「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

The ratio (Re/Rs) of a resistance value (highest resistance value) Rc per unit length of a center part having the line width Wc to a resistance value (lowest resistance value) Rs of a part having the line width Ws is 1.5-3.0.例文帳に追加

中央の線幅Ｗｃの部分の単位長さ当たりの抵抗値（最高抵抗値）Ｒｃの、線幅Ｗｓの部分の抵抗値 （最低抵抗値）Ｒｓに対する比（Ｒｅ／Ｒｓ）が１．５〜３．０とされている。 - 特許庁

To provide a development processing method capable of accurately controlling a line width of a second resist pattern in a second development processing of double patterning by LLE and accurately controlling a line width of a first resist pattern as well.例文帳に追加

ＬＬＥによるダブルパターニングの２回目の現像処理において、２回目のレジストパターンの線幅を精度良く制御でき、１回目のレジストパターンの線幅も精度良く制御できる現像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for setting laser beam machining data with which a working pattern for forming a working line or a working face having a wider width than the width of the working line by a laser beam is generated easily.例文帳に追加

レーザ光による加工線幅よりも広い幅を有する加工線又は加工面を形成するための加工パターンを容易に生成することができるレーザ加工データ設定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method and apparatus which can control accurately the line width of a resist pattern formed on a substrate and can improve the uniformity of the line width of the entire part of a substrate or on a substrate surface.例文帳に追加

基板上に形成されたレジストパターンの線幅を精密に制御でき、基板ごと又は基板面内での線幅の均一性を向上させることができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

When a line pulse duty factor mr is defined by an electrode finger width of an electrode finger constituting the IDT electrode/(the electrode finger width + a space between electrode fingers), the line pulse duty factor mr satisfies 0.41<mr<0.53.例文帳に追加

また、前記ＩＤＴ電極１２を構成する電極指の電極指幅／（電極指幅＋電極指間のスペース）をライン占有率ｍｒとした時に、ライン占有率ｍｒが、０．４１＜ｍｒ＜０．５３を満足する。 - 特許庁

A pipeline net model diagram for displaying respective pipelines by line width corresponding to the thickness of a pipe or a pipeline net model diagram for displaying respective pipelines by line width corresponding to the quantity of fluid flowing into respective pipelines is outputted.例文帳に追加

各管路を対応する配管の太さに応じた線幅にて表示する管網モデル図、あるいは、各管路をそこを流れる流体の量に応じた線幅にて表示する管網モデル図を出力するものである。 - 特許庁

Besides, the optimum image forming condition is adjusted based on the optimum image forming condition calculated by the sensor 5 and the measurement data of the line width measured by the sensor 6 so that the line width becomes a proper value.例文帳に追加

また、濃度検知センサ５により算出した最適画像形成条件と、レジ検知センサ６により測定したライン幅の測定データから、ライン幅が適正値となるように最適画像形成条件を調整する。 - 特許庁

These slits have continuous slit parts 8 formed in parallel with wide line width wiring 3 on the array substrate side and discontinuous parts 9a formed in parallel with narrow line width wiring 4.例文帳に追加

このスリットは、アレイ基板１側の線幅の広い配線３と平行に形成された連続スリット部８と、線幅の狭い配線４と平行に形成された不連続部９ａを有する不連続スリット部９とを備えている。 - 特許庁

Since the line width of the black layer 34 is set narrower than the line width of the silver layer 35 during the development and the silver layer 35 of the electromagnetic wave shield layer is shrunk during the heat treatment, conductivity and a high opening rate can be attained, .例文帳に追加

現像時に黒色層３４の線幅を銀層３５の線幅よりも狭くし、熱処理時に電磁波シールド層の銀層３５を収縮させるので、導電性と高い開口率を得ることができる。 - 特許庁

Lw is the width of the collision region in the width direction per nozzle to the steel plate which is present on the pass line, H is the height from the steel plate which is present on the pass line to the tip of the nozzle and δ is the maximum camber which is generated on the steel plate.例文帳に追加

Ｌｗ：パスラインにある厚鋼板に対するノズル１個当たりの幅方向の衝突領域幅、Ｈ：パスラインにある厚鋼板からノズル先端までの高さ、δ：厚鋼板に発生する最大反り量 - 特許庁

In contrast, when the measured line width in the peripheral portion is smaller than the targeted line width, a treatment liquid must be supplied to the peripheral portion of the wafer after the development processing, and an amount of the treatment liquid to be supplied is set (Step S5).例文帳に追加

外周部の線幅測定結果が目標線幅より小さい場合には、現像処理後においてウェハの外周部に処理液を供給させ、当該処理液の供給量を設定する（ステップＳ５）。 - 特許庁

Since the library of the light intensity distribution of a virtual pattern is created, based on the measured refractive index n after pattern formation and the like, the precise line width adapted to the pattern state at the time of line width measurement is measured.例文帳に追加

仮想パターンの光強度分布のライブラリがパターン形成後の実測の屈折率ｎなどに基づいて作成されるので，線幅測定時のパターン状態に適合した正確な線幅が測定される。 - 特許庁

It is possible to indirectly measure electrode line width by measuring height from the base 3 by using a linear relation between the height from the base 3 of the tapered pattern 2 and the electrode line width after patterning.例文帳に追加

パターニング後の先細りパターン２の底辺３からの高さと電極線幅との間の線形関係を用いて、底辺３からの高さを測定することで電極線幅を間接的に測定することができる。 - 特許庁

Potentials of the wide width part 211 of a main line 21a and the wid width part 211b of a main line 21b are set to be the same values (V1) in any unit pattern 20 by using a circuit equivalent to the electric circuit.例文帳に追加

なお、主線路２１ａの幅広部２１１ａや主線路２１ｂの幅広部２１１ｂの電位は、上記の電気回路と同等の回路を用いて何れの単位パターン２０においても同じ値（Ｖ１）に設定する。 - 特許庁

First, the line width of the inside of the wafer surface is measured after a photolithography process is completed, and a Zernike coefficient in a Zernike polynomial for indicating a plurality of in-plane pattern components is calculated from the in-plane line width measurement value of the wafer.例文帳に追加

先ず，フォトリソグラフィー工程が終了したウェハ面内の線幅を測定し，そのウェハ面内の線幅測定値から，複数の面内傾向成分を表すゼルニケ多項式のゼルニケ係数を算出する。 - 特許庁

To provide a radiation image information reader capable of making the line width of linear stimulating light condensed on a radiation image conversion panel thinner and the unevenness of the line width smaller without making the reader large in size.例文帳に追加

放射線画像情報読取装置において、装置サイズを大きくすることなく、放射線像変換パネル上に集光される線状の励起光の線幅をより細く、かつ線幅のムラをより少なくする。 - 特許庁

To perform parameter setting for automatic dimming easily in a short time without imposing a load on an operator so that an illumination level is maintained in a stable domain for line width measurement, when measuring a line width by a two-dimensional measuring machine.例文帳に追加

二次元測定機で線幅を測定する際に、照明レベルが線幅測定の安定領域に維持されるように、自動調光のパラメータ設定を作業員に負担をかけずに短時間で容易にできるようにする。 - 特許庁

In this case, when it is not impossible to secure the width of the cells with which all the cells included in the line can be included in the width of the table, the respective elements of the chart, line and cells are replaced with the elements accompanied with backward and forward line feeding by units (S435) for layout.例文帳に追加

このとき、行に含まれるすべてのセルを表の幅に収めることのできるセルの幅を確保できないときには、セルを単位に改行するよう表，行，セルの各要素を前後に改行を伴う要素に置き換えてレイアウトを行なう（Ｓ４３５）。 - 特許庁

A plurality of bit line structures BL, a source shunt line structure SH1, and a dummy line structure SH2 are juxtaposed on the same layer at a predetermined width and at a predetermined interval; and a via plug structure Via2 is configured on the source shunt line structure SH1.例文帳に追加

複数のビット線構造ＢＬ、ソースシャント線構造ＳＨ１、ダミー線構造ＳＨ２が所定幅および所定間隔で同層に並設されており、ソースシャント線構造ＳＨ１の上にビアプラグ構造Ｖｉａ２が構成されている。 - 特許庁

The fifth folding line 52 and the sixth folding line 53 are formed width-directionally in an apex point C, and the 9th folding line 56 and the 10th folding line 57 are formed between the first point A and the second point B.例文帳に追加

頂点Ｃには幅方向に第５の折り曲げ線５２及び第６の折り曲げ線５３が形成され、第１の点Ａ及び第２の点Ｂとの間には第９の折り曲げ線５６及び第１０の折り曲げ線５７が形成されている。 - 特許庁

A display width control part 206 examines the leading character of line data acquired from a display character information storage part 204, and the control part 206 adds an attribute of inter-character space reduction to line data of the preceding line, when detecting a character interdicted in the head of a line.例文帳に追加

表示幅制御部２０６は、表示文字情報蓄積部２０４から取得した行データの先頭文字を検討し、行頭禁則文字を検出したときは、前行の行データに文字間短縮の属性を付加する。 - 特許庁

In the cache device constituted so that a logical data line of a data array corresponds to a tag of an address array, the data array is constituted of a RAM whose physical line width is narrower than the line size of a logical data line.例文帳に追加

アドレスアレイの１のタグに対してデータアレイの論理的な１のデータラインが対応するよう構成されたキャッシュ装置であって、前記データアレイは論理的なデータラインのラインサイズよりも物理的なライン幅の狭いＲＡＭで構成する。 - 特許庁

Further, since a fourth transmission line is electromagnetically coupled to the first transmission line, by changing the route (line width etc.) of the fourth transmission line, the characteristics of the laminated balanced-to-unbalanced transformer can be adjusted.例文帳に追加

そして、第４の伝送線路が第１の伝送線路と電磁的に結合していることから、第４の伝送線路の経路（線路長等）を変更することで、積層型平衡不平衡変換素子の特性を調節することができる。 - 特許庁

A plotting control circuit 3 inputs an area decision signal S3 outputted from an area deciding part 4 and outputs a thick line width control signal S2 including information about the number of pixels corresponding to a thick line width, that is, pixels constituting the thick line width and information about a direction for plotting in each area to a counter part 2 for thick line plotting.例文帳に追加

描画制御回路３は、領域判定部４から出力される領域判定信号Ｓ３を入力し、太線幅に対応するピクセル数、すなわち太線幅が何ピクセルから構成されているのかについての情報と、領域毎に描画する方向についての情報とを含む太線幅制御信号Ｓ２を太線描画用カウンタ部２に出力する。 - 特許庁

The adjustable inductance filter is provided with a filter wiring line with first line width having a first end and a second end, at least one repair pattern with second line width that are arrayed between the first end and the second end of the filter wiring line, and at least one unit filter bank connected in parallel with the repair pattern.例文帳に追加

第１端部及び第２端部を備え、第１線幅を持つフィルタ配線ラインと、フィルタ配線ラインの第１端部と第２端部との間に配列され、第２線幅を持つ少なくとも一つのリペアパターンと、リペアパターンと並列に連結される少なくとも一つの単位フィルタバンクと、を備える調節可能なインダクタンスフィルタ。 - 特許庁

In the cutting method of the semiconductor substrate for cutting the semiconductor substrate into chips by irradiating it with a laser beam along the center line in the width direction of the cutting portion on the cutting schedule line, a recess is formed within the cutting schedule line, and cutting by the laser beam is carried out along the center line in the width direction of the recess.例文帳に追加

切断予定ラインの切断部の幅方向の中央線に沿ってレーザービームを照射し半導体基板を切断しチップとする半導体基板の切断方法において、前記切断予定ライン内に凹部を形成し、前記凹部の幅方向の中央線に沿ってレーザービームにより切断する。 - 特許庁

A pattern detecting section 50 detects whether or not a line is a vertical line in a width of one dot based on a target pixel and a pattern of two-bit data of a peripheral pixel adjacent thereto in a main scanning direction and a data converting section 60 converts multi-value data of the pixel forming the vertical line to light emission data so as to enlarge the width of the vertical line.例文帳に追加

パターン検出部５０は注目画素とその主走査方向に隣接する周辺画素の２ビットデータのパターンに基づいて１ドット幅の縦線か否かを検出し、データ変換部６０は縦線の幅が太くなるようにその縦線を構成する画素の多値データを発光データに変換する。 - 特許庁

The evaluation device is provided with a plurality of light sources vertically arranged by one side of the carrier line in the width direction Y perpendicular to the carrying direction X of the carrier line, and the light receiving part arranged by the opposite side of the carrier line in the width direction Y perpendicular to the carrying direction X of the carrier line.例文帳に追加

搬送ラインの搬送方向Ｘに対して垂直な幅方向Ｙにおいて、搬送ラインの一方の側方側に、縦方向に配置した複数の光源と、搬送ラインの搬送方向Ｘに対して垂直な幅方向Ｙにおいて、搬送ラインの他方の側方側に配置した受光部とを備える - 特許庁

A paper pressing member is arranged for pressing down the paper on the upstream side of a folding means for forming a second fold line, and the length of a pressing part of the paper pressing member is formed longer than a difference between a folding-back width formed by a first fold line and a folding-back width formed between the first fold line and the second fold line.例文帳に追加

第２折り目を形成する折り手段の上流側で用紙を押さえる用紙押さえ部材を設け、該用紙押さえ部材の押さえ部の長さを第１折り目により形成される折り返しの幅と、第１折り目と第２折り目との間に形成された折り返しの幅との差よりも長くする。 - 特許庁

In the case where the printing width of printing data in the line direction is smaller than a preset reference width, the printing operation is executed in a head batch driving mode, and in the case where it is larger than the reference width, the printing operation is executed in a head split driving mode.例文帳に追加

印字データのライン方向の印字幅が予め設定された基準幅より小さいときにはヘッド一括駆動モードで印字し、基準幅より大きいときにはヘッド分割駆動モードで印字する。 - 特許庁

The groove 3 in the peripheral direction includes a wide width groove 5a having a groove width GW2 which is 8-30% of a tread contact width TW and a central line CL of the groove to be separated from a tire equator C by a distance A of 5-30% of a tread contact width TW.例文帳に追加

この周方向溝３は、溝巾ＧＷ２がトレッド接地巾ＴＷの８〜３０％かつ溝中心線ＣＬがタイヤ赤道Ｃからトレッド接地巾ＴＷの５〜３０％の距離Ａをタイヤ軸方向に隔てた広巾溝５ａを含む。 - 特許庁

The center of the groove part exists between the first intersection and a third intersection P3 where a third virtual line L3 extending from a tire-width direction end part of a maximum-width belt layer 13B along the maximum-width belt layer outwardly in the tire-width direction intersects.例文帳に追加

溝部の中心が、バットレス部における、第１の交差部と、最大幅ベルト層１３Ｂのタイヤ幅方向端部から最大幅ベルト層に沿ってタイヤ幅方向外方へ延長した第３の仮想線Ｌ３が交わる第３交差部Ｐ３との間に存する。 - 特許庁

The liquid crystal display makes a shading layer 210 formed linearly on an opposite substrate 200 a large width part 211 partly having a larger width than the line width, and arranges a first spacer 600a to face the large width part 211 on an array substrate 100.例文帳に追加

対向基板２００上において線状に形成された遮光層２１０を部分的にその線幅よりも大きな幅を有する幅大部２１１とする一方で、アレイ基板１００上では第１のスペーサー６００ａを幅大部２１１に対向して配置する。 - 特許庁

When digital signals of 12 bit width, obtained from an OB (optical black) region for a plurality of lines of a CCD for determining a smear signal for one line are summed and averaged, a digital signal is used with a bit width (for example a digital signal of 8-bit width) that is smaller than the above-mentioned bit width.例文帳に追加

ＣＣＤの複数ライン分のＯＢ領域から得られる１２ビット幅のデジタル信号を加算平均して１ライン分のスミア信号を求める際に、前記ビット幅よりもビット幅の小さいデジタル信号（例えば、８ビット幅のデジタル信号）を使用する。 - 特許庁

A pressing part 37 of a position restriction mechanism part 7 arranged in line symmetry about the device center line Ca moves inward across the vehicle width, and thereby the pressing force for moving the body 1 in the direction across the vehicle width is given by the pressing part 37, and the body 1 moves in the direction across the vehicle width.例文帳に追加

装置中心線Ｃａに線対称に配置された位置規制機構部７の押付部３７が、車幅方向内側に移動することにより、車体１が車幅方向に移動する押付力が押付部３７により付与されて、車体１が車幅方向に移動することになる。 - 特許庁

The game board has a first decoration part, wherein at least the width of one part is a first width, the game frame has a second decoration part, wherein at least the width of one part is a second width which is larger than the first width, and the first decoration part and the second decoration part are disposed along a specific line.例文帳に追加

また、前記遊技盤は、少なくとも一部の幅が第１の幅である第１の装飾部を備え、前記遊技枠は、少なくとも一部の幅が前記第１の幅よりも広い第２の幅である第２の装飾部を備え、前記第１の装飾部と前記第２の装飾部を特定のラインに沿って配置した。 - 特許庁

Also, the space between the signal-line pattern 13 and the guard pattern 22 adjacent thereto may be narrowed more than the width of each guard pattern.例文帳に追加

また、隣接する信号線パターン１３とのガードパターン２２との間隔を該ガードパターンより狭くしてもよい。 - 特許庁

To provide a VCSEL having narrow line width required for high-speed optical communication, and a method for manufacturing the VCSEL.例文帳に追加

高速光通信に必要とされる狭い線幅のＶＣＳＥＬ、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Position precision of the subfields where the detailed patterns 8 are formed is calculated based on measured line width W.例文帳に追加

測定した前記線幅Ｗに基づいて、微細パターン８が形成されたサブフィールドの位置精度を算出する。 - 特許庁

To evenly etch the line width of a spiral type flat coil used for a bias coil type magnetic impedance element.例文帳に追加

バイアスコイル型磁気インピーダンス素子に用いられる渦巻き型の平面コイルの線幅を均一にエッチング加工する。 - 特許庁

To provide a mask pattern correcting method which can easily eliminate a minute level difference formed after line width correction of a pattern.例文帳に追加

パターンの線幅補正後に生じる微小段差を、簡易に解消できるマスクパターン補正方法を提供する。 - 特許庁

The plate-shaped comb teeth 31 are arranged in a line in the direction of their thickness, and the width of the end part 35 is tapered.例文帳に追加

板状櫛歯３１はその厚み方向に一列に配列され、先端部３５の幅が先細である。 - 特許庁

The right and left motion suppression damper 19 is arranged on a center line parallel to the body width direction of the connection bogie 3.例文帳に追加

左右動抑制ダンパ１９を連節台車３の車体幅方向と平行な中心線上に配設した。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave device capable of easily measuring electrode line width with high precision.例文帳に追加

簡単に、且つ測定精度良く、電極線幅を測定することができる弾性表面波装置を提供する。 - 特許庁

Luminance data are measured every fluorescent dots 31 of line image indicated by most thin width by single color.例文帳に追加

単一色によって最も細い幅に表示されたライン画像の蛍光ドット３１毎の輝度データを測定する。 - 特許庁