「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To easily execute exposure on a base plate without causing a line width difference even in the case of using plural masks.例文帳に追加

複数のマスクを使用する場合でも、線幅差を発生させずに容易に基板に露光する。 - 特許庁

Wide thin grooves 50 extending in a tire width direction are formed in a first shoulder land section line 32.例文帳に追加

第１ショルダー陸部列３２には、タイヤ幅方向に延びる広幅細溝５０が形成されている。 - 特許庁

The peak of FSG layer, corresponding to the width of a conductive metal line, is reduced by a step of CMP.例文帳に追加

導電性金属ラインの幅に対応するＦＳＧ層のピークがＣＭＰのステップで減らされる。 - 特許庁

Thus, the line width of the pattern to be formed on the substrate W can be highly accurately controlled.例文帳に追加

よって、基板Ｗに形成させるパターンの線幅を精度よく制御することができる。 - 特許庁

The measured data of a new test pattern for a testing mask are obtained by measuring the line width of each gate pattern.例文帳に追加

テスト用マスクの新規テストパターンの実測データは、各ゲートパターンの線幅について測定される。 - 特許庁

To provide a hard mask which can form a track symmetrical in right and left and having a fine line width.例文帳に追加

左右対称かつ微細な線幅を有するトラックを形成することのできるハードマスクを得る。 - 特許庁

To form a polycrystalline TFT with gate line width of about 0.5 μm on a large-area substrate.例文帳に追加

０.５μｍ程度の線幅のゲートの多結晶ＴＦＴを大面積基板上に形成する。 - 特許庁

To reduce a fluctuation in line width of meshes of a formed translucent conductive thin film.例文帳に追加

形成された透光性導電性薄膜におけるメッシュの線幅の変動を小さくすること。 - 特許庁

To acquire a character image indicating a desired line width character from a character image indicative of a handwritten character.例文帳に追加

手書きの文字を示す文字画像から所望の線幅の文字を示す文字画像を取得する。 - 特許庁

To provide a flash memory element manufacturing method for making the thickness and the width of a bit line uniform.例文帳に追加

ビットラインの厚さおよび幅を均一にするためのフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The bearing 25 is arranged at an approximate center line C2 of the width direction of the winding intermediate node 8.例文帳に追加

軸受２５は巻掛け媒介節８の幅方向の略中心線Ｃ２上に配置される。 - 特許庁

By doing this, a cutting distance w1 in the width direction of the cutting line 170c is shortened.例文帳に追加

このようにすれば、切断線１７０ｃの幅方向の切断距離ｗ１が短縮される。 - 特許庁

To adequately correct a position concerning a graphic object having a contour line with a width (d).例文帳に追加

幅ｄをもった輪郭線を有する図形オブジェクトについて、的確な位置修正を行う。 - 特許庁

A colored part 20 of a constant width is formed in an area of the gradation line 12.例文帳に追加

この目盛線１２の形成領域には、一定寸法幅の着色部２０が設けられている。 - 特許庁

To accurately measure a coherence time of laser beam having a narrow spectral line width (long coherence time).例文帳に追加

スペクトル線幅が狭い（コヒーレンス時間が長い）レーザ光のコヒーレンス時間を正確に測定する。 - 特許庁

To provide a photomask with which a line width error in transferring caused by an MEEF (Mask Effective Error Factor) is reduced.例文帳に追加

ＭＥＥＦ（Mask Effective Error Factor)に起因する転写の際の線幅誤差を低減できるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

As a result, even when the line width varies, the degree of changes is made uniform all over the photomask.例文帳に追加

この結果、ライン幅の変動が生じたとしてもその程度は、フォトマスク全体で均一となる。 - 特許庁

To provide a control method for making improvement in accuracy of width in a hot tandem rolling line.例文帳に追加

熱間タンデム圧延ラインにおける板幅精度向上を可能とする制御方法を提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR LASER, METHOD FOR GENERATING LASER BEAM AND METHOD FOR REDUCING SPECTRAL LINE WIDTH OF LASER BEAM例文帳に追加

半導体レーザ、レーザ光の発生方法、およびレーザ光のスペクトル線幅の狭窄化方法 - 特許庁

LINE WIDTH MEASURING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND SUBSTRATE COOLING PROCESS UNIT例文帳に追加

線幅測定方法，基板の処理方法，基板の処理装置及び基板の冷却処理ユニット - 特許庁

A heating temperature in heating after exposure is set on the basis of the converted line width.例文帳に追加

この換算された線幅に基づいて，露光後の加熱時の加熱温度の温度設定を行う。 - 特許庁

Q5 Can the color, line width, slit, font, frame, and decoration of individual identification marks be freely selected ?例文帳に追加

"Q5 識別マークの色、線幅、スリット、フォント、周辺の枠や装飾は、自由に決めることができますか？" - 経済産業省

The space part 20 is formed in a range including the width directional center line Y in the width direction, and penetrates in the axial direction through the bearing housing 12.例文帳に追加

空間部２０は、幅方向に関して幅方向中央線Ｙを含む範囲で形成され、軸受ハウジング１２を軸方向に貫通する。 - 特許庁

A width of the bit line 110b is L, and an interval between the bit lines 110a, 110b is equal to the width S of a side wall 112.例文帳に追加

ビット線１１０ｂの幅は、Ｌであり、ビット線１１０ａとビット線１１０ｂの間隔は、サイドウォール１１２の幅Ｓに等しくなっている。 - 特許庁

A positive electrode AD is formed by covering the display area with a width exceeding the width in the extending direction of the scanning line sL of the display area AR.例文帳に追加

陽極ＡＤを、表示領域ＡＲの走査線ｓＬの延在方向の幅を超える幅で当該表示領域を覆って形成する。 - 特許庁

Further, by alternately disposing a large-width side and a small-width side of the two differential signal lines 104 and 105, the total line widths are reduced.例文帳に追加

そして、２つの差動信号配線１０４、１０５の配線幅の太い側と細い側を交互に配置することで、全配線幅を低減する。 - 特許庁

In the communication groove 23, the width of a partial groove is shorter than the line width of the lock pin 10 and the wall surface of the groove is formed by an elastic member.例文帳に追加

また、連通溝２３は、一部の溝の幅がロックピン１０の線幅よりも短く、また溝の壁面が弾性部材で形成されている。 - 特許庁

Since a width W2 of the bias line 20 is relatively narrower than a width W3 of a matching unit 11, its resistance relatively becomes larger than the matching unit 11.例文帳に追加

バイアス線路２０の幅Ｗ２は、整合部１１の幅Ｗ３よりも狭いため、相対的に整合部１１より抵抗が大きくなる。 - 特許庁

In the drawing a signal line 121 extending from right with a width w2 is changed to a width w0 in the section S1 and expands in the section S3.例文帳に追加

信号線１２１は、図中、幅ｗ_2にて右から延設され、範囲Ｓ_1でｗ_0となるよう範囲Ｓ_3で広がるよう形成されている。 - 特許庁

The antireflection film is processed by slimming so that the size of the line width of the antireflection film and that of the resist are made 1/3 of the space width.例文帳に追加

スリミング技術を用いて反射防止膜を加工して、反射防止膜とレジストのライン幅寸法をスペース幅寸法の１／３にする。 - 特許庁

To set a dot data so that a character composition line width becomes a width corresponding to an outline data.例文帳に追加

キャラクタ構成線の幅がアウトラインデータに対応する大きさとなるようにドットデータを設定することができるデータ出力方法を提供すること。 - 特許庁

The scanner first determines the needed scan width (302) and then performs a scan where the full width of the scan line is not illuminated (304).例文帳に追加

スキャナは、まず、必要なスキャン幅を決定し（３０２）、次に、スキャンを行うが、この場合、スキャンの全幅が照明されるわけではない（３０４）。 - 特許庁

To control the characteristics such as a line width of a pattern to be transferred using other characteristics than the upper limit of the spectrum width as spectrum characteristics of laser light.例文帳に追加

レーザ光のスペクトル特性として、スペクトル幅の上限値以外の特性を用いて、露光されるパターンの線幅等の特性を制御する。 - 特許庁

The line width d_1 and the erasing width d_2 are equal to or larger than a minimum detection unit d_3 of the printed matter (d_3≤d_1≤d_2).例文帳に追加

また、線幅ｄ_1及び消去幅ｄ_2は、印刷物５００の最小検出単位ｄ_3と同一又はそれよりも大きい（ｄ_3≦ｄ_1≦ｄ_2）。 - 特許庁

The total value of the width dimension of the decorative recessed part 5 positioned on the cross-line of the panel material 2 is set to 1/2 of the width of the panel material 2 or shorter.例文帳に追加

パネル素材２の横断線上に位置する意匠凹部５の幅寸法の合計値をパネル素材２の幅の１／２以下に設定する。 - 特許庁

To provide a light source which materializes a single spectral line width with a half-value width of ≤1 MHz and which is not affected by variation in surrounding temperature of use.例文帳に追加

半値幅１ＭＨｚ以下の単一なスペクトル線幅を実現し、使用環境温度の変化の影響を受けない光源を提供する。 - 特許庁

To provide an efficient method of forming a wiring conductor which can meet such demands as thinning of line width and increase of line thickness.例文帳に追加

線幅の細線化および線厚の増大といった要望に応え得る配線導体の能率的な形成方法を提供する。 - 特許庁

The distance from the extracted center line to the line segment array constituting the edges of the road graphics is calculated to acquire a road width (S104).例文帳に追加

抽出された中心線から、道路図形の縁を構成する線分列までの距離を算出し、道路幅を取得する（Ｓ１０４）。 - 特許庁

A strip conductor 11 of a coplanar waveguide A has the same line width as that of a strip conductor 21 of a strip line B and they are formed continuously.例文帳に追加

コプレナウェーブガイドＡのストリップ導体１１とストリップ線路Ｂストリップ導体２１とを同じ線幅とし互いに連続して形成する。 - 特許庁

To reduce notches, while preserving the line width of a line image in the case of applying binary processing to a shade image.例文帳に追加

濃淡画像の二値化を行う画像処理装置において、線画像の線幅を保存しつつ、ノッチも低減することができるようにする。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern capable of forming a line pattern having a narrower line width than a resolution limit of an exposure device.例文帳に追加

露光装置の解像限界よりも狭い線幅を有するラインパターンを形成可能な微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a black matrix resist composition having high sensitivity and excellent in property of retaining a line width in fine line patterns (development margin) in alkaline development.例文帳に追加

高感度で、かつアルカリ現像時の細線パターンの線幅保持性（現像マージン）に優れるブラックマトリックスレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The shield 30 is formed usually in line symmetry with respect to the direction of core width for an arrangement position of the read element and line symmetry in the direction of height.例文帳に追加

シールド３０は、通常はリード素子の配置位置に対してコア幅方向に線対称、ハイト方向に線対称に形成する。 - 特許庁

A distance L' between a left end signal line X and the adjacent signal line X is made to be shorter than a width W of a pixel electrode 15.例文帳に追加

左端の信号線Ｘと、その隣の信号線Ｘとの間隔Ｌ’は画素電極１５の幅Ｗよりも短くなっている。 - 特許庁

In particular, the interconnection line has a line width thinner than that of the microstripline so as to have a characteristic impedance higher than that of the microstripline.例文帳に追加

特に、中継ラインは、マイクロストリップラインよりも特性インピーダンスが高くなるよう、該マイクロストリップラインの線幅よりも細い線幅を有する。 - 特許庁