「pattern after」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

After the fixed part 52 is removed, a film 33 is bonded on the pattern wiring 32, and then the film 33 and the pattern wiring 32 are separated from the support board 46.例文帳に追加

定着部５２を除去した後にパターン配線３２の上にフィルム３３を接着し、これらを支持基板４６から分離させる。 - 特許庁

The piece of music is continually outputted even when the next pattern combination game is not started after the end of the pattern combination game.例文帳に追加

前記音楽は、図柄組み合わせゲームの終了後、次の図柄組み合わせゲームが開始されない場合でも、継続して出力される。 - 特許庁

Besides, since the polarity of the pattern becomes reverse between the continuous frames, the pattern is not noticed by the observer 108 because of the after image characteristics of eye.例文帳に追加

そのうえ、そのパターンは連続するフレーム間で極性が逆なため、観察者１０８には眼の残像特性により気付かれない。 - 特許庁

A matrix-like random pattern is generated for each frame in a pseudorandom code generating section as the dither toggle pattern, or is reused after reversing bits.例文帳に追加

ディザトグルパターンとしてマトリクス状のランダムパターンを擬似ランダム符号生成部でフレームごとに生成し、またはビット反転の後再利用する。 - 特許庁

The contour of a circuit pattern on a photomask manufactured, based on the circuit pattern data after designed, is detected to create the line data.例文帳に追加

設計後の回路パターンデータに基づいて製造されたフォトマスク上の回路パターンの輪郭を検出し、その線データを生成する。 - 特許庁

If a jackpot is determined, for example, its announcement is started using a normal changing sound with a delay of Ta from the start of changing pattern, after which a right pattern and a left pattern are stopped with the accompaniment of pattern stop sounds.例文帳に追加

例えば、大当りと判定された場合には、図柄変動の開始からＴａ遅らせて通常変動音による報知を開始させ、その後、左図柄と右図柄を夫々図柄停止音を伴わせて停止させる。 - 特許庁

To form a mask pattern of high dimensional precision by preventing the change of width of a mask pattern line after plasma dry etching to a resist pattern turning to an etching mask, in a forming method of a mask pattern for an EUV lithography.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用のマスクパターン形成方法において、エッチング・マスクとなるレジストパターンに対するプラズマ・ドライエッチング後のマスクパターン線幅変動を防止し、高寸法精度なマスクパターンを形成することを目的とする。 - 特許庁

The positional relationship between the overlapped portion M1' of the line pattern image LP1" and the line pattern image LP3' and the overlapped portion M2' of the line pattern image LP2" and the line pattern image LP4' is measured after developing the wafer.例文帳に追加

そして、ラインパターンの像ＬＰ１”とラインパターンの像とＬＰ３’との重なり部分Ｍ１’と、ラインパターンの像ＬＰ２”とラインパターンの像ＬＰ４’との重なり部分Ｍ２’との位置関係が、ウエハの現像後に計測される。 - 特許庁

When reel presentation is performed right after the power-on, a reel controller of the game machine refers to the stored excitation pattern and an excitation pattern corresponding the relevant excitation pattern is determined as a start position, from which switching of excitation pattern is started.例文帳に追加

電源投入直後において、回胴演出を行う際は記憶した励磁パターンを参照し、当該励磁パターンに対応する励磁パターンを開始位置とし、そこから励磁パターンの切り替えを開始する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern is characterized in that after a resist pattern is formed, a resist pattern thickening material containing a resin, a crosslinking agent and a nitrogen-containing compound is applied so as to cover the surface of the resist pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの製造方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、樹脂と、架橋剤と、含窒素化合物とを含有するレジストパターン厚肉化材料を塗布することを特徴とする。 - 特許庁

A pattern for position detection and a pattern for density correction are plotted on the surface of the intermediate belt with the lapse of fixed time, and the pattern for density correction is detected with the lapse of fixed time after detecting the pattern for position detection.例文帳に追加

中間ベルト表面に位置検出用パターン及び濃度補正用パターンを一定時間を隔てて描画し、位置検出用パターン検出後にこの一定時間を隔てて濃度補正用パターンを検出する。 - 特許庁

In addition, after transferring the resist pattern onto a protective film by etching, a resist film is reapplied and a pattern is formed, thereby transferring only the objective fine pattern onto a substrate, while preventing the transfer of the auxiliary pattern.例文帳に追加

更に、このレジストパターンを保護膜にエッチングで転写した後、再度レジスト膜を塗布し、パターンを形成することで、補助パターンが基材に転写されることを防ぎ、目的とする微細パターンのみを基材に転写する。 - 特許庁

After a pattern of the magnetic layer 12 is obtained by using the protective layer pattern 14P as a hard mask, the pattern of the magnetic layer 12 is exposed to the hydrogen plasma PLH to remove halogen active species adhering to the pattern of the magnetic layer 12.例文帳に追加

そして、保護層パターン１４Ｐをハードマスクにして磁性層１２のパターンを得た後に、磁性層１２のパターンを水素プラズマＰＬＨに晒して、磁性層１２のパターンに付着したハロゲン系の活性種を除去した。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition for suppressing formation of a T-shaped top in a pattern after developed, and suppressing wrinkles or generating flows induced in a pattern, after post-baking.例文帳に追加

現像後のパターンがＴ−Ｔｏｐ形状となることを抑制し、かつ、ポストベーク後のパターンにシワを生じたり、フローを生じたりすることを抑制できる感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

Consecutively after a step of forming a pattern on the surface of a web-type substrate by roll-to-roll techniques, the patterned surface just after the pattern formation is surface treated by bringing a roll-type object close to the surface.例文帳に追加

ロールｔｏロール工法でウェブ基材の表面上にパターンを形成する工程に引き続いて、形成直後のパターン表面にロール状物体を近接させて表面処理をする。 - 特許庁

After a fixed period elapses after starting the scroll display of the entire display patterns, the scroll display speed of a left pattern is reduced and the left pattern is completely stopped in the display form of '7'.例文帳に追加

全表示図柄のスクロール表示を開始してから一定期間経過した後、左図柄のスクロール表示速度を減速させ、左図柄を「７」の表示態様で完全停止させる。 - 特許庁

When finishing trapezoidal pattern operation, measurement of amplitude of the suspending cargo is immediately started, and after a prescribed time passes after finishing the trapezoidal pattern operation, the time of swing angle zero is measured.例文帳に追加

台形パターン運転が終了すると、直ちに吊り荷の振幅の計測が開始され、台形パターン運転が終了後所定時間経過後に振れ角零の時刻が計測される。 - 特許庁

The photomask is formed in a pattern after such shape correction, so that a transfer shape equal to the transfer shape obtained using a photomask formed in the pattern after OPC can be obtained.例文帳に追加

このような形状補正後のパターンでフォトマスクを形成し、ＯＰＣ後のパターンで形成したフォトマスクを用いたときに得られる転写形状と同等の転写形状を得るようにする。 - 特許庁

Whether a foot pattern is updated or not is inquired to the library controller by an update inquiry part 11, a new foot pattern after updated is indicated by an updated library acquirement propriety indicating part 12 when the foot pattern is updated, and the new foot pattern after updated is acquired by an updated library acquiring part 13.例文帳に追加

フットパターンが更新されているか否かを更新問合部１１でライブラリ管理装置に問い合わせ、フットパターンが変更されていたときに更新ライブラリ取得可否指定部１２で更新後の新たなフットパターンを指定し、更新ライブラリ取得部１３で更新後の新たなフットパターンを取得する。 - 特許庁

After a resist pattern 33 is formed, the pattern 33 is thermally treated in the case of increasing its width, and the pattern 33 is irradiated with ultraviolet rays and then thermally treated in the case of reducing its width.例文帳に追加

レジストパターン３３形成後、この幅を大きくする場合はパターン３３を熱処理し、この幅を小さくする場合はパターン３３に紫外線照射してから熱処理をする。 - 特許庁

In the pachinko machine 1, when the non-specific pattern is once stopped after fluctuation of the special patterns, each special pattern is refluctuated to possibly display the specific pattern.例文帳に追加

さらに、パチンコ機１は、特別図柄の変動後に、「非特定図柄」が一旦停止表示された場合であっても、各特別図柄が再変動して「特定図柄」が表示され得るようになっている。 - 特許庁

To conduct the formation of a pattern with higher accuracy and high aesthetic property while maintaining the flushness of the surface of a metal body after the pattern is formed in a method of forming the pattern on the surface of the metal body.例文帳に追加

金属体表面にパターンを形成する方法において、パターン形成後の金属体表面の面一性を保ちつつ、より正確で審美性の高いパターン形成を行う。 - 特許庁

Thereafter, the established pattern of the normal pattern supposed to be displayed during the inhibition period PT (the time t1) is displayed on the normal pattern display device after the lapse of the inhibition period PT (the time t2).例文帳に追加

その後、禁止期間ＰＴ中（時刻ｔ１）に表示される筈であった普通図柄の確定図柄は、禁止期間ＰＴの経過後に（時刻ｔ２）、普通図柄表示装置に表示される。 - 特許庁

After cores 2A and 2B are formed into a cross pattern, a branched pattern or a linear pattern, a photosensitive resin layer 3A for forming an over-cladding layer is formed to cover the cores 2A and 2B.例文帳に追加

コア２Ａ，２Ｂを交差パターン，分岐パターンまたは直線パターンに形成した後、このコア２Ａ，２Ｂを被覆するようオーバークラッド層形成用の感光性樹脂層３Ａを形成する。 - 特許庁

The demonstration screen display command is transmitted immediately after the power supply or reset of the game controller 100 and the stop pattern notice for each pattern is transmitted for each pattern fluctuation.例文帳に追加

デモ画面表示指令は、遊技制御装置１００の電源投入またはリセット直後に送信され、図柄別停止図柄通知は図柄変動毎に送信されるようにした。 - 特許庁

To provide an image plotting device capable of fast performing plotting processing by using a small-scale circuit in the case of repeatedly plotting a pattern image after enlarging the pattern image and applying shift processing to the pattern image.例文帳に追加

パターン画像を拡大してシフト処理を行った上でくり返して描画する際に、小規模な回路を用いて高速に描画処理が可能な画像描画装置を提供する。 - 特許庁

To form the pattern of partitions for a plasma display device into a specified shape more surely than ever, by preventing a pattern forming material from bearing electrical charges immediately after forming the pattern of the partitions.例文帳に追加

プラズマ表示装置の隔壁のパターンを形成する際に、仮形成直後のパターン形成材料の帯電を抑制し、所定の形状を有するパターンをより確実に形成する。 - 特許庁

For example, a light-emitting operation by the light-emitting patterns P1 is executed after one minute dapses the light-emitting operation by the light-emitting pattern P2 is executed after two minutes pass and, moreover, the light-emitting operation by the light-emitting pattern P5 is executed after a five minutes elapse.例文帳に追加

たとえば、１分経過後には発光パターンＰ１による発光動作を行い、２分経過後には発光パターンＰ２による発光動作を行い、さらに、５分経過後には発光パターンＰ５による発光動作を行う。 - 特許庁

In addition, the sheet does not require an irradiation process and a thermosetting process to the resist ink layer after thermal transfer and enables an etching process to be performed immediately after the formation of a resist ink pattern.例文帳に追加

前記熱転写シートは、基材の上にスチレンマレイン酸系樹脂を主成分とするレジストインク層が設けられたものである。 - 特許庁

After finishing the photolithography process, move on to an etching process (treatment S4) wherein a wiring pattern is formed.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程終了後、エッチング工程に移行し（処理Ｓ４）、配線パターンを形成する。 - 特許庁

The pattern sewing start position after the shifting should be the needle position close to the final needle position (C).例文帳に追加

また、移行後のパターンの縫い始め位置を最終針位置に近い方の針位置とする（Ｃ）。 - 特許庁

After that, by detecting and interpreting the consistent pattern, the original identification mark can be found.例文帳に追加

その後、一貫したパターンを検出して解釈することにより、元の識別マークが検索される。 - 特許庁

To improve a throughput by efficiently preventing variation generated in a pattern dimension after processing.例文帳に追加

加工後のパターン寸法にバラツキが生ずることを効率的に防止し、スループットを向上する。 - 特許庁

A transparent resin layer 5 is formed, in a way contrary to the conventional one, after the dark color convex pattern layer is printed.例文帳に追加

透明樹脂層５は従来とは逆に暗色凸状パターン層印刷後に形成する。 - 特許庁

After that, the resist 3 is removed and the conductive pattern 6 is formed on the wafer substrate 1.例文帳に追加

そして、レジスト３を除去することにより、ウエハ基板１上に導電性パターン６を形成する。 - 特許庁

The player executes a game after selecting a change pattern which may effectively utilize the feature of the player.例文帳に追加

プレーヤは、自分の特長を生かすであろう変化パターンを選択した後にゲームを実行する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition excellent in pattern uniformity and heat resistance after a hard baking step.例文帳に追加

ハードベーク工程後のパターン均一性及び耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供。 - 特許庁

Subsequently, after depositing a metallic film 7, the surface thereof is polished to cause the channel protecting pattern expose to the external.例文帳に追加

次に、金属膜７を堆積しその表面を研磨してチャンネル保護パターンを露出させる。 - 特許庁

The pits are arranged in an information supply pattern, and can be read even after treatment on the wafer is completed.例文帳に追加

ピットは情報提供パターンに配置され、ウェハ上の処理が完了した後も可読できる。 - 特許庁

After that, the game machine executes a ready-to-win performance display, or a development destination, according to each variable display pattern.例文帳に追加

その後、各可変表示パターンに対応して発展先となるリーチ演出表示を実行する。 - 特許庁

A clear coating 4 may be layered on the hot-dipped layer 2 after the abrasive mesh pattern has been formed.例文帳に追加

研磨目模様を付けた後、溶融めっき層２の上にクリア塗膜４を積層しても良い。 - 特許庁

After the elapse of a prescribed time interval, the lowering of the updated speed of the left pattern in the capsule 51a is started.例文帳に追加

一定時間経過後に、カプセル５１ａ内の左図柄の更新速度を低下を開始する。 - 特許庁

After that, a preliminarily created master pattern is corrected on the basis of the oblique incidence effect.例文帳に追加

その後、前記斜入射効果に基づいて、予め作成しておいたマスクパターンを補正する。 - 特許庁

This eliminates pattern dependence within the wafer surface, even if the emitter 9 is formed after heat treatment.例文帳に追加

これにより、その後にエミッタ部９を形成しても、ウエーハ面内におけるパターン依存性が無くなる。 - 特許庁

The test pattern is stored in the compile data storage part 13 after it is compiled by a compile part 12.例文帳に追加

該テストパタンは、コンパイル部１２によってコンパイルされた後、コンパイルデータ記憶部１３に記憶される。 - 特許庁