| 意味 | 例文 |
pattern afterの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3630件
When an emission pattern light from an optical beacon #3 cannot be received, the second emission of the emission pattern light begins, after a prescribed interval.例文帳に追加
そして、光学ビーコン#3からの発光パターン光を受光できないときには、所定時間経過後に2回目の発光パターン光の発光を開始する。 - 特許庁
To prevent a correcting circuit pattern from excessively being corrected under the influence of a level difference nearby a circuit pattern corner part of the correcting circuit pattern which is formed after rule-based OPC when model-based OPC is further performed.例文帳に追加
ルールベースOPC後に発生する補正回路パターンの回路パターンコーナ部近傍の段差の影響で、その補正回路パターンに対し更にモデルベースOPCを行ったときの過剰な補正を防止する。 - 特許庁
A pattern recording means 130 holds refluctuation patterns carrying out the performance redisplaying a ready-to-win state by refluctuating a pattern after leaving one pattern of the plurality of patterns to stop and display the other patterns.例文帳に追加
パターン記憶手段130は、複数の図柄のうち一つを残して他の図柄を停止表示した後、一つの図柄を再変動させ、リーチ状態を表示し直す演出をする再変動パターンを保持する。 - 特許庁
After pattern transfer is completed to all the divided regions, the resist layer 71 is collectively developed to form a resist pattern 79 and the substrate or the working layer 70 is subjected to cutting treatment by using the resist pattern as a mask.例文帳に追加
すべての分割領域毎にパタン転写が終了したのち、レジスト層71を一括現像してレジストパタン79を形成し、これをマスクにして基板又は加工層70を切削加工する。 - 特許庁
In a step 106, replacement arrangement possible areas 160, 161 in which the total value of lengths of a power supply pattern 151 and a ground pattern 152 after replacement is the wiring pattern length 150 or below are obtained.例文帳に追加
ステップS106では、置換え後の電源パターン151及びグランドパターン152の長さの合計値が配線パターン長150以下となる置換配置可能領域160,161が求められる。 - 特許庁
A hole-type mark being used for alignment of a mask pattern is provided on a solid pattern formed on a semiconductor substrate and the solid pattern is formed to cover a region including the opening of the mark after it is used.例文帳に追加
マスクパターンの位置合わせに使用するホールタイプのマークを半導体基板に形成したベタパターン上に設け、該マークの使用後にはマークの開口部を含む領域を被覆するようにベタパターンを形成する。 - 特許庁
The internal electrode pattern for additional lamination is printed just after arrangement of the internal electrode non-forming part 3c, and shape of the internal electrode pattern for additional lamination is made identical to an internal electrode pattern just before arrangement of the internal electrode non-forming part 3c.例文帳に追加
追加積層用の内部電極パターンは、内部電極非形成部3cの直後に印刷し、形状を内部電極非形成部3cの直前の内部電極パターンと同じにする。 - 特許庁
When the pattern is matched to the malfunction factor pattern, the lock instruction operation or unlock instruction operation is detected after changing the lock and unlock operation patterns based on the malfunction factor pattern.例文帳に追加
一方、誤作動要因パターンに一致すると判定したときは、当該誤動作要因パターンに基づいて施解錠操作のパターンを変更してから、施錠の指示操作または解錠の指示操作を検出する。 - 特許庁
To solve the problem wherein a data length remarkably extends after pattern conversion processing and causes deterioration in throughput in the case of a frame signal continuously including the signal sequence same as that of a flag pattern or a control pattern.例文帳に追加
フラグパターンや制御パターンと同一の信号列を連続して含むフレーム信号の場合には、パターン変換処理後にデータ長が大幅に延伸してスループットの低下を招くという課題を解決する。 - 特許庁
Then, when the figure pattern of each variation cycle performed before the last time is decided, the sub-CPU decides the figure pattern set with the expectation degree lower than the figure pattern derived by the variation cycle after one cycle.例文帳に追加
そして、サブCPUは、最終回よりも前に実行される各変動サイクルの図柄を決定するときには、1つ後の変動サイクルで導出する図柄以下の期待度が設定された図柄を決定する。 - 特許庁
After the groove pattern 3 is formed through development, the groove pattern 3 is re-exposed, to form a silanol-group containing layer 4 as a surface layer on the groove pattern 3, thereby controlling the amount and distribution of the silanol group.例文帳に追加
現像により溝パターン3を形成した後に、溝パターン3を再び露光して、溝パターン3の表層にシラノール基含有層4を形成することにより、シラノール基の量、分布が制御される。 - 特許庁
After a resist pattern 2a is formed by exposure/development treatment by means of a circuit pattern mask 3, laser is cast selectively on a part which fines the resist pattern 2a through an irradiation mask 4.例文帳に追加
回路パターンマスク3による露光・現像処理で、レジストパターン2aを形成した後、このレジストパターン2aの微細化を行う部分に対して照射マスク4を介して選択的にレーザを照射する。 - 特許庁
When the stop- timing advance announcement pattern of '3 more' is displayed, after three patterns are displayed at the center pattern display column 130, variation in the pattern is stopped and a prescribed display mode is formed.例文帳に追加
「あと3」という停止タイミング予告図柄が表示されると、中図柄表示列130では、その後3つの図柄が表示された後に、図柄の変動が停止して所定の表示態様が形成される。 - 特許庁
The pattern correcting material is supplied onto the substation 42 and after the pattern correcting material is temporarily held while being exposed to outside air, the pattern correcting material is stuck to the tip of the needle 441.例文帳に追加
サブステージ42上にはパターン修正材料が供給され、パターン修正材料が外気に触れる状態で一時的に保持された後、針441の先端にパターン修正材料が付着される。 - 特許庁
After the pattern exposure, the barrier film 103 is removed, and the resist film 102 subjected to the pattern exposure is developed to form a resist pattern 102a having a preferable profile.例文帳に追加
続いて、パターン露光を行なった後に、バリア膜103を除去し、さらに、パターン露光が行なわれたレジスト膜102に対して現像を行なって、形状が良好なレジストパターン102aを形成する。 - 特許庁
After the player is thus notified of the occurrence of the jackpot display mode and all the display patterns are changed again, the left pattern, the middle pattern and the right pattern are stopped as the final determined patterns.例文帳に追加
こうして大当たり表示態様となる旨が遊技者に示された後、全ての表示図柄を再び変動表示させた後(c)、左図柄、中図柄及び右図柄を最終確定図柄で停止させる。 - 特許庁
To prevent the occurrence of defects on a substrate after a developing step in the formation of an ultrafine photoresist pattern at least partially having a pattern of ≤0.25 μm pattern width.例文帳に追加
少なくともその一部にパターン幅が0.25μm以下のパターンを有する超微細なホトレジストパターンの形成において、現像処理工程後基板上に発生するディフェクトの発生を有効に防止する。 - 特許庁
Therefor, an insulating film is formed on the inductor pattern, and after the insulating film is removed to form a groove so that the inductor pattern may appear, the conductive pattern is conformaly formed on the groove and the insulating film.例文帳に追加
このため、インダクターパターン上に絶縁膜を形成し、インダクターパターンが現れるように絶縁膜を除去してグルーブを形成した後、グルーブと絶縁膜上にコンフォーマルに導電パターンを形成する。 - 特許庁
After the lapse of 1 ms from receiving the pattern stop command 33, all patterns are stopped and displayed, and determined, pattern variation now signals 51, 54 are turned off, and a pattern determination signal 52 is turned on for 100 ms.例文帳に追加
図柄停止コマンド33の受信から1ms経過後に、全図柄が停止表示されて確定し図柄変動中信号51,54がオフされ、図柄確定信号52が100msオンされる。 - 特許庁
This game machine is constituted to variably display patterns on a pattern display device when pattern starting conditions are established and to allow a player to recognize whether or not a privilege is granted depending on the display mode of the pattern stopped after that.例文帳に追加
遊技機は、図柄始動条件が成立すると図柄表示装置に図柄が変動表示され、その後に停止される図柄の表示態様によって遊技者に特典付与の可否を認識させる。 - 特許庁
The circuit pattern 13 is provided with a concave part 13a recessed into the connection 12 after being half-etched.例文帳に追加
回路パターン部13はハーフエッチングされて接続部12に対して凹状となる凹部13aを備える。 - 特許庁
Then, after the deceleration and variation of a center pattern are started, the performance operation is switched to the sudden performance.例文帳に追加
そして、中図柄の減速変動が開始されてから、演出動作が突発演出に切り換わる。 - 特許庁
After the formation of the resin layer 18, a protection layer 21 is formed so as to cover the whole face of the pattern layer 20.例文帳に追加
樹脂層18の形成後、模様層20の全面を覆うように保護層21が形成される。 - 特許庁
To reduce influences of showthrough where a base pattern is visualized after copying.例文帳に追加
本発明の課題は、地紋が、複写後に顕像化される場合に、裏写りの影響を少なくすることである。 - 特許庁
After that, the whole structural analysis is performed by extraction of subordinate sentences, sentence pattern analyses, and so on.例文帳に追加
その後、従属文の抽出および文型分析等により全体的な構造の解析を行う。 - 特許庁
After the focal point position is detected, the upper layer resist film is exposed and developed, and a resist pattern 12a is formed.例文帳に追加
焦点位置を検出した後、上層レジスト膜を露光、現像し、レジストパターン12aを形成する。 - 特許庁
After forming a sacrificial film on the first mask pattern 121, a hard mask film is formed on the sacrificial film.例文帳に追加
第1マスクパターン121上に犠牲膜を形成した後、犠牲膜上にハードマスク膜を形成する。 - 特許庁
Preferably, ultraviolet irradiation, heating treatment, and/or plasma treatment are performed to the resist film after pattern formation.例文帳に追加
好適には、パターン形成後のレジスト膜に紫外線照射、加熱処理及び/又はプラズマ処理を行う。 - 特許庁
After that, the ultraviolet-curable resin is solidified with ultraviolet irradiation for copying a pattern.例文帳に追加
このあと、紫外線硬化性樹脂を紫外線で固化させることで、パターンを転写するナノインプリント工法。 - 特許庁
A pattern coating layer 4 by the acrylate resin material is formed on a surface after curing the base layer 3.例文帳に追加
次いで、この基層3の養生後の面上にアクリル樹脂材による模様塗り層4が形成される。 - 特許庁
The correction amount is subtracted from the reference resist diameter to obtain the diameter of the circular pattern after correction.例文帳に追加
基準レジスト径から補正量を減算することにより、補正処理後の円形パターンの径が得られる。 - 特許庁
Then, a sub control board selects and controls a desired operation pattern based on the variable value after change.例文帳に追加
そして、サブ制御基板は、変更後の変数値に基づき、所望の動作パターンを選択し、制御を行う。 - 特許庁
Defects D1 and D2 are extracted through binarization of a reference image and the inspection image after the pattern matching thereof.例文帳に追加
基準画像と検査画像とをパターンマッチングした後に二値化し、欠陥D1,D2等を抽出する。 - 特許庁
Then, a sub control board selects and controls a desired operation pattern based on the variable value after change.例文帳に追加
そして、サブ基板は、変更後の変数値に基づき、所望の動作パターンを選択し、制御を行う。 - 特許庁
After the tread 12 has had the point symmetrical pattern, uneven wear is corrected by changing the direction of mounting of the tire.例文帳に追加
点対称のパターンとなった後、タイヤの装着の向きを変えることで、偏摩耗の是正が行われる。 - 特許庁
Thus, a player 2, etc., can enjoy display even before and after switching of the pattern variation.例文帳に追加
そのため、遊技者2等は図柄変動の切り替えを行う前後でも表示を楽しむことが可能になる。 - 特許庁
To form a pattern which is polyimide under heat treatment at ≤300°C and has good chemical resistance after the heat treatment.例文帳に追加
300℃以下の熱処理でポリイミドであり、かつ熱処理後の耐薬品性が良いパターンを形成する。 - 特許庁
A mark is disposed on an electrode substrate pattern from read mark data after reading the mark data from a storage device.例文帳に追加
記憶装置からマークデータを読み出し、読み出したマークデータから電極基板パターンにマークを配置する。 - 特許庁
After the resist pattern which becomes unnecessary is removed by ashing, the surface of the semiconductor substrate 1 is cleaned.例文帳に追加
不要となったレジストパターンをアッシングにより除去した後、半導体基板1の表面を洗浄する。 - 特許庁
Part of the pattern edge 12E attains the state lacking by the width |Δw| after the irradiation with the laser beam.例文帳に追加
レーザー光照射後は、パターンエッジ12Eの一部が幅|Δw|だけ欠損した状態となる。 - 特許庁
The composition forms a prescribed pattern through the alkali development after exposure, by the action of a photosensitive agent contained therein.例文帳に追加
本発明は、感光剤を有することで、露光後のアルカリ現像によって所定のパターンを形成できる。 - 特許庁
After that, the thermosetting of the resist pattern 4 is further carried out in the oven at 180 °C for 1 hour.例文帳に追加
その後、レジストパターン4を180℃で1時間オーブンに入れ、更にレジストパターン4の熱硬化を実施する。 - 特許庁
After that, a checker pattern is written with a lower write-in level than a normal write-in level.例文帳に追加
その後、チェッカパターンを通常の書き込みレベルよりも浅い書き込みレベルで書き込みする(ステップS202)。 - 特許庁
After the insulating film 5 is formed, the insulating film 5 is lifted-off to form an opening part of a mask pattern 6.例文帳に追加
絶縁膜5の形成後、該絶縁膜5をリフトオフ処理してマスクパターン6の開口部を形成する。 - 特許庁
In this configuration, the continuity of the needle traverse pattern before and after the change can be set to a desired value.例文帳に追加
このような構成では、変更前後の針振りパターンの連続性を所望のものにすることができる。 - 特許庁
As a method for transferring the conductive pattern precursor formed on a dielectric thin-film body by a conductive fine-particle dispersion liquid, a conductive particle pattern is electrified again by resupplying a solvent on the conductive pattern precursor after once removing a liquid membrane remaining on the conductive pattern precursor immediately after development.例文帳に追加
導電微粒子分散液により誘電性薄膜体上に形成された導電パターン前駆体を転写する方法として、現像直後の導電パターン前駆体に残存する液膜を一度除去した後、再び導電パターン前駆体上に溶媒を再供給することで導電性粒子パターンを再帯電する。 - 特許庁
When a predetermined operation signal is sent from an operation section after starting variable display of the presentation pattern, the presentation pattern is once stopped and displayed, and after the presentation pattern is variably displayed again, a presentation pattern is derived and displayed according to a predetermined lottery result with a predetermined timing, and a predetermined benefit is provided for a player.例文帳に追加
演出図柄の変動表示を開始した後に、操作手段から所定の操作信号が発せられたときには、演出図柄を、一旦、停止表示してから、再度、変動表示した後、所定のタイミングで、所定の抽選結果に応じた演出図柄を導出表示させるとともに、所定の利益を遊技者に付与する。 - 特許庁
When a power supply pattern is switched in the middle of one control unit, the power supply pattern is immediately switched in the case that the last power supply direction of the power supply pattern before switching is different from that after switching, but the power supply pattern is switched after passage of one half wave in the case that they agree with each other.例文帳に追加
また、1制御単位の途中で通電パターンを切り換える際、切り換え前の通電パターンの最後の通電方向と切り換え後の通電パターンの最初の通電方向とが異なっていた場合は直ちに通電パターンを切り換え、一致していた場合は1半波の経過を待ってから通電パターンを切り換える。 - 特許庁
In the pattern electrode forming process of the manufacturing method, after the pattern electrodes 2 are formed on the flat face S of the support plate 1, it is desirable to make the surfaces of the pattern electrodes 2 rough and it is also desirable to form the pattern electrodes 2 after mold release is applied to the flat face S.例文帳に追加
前記製造方法のパターン電極形成工程において、前記支持板1の平坦面Sにパターン電極2を形成した後、そのパターン電極2の表面を粗面にすることが好ましく、また前記平坦面Sに離型剤を塗布した後、パターン電極2を形成することが好ましい。 - 特許庁
For the pachinko machine 1, a special pattern display part 3 capable of stop-displaying a special pattern after making it fluctuate is provided on the almost center of a game area 2 and a normal pattern display part 9 capable of stop-displaying a normal pattern after making it fluctuate and 3 large winning port 7 are provided on the lower part of the game area 2.例文帳に追加
パチンコ機1aは、遊技領域2の略中央に、特別図柄を変動させた後に停止表示可能な特別図柄表示部3が設けられており、遊技領域2の下方に、普通図柄を変動させた後に停止表示可能な普通図柄表示部9、大入賞口7が設けられている。 - 特許庁
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