６の一方の主表面に形成する。 - 特許庁

To provide a wiring pattern automatic editing program capable of preparing automatically a wiring pattern of avoiding a wiring prohibiting area, when setting the wiring prohibiting area, in the wiring pattern comprising a base main line and a plurality of branch lines branched from the base main line, and, in particular, applicable satisfactorily even when the plurality of wiring patterns exist.例文帳に追加

基幹線、および基幹線から分岐した複数の支線から成る配線パターンに対し、配線禁止領域を設定した際に、配線禁止領域を回避した配線パターンを自動的に作成することができ、また、特に複数の前記配線パターンがある場合でも好適に適用可能な、配線パターン自動編集プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The variable information printed matter has a constitution that at least a ground layer, an image forming body layer printed with a latent image line pattern formed of a line pattern moire in specific ink that makes the embossment of the pattern and a printed layer which indicates the variable information are laid on each other sequentially on a base with a scratch hiding layer so deposited as to cover the laminate of these layers.例文帳に追加

基材上に、少なくとも、下地層、万線モアレによる潜像万線パターンが浮き上がる特殊インキで印刷されてなる画像形成体層、可変情報を表示する印刷層が順次積層され、その積層体を被覆するようにスクラッチ隠蔽層を形成したことを特徴とする可変情報印刷物である。 - 特許庁

When a test key of a control panel or a remote control device is operated by the user, a control part controls to superpose and display a test pattern TP (horizontal line Lh and vertical line Lv) on an input image Pi.例文帳に追加

制御部は、ユーザによって操作パネル又はリモコンのテストキーが操作されると、入力画像Ｐｉ上にテストパターンＴＰ（水平ラインＬｈ及び垂直ラインＬｖ）を重畳表示させる。 - 特許庁

The transmission line 14 is matched in impedance by the resonance pattern 15, so that the reflection of the electrical signal having a frequency of millimeter wave that is transmitted in the transmission line 14 can be reduced.例文帳に追加

この共振パターン１５によって伝送線路１４がインピーダンス整合されるので、この伝送線路１４を伝送するミリ波の周波数を有する電気信号の反射を低減できるようになる。 - 特許庁

In this case, by forming the discrimination pattern 8 in the dummy pixel region A1, the data line 3 is made to be close to a scanning line drive circuit 100 and a picture frame area is reduced.例文帳に追加

識別パターン８をダミー画素領域Ａ１に形成することによって、データ線３と走査線駆動回路１００とを近接させることができ、額縁面積を縮小させることができる。 - 特許庁

To form bit lines wherein the composition and formation conditions of a bit line hard mask pattern and a bit line nitride film spacer are varied and bit lines are formed, to improve a process margin of an SAC process and decrease an SAC process failure.例文帳に追加

ＳＡＣ工程のマージンを高め、ＳＡＣ工程失敗を低減させるため、ビットラインハードマスクパターン及びビットライン窒化膜スペーサの成分及び形成条件を変化させてビットラインを形成する。 - 特許庁

The system has a function of verifying the pattern line width with the dimensional specification; and if the line width fails the specification, the system has a function of automatically performing feedback and continuing the dry etching in the vacuum chamber for dry etching.例文帳に追加

パターン線幅を寸法規格と照合し、寸法規格に至らない際には、自動でフィードバックしてドライエッチング用真空チャンバー内でドライエッチングを継続して行う機能を備えたこと。 - 特許庁

One end of the conductor 24 is connected to the return line side of the supply line 22, and at the B connection point 21 of the other end, the conductor 24 is connected to a B grounding pattern 17 of the B substrate on which the wireless section 18 is mounted.例文帳に追加

導体２４の一端は給電点２２のリターン線側に接続され、他端のＢ接続点２１において無線部１８が実装されたＢ基板のＢ接地パターン１７に接続される。 - 特許庁

To improve the visibility of faraway place in the own car lane side in a headlamp for a vehicle formed, so that low-beam irradiation is performed with a luminous intensity distribution pattern having a horizontal cutoff line and an oblique cutoff line.例文帳に追加

水平カットオフラインおよび斜めカットオフラインを有する配光パターンでロービーム照射を行うように構成された車両用前照灯において、自車線側の遠方視認性を高める。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for measuring a circuit pattern line width, which enable reduction in measuring errors of line width and shorten ing of the processing time, without requiring a large capacity memory.例文帳に追加

線幅の計測誤差を減少させ、かつ、大容量のメモリを必要としないで処理時間を短縮することができる回路パターン線幅計測方法および回路パターン線幅計測装置を提供する。 - 特許庁

The surface sheet 13 comprises a resin film having many liquid permeable holes and the surface sheet 13 is stuck to the hydrophilic sheet 24 by a hot-melt adhesive which is coated in a spiral line or wavy line pattern.例文帳に追加

表面シート１３は多数の液透過孔を有する樹脂フィルムであり、表面シート１３と親水紙２４とがスパイラル線または波線パターンで塗工されたホットメルト型接着剤で接着されている。 - 特許庁

To provide a technology for simply extracting, without conducting a complicated calculation, only line patterns having the same directivity from a photographed image including a line pattern having two or more directivity.例文帳に追加

複雑な演算を行うことなく、二種類以上の方向性を持つ線パターンが存在する撮像画像から、同一の方向性を持つ線パターンのみを容易に抽出する為の技術を提供すること。 - 特許庁

Here, in the semiconductor memory device formed in an NAND structure connecting the memory cells in series, the gates of the read transistors are arranged in a staggered pattern, and the read word line and the write word line are shared.例文帳に追加

ここで、記憶セルを直列に接続し、ＮＡＮＤ構造とした半導体メモリ装置で、読み出しトランジスタのゲートを互い違いに配置し、読み出しワード線と書き込みワード線を共用する。 - 特許庁

A repeater control section 13 generates identifiable pattern data from user data including maintenance data received from a main control section 15 and transmits it to a digital lease line 4 through a digital lease line connecting section 11.例文帳に追加

中継制御部１３は、主制御部１５より受け取った保守データを含むユーザデータから識別可能なパターンデータを生成し、デジタル専用線接続部１１を介してデジタル専用線４へ送信する。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION USED IN PROCESS WHERE EXPOSURE IS PERFORMED USING AT LEAST TWO KINDS OF EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER, AND ELECTRON BEAM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

One pixel by the second pixel arrangement pattern is composed of a combination of one sub-pixel on the (n+1)-th horizontal pixel line and two sub-pixels on the (n+2)-th horizontal pixel line.例文帳に追加

第２の画素配列パターンによる１つの画素は、第ｎ＋１番目の水平画素ライン上の１つのサブピクセルと、第ｎ＋２番目の水平画素ライン上の２つのサブピクセルとの組み合わせにより構成する。 - 特許庁

Detection time differences ΔTk1, ΔTc1, ΔTm1 and ΔTy1 between perpendicular line segments and inclined line segments of respective resist patterns in a resist pattern group 564 for detecting color shift in the main scanning direction are obtained.例文帳に追加

主走査方向の色ずれ検出用のレジストパターン群５６４における各レジストパターンの垂直線分と傾斜線分の検出時間差ΔＴｋ１、ΔＴｃ１、ΔＴｍ１、ΔＴｙ１を求める。 - 特許庁

When the load variation of each line has audible frequency components due to the display pattern when a display panel 1 is driven for each line, the components such as capacitors having piezoelectricity causes sound that becomes noise.例文帳に追加

表示パネル１をライン毎に駆動する場合、表示パターンによりライン毎の負荷変動が可聴周波数成分を持っていると、コンデンサ等の圧電性をもつ部品が音鳴りし、騒音となる。 - 特許庁

The metal pattern has a line width of 15-40 μm and a line pitch of 100-400 μm, the bond layer is 0.03-2.5 μm thick, the electroless metal plating layer is 0.05-1.0 μm thick, and the electroplated metal layer is 2-15 μm thick.例文帳に追加

・ 該結合体層の膜厚が０．０３〜２．５μｍ ・ 該無電解金属メッキ層の膜厚が０．０５〜１．０μｍ ・ 該電解金属メッキ層の膜厚が２〜１５μｍ であることを特徴とする。 - 特許庁

A reference line pattern is configured by determining a reference line in each variation cycle whose object is the case that the number of times of executing the variation cycle is the largest (in the case of "4 times") while accompanied by the continuous performance.例文帳に追加

基準ラインパターンは、連続演出を伴う中で変動サイクルの実行回数が最も多い場合（「４回」の場合）を対象とする各変動サイクルでの基準ラインを定めて構成するようにした。 - 特許庁

Then, the melted and stuck parts are exposed out at a connected part 3 to form a broken-line pattern in which the band-like parts made of synthetic resin having colors different from that of the sheet members are connected in series like a broken-line.例文帳に追加

そして、その溶着部が接合部３において外部に露出して、前記シート材とは異なった色の合成樹脂による帯状部が破線状に連なった破線模様を形成した。 - 特許庁