「pattern after」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

In a variation pattern PT2-2, after the variation of all the patterns is started, the deceleration and stoppage of the left pattern and the deceleration and stoppage of a right pattern are successively performed, and the variable display state of decorative patterns becomes a ready-to-win display state.例文帳に追加

変動パターンＰＴ２−２では、全図柄変動が開始されてから、左図柄の減速停止、右図柄の減速停止が順次に行われ、飾り図柄の可変表示状態がリーチ表示状態となる。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition which is excellent in pattern formation, adhesiveness after pattern formation, heat resistance after adhesion and moisture resistance reliability, to provide an adhesive sheet, an adhesive pattern, a semiconductor wafer with adhesive layer, and a semiconductor device which use the photosensitive adhesive composition and to provide a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

パターン形成性、パターン形成後の接着性、接着後の耐熱性及び耐湿信頼性に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The oscillating variation by the error process may be performed for each special pattern after the variation time for each special pattern has passed, or the oscillating variations may simultaneously be performed after the variation time for the right special pattern has passed, i.e., the variation time for all special pictures has passed.例文帳に追加

このエラー処理による揺れ変動は、各特別図柄の変動時間経過後に各特別図柄毎に揺れ変動を実行しても良いし、右特別図柄の変動時間経過後、即ち全ての特別図柄の変動時間経過後に一斉に揺れ変動を実行しても良い。 - 特許庁

The pachinko game machine 1 has a following function; after the start of variation of the display, the variation is tentatively stopped to display a special pattern as a first step display, and after that, the special pattern displayed as the first step display is made to vary again, then the variation is stopped to display a special pattern as a second step display.例文帳に追加

パチンコ機１は、特別図柄の変動開始後に、第一段階表示として特別図柄を仮停止表示した後、第一段階表示された特別図柄を再度変動させ、しかる後に、第二段階表示として特別図柄を表示する機能を有している。 - 特許庁

After the line width or the like of the resist pattern is measured (step 11) by recognizing the pattern after developing (step 10), the measured result is fed forward to etching (step 13) to be performed later and by performing etching in optimal treatment conditions, the precise circuit pattern can be finally formed.例文帳に追加

現像（ステップ１０）後のレジストパターンを認識してパターンの線幅等を測定した後（ステップ１１）、この測定結果をその後に行われるエッチング処理（ステップ１３）にフィードフォワードし、最適な処理条件でエッチング処理を行うことにより、最終的に精密な回路パターンを形成することができる。 - 特許庁

It obtains a reference image 2' corresponding to the optical proximity effect correction mask and a reference image 3' corresponding to the OPC pattern after converting a format of the EB data 2 (after OPC) and the EB data 3 (after SUB).例文帳に追加

ＥＢデータ（ＯＰＣ後）２とＥＢデータ（ＳＵＢ後）３のフォーマット変換を行った後、光学近接効果補正マスクに対応する参照画像２’と、ＯＰＣパターンに対応する参照画像３’を得る。 - 特許庁

This mask M used in the proximity exposure device PE includes a mask pattern provided with a main pattern part 81 having a line-like opening, and a transmissive line-like auxiliary pattern part 83 formed in a side of the main pattern part 81 and not resolved after development processing.例文帳に追加

近接露光装置ＰＥで使用されるマスクＭには、ライン状の開口を有する主パターン部８１と、該主パターン部８１の側方に形成され、現像処理後に解像されない透過性でライン状の補助パターン部８３とを備えるマスクパターンが形成されている。 - 特許庁

That is to say, after finishing the big win game state, unless the variable display of the special pattern and the failure pattern as the determinate pattern are repeated by the special pattern display device by a prescribed frequency K1, the rotation-period shortening game state is not started.例文帳に追加

つまり、大当り遊技状態の終了後に、特別図柄表示器による特別図柄の変動表示および確定図柄としてハズレ図柄の表示が第１所定回数Ｋ１だけ連続して繰り返されないことには、時短遊技状態が開始されない。 - 特許庁

When constituting a mask 10 for exposure whereby a desired pattern is exposed and transcribed to an exposed substance, the desired pattern is divided into a plurality of after-division patterns A, B in response to differences between the inspection accuracies required by the pattern portions constituting the desired pattern.例文帳に追加

被露光体上に所望パターンを露光転写するための露光用マスク１０を構成するのにあたり、前記所望パターンを構成するパターン部分が要求する検査精度の違いに応じて当該所望パターンを複数の分割後パターンＡ，Ｂに分割する。 - 特許庁

A dummy pattern to be preliminarily included in the design pattern is produced not in the whole memory cell array which contains not only a memory cell part but a sense-up part and a decoder part, but in an individual block unit by using CAD tools so as to obtain a desired pattern form of the transfer pattern after exposure.例文帳に追加

露光後の転写パターンを所望のパターン形状にするために、ＣＡＤツールを用いて、メモリセル部のみならずセンスアンプ部やデコーダ部を含んだメモリセルアレイ部全体ではなく、個別ブロック単位に、予め設計パターンに入れておくダミーパターンを発生させる。 - 特許庁

A specific pattern and a non-specific pattern are set as the big prize patterns, and when the displayed big prize pattern is the specific pattern, a high probability condition which is advantageous to the player is generated after completion of the big prize condition.例文帳に追加

また、「大当たり図柄」として予め「特定図柄」と「非特定図柄」とが設定されており、表示された「大当たり図柄」が「特定図柄」である場合には、「大当たり状態」終了後に、遊技者にとって有利な「高確率状態」が生起するようになっている。 - 特許庁

Also, a 'specific picture pattern' and a 'non-specific picture pattern' are previously set as 'jackpot picture patterns,' and when a displayed 'jackpot picture pattern' corresponds to the 'specific picture pattern,' a high probability state 'favorable to the player is brought about after the 'jackpot state' is finished.例文帳に追加

また、「大当たり図柄」として予め「特定図柄」と「非特定図柄」とが設定されており、表示された「大当たり図柄」が「特定図柄」である場合には、「大当たり状態」終了後に、遊技者にとって有利な「高確率状態」が生起するようになっている。 - 特許庁

The display means 4 variably displays an object pattern 102 identified with the special pattern 104 on the display screen 4a, develops the object pattern 102 to the special pattern 104 after the lapse of a prescribed time, and stop-displays it in a prescribed display area 103L.例文帳に追加

表示手段４は、表示画面４ａ上に特別図柄１０４と同一視される物体図柄１０２を変動表示し、所定時間経過後、物体図柄１０２を特別図柄１０４へと成長させて所定の表示領域１０３Ｌに停止表示する。 - 特許庁

Then the pattern 91 is erased and a pattern 92 consisting of toner images 91B and 92M is similarly formed and after the pattern is erased, a pattern 93 consisting of toner images 91B and 93C is formed to detect relative position shifts between the toner images respectively.例文帳に追加

その後、パターン９１を消去して、同様にトナー像９１Ｂ，９２Ｍからなるパターン９２を、さらにその消去後にトナー像９１Ｂ，９３Ｃからなるパターン９３を同様に形成して、互いのトナー像の相対的な位置ずれをそれぞれ検出する。 - 特許庁

This pachinko machine 1 has the function of making a temporary stop display of a special pattern as a first stage display after the start of variation of the special pattern, then varying the special pattern displayed as the first stage display and displaying the special pattern as a second stage display.例文帳に追加

パチンコ機１は、特別図柄の変動開始後に、第一段階表示として特別図柄を仮停止表示した後、第一段階表示された特別図柄を再度変動させ、しかる後に、第二段階表示として特別図柄を表示する機能を有している。 - 特許庁

Concerning the device for measuring and evaluating the form of the mask pattern, mask pattern image data are inputted and after pattern form data are extracted by processing these data by a computer, a prescribed form characteristic value is measured so that the pattern form can be evaluated.例文帳に追加

マスクパターンの形状計測評価装置において、マスクパターン画像データを入力し、これをコンピュータ処理してパターン形状データを抽出した後、所定の形状特性値を計測処理することにより、パターン形状を評価することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a substrate with a polyorganosiloxane cured relief pattern which is a relief pattern having practical mechanical properties to be provided to a cured relief pattern as a permanent material, and free of residue and damage such as peeling at the bottom of the cured relief pattern after development.例文帳に追加

硬化レリーフパターンが永久材料として具備すべき実用レベルの力学物性を有し、現像後の硬化レリーフパターン底部に残滓や剥離などのダメージの無いレリーフパターンであるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン付き基材の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a game machine for providing the expectation of shifting to a specified pattern extremely advantageous to a player in the case that pattern re-fluctuation is performed after tentatively stopping at a large winning pattern as a result of the fluctuation of a pattern due to a start winning signal.例文帳に追加

始動入賞信号に起因する、図柄の変動の結果、大当り図柄で一旦停止した後、図柄再変動が行われた場合、遊技者に極めて有利な特定の図柄へ移行するかもしれないという期待感を持たせた遊技機を提供する。 - 特許庁

After sealing with insulating resin, the supporting substrate is removed and the conductive pattern is exposed from the insulating resin.例文帳に追加

絶縁性樹脂により封止したのち、支持基板を除去して導電パターンを絶縁性樹脂より露出させる。 - 特許庁

Since cleaning treatment can be done after reduction, a pattern composed only of target metal can be achieved.例文帳に追加

そして、還元後に洗浄処理を行うことが可能であるため、目的の金属のみから成るパターンが得られる。 - 特許庁

A time multiplexed section 102 multiplexes transmission data after spread processing with the mid-amble pattern to generate a transmission signal.例文帳に追加

時多重部１０２は、拡散処理後の送信データとミッドアンブルパターンと多重して送信信号を生成する。 - 特許庁

In a measuring step S20, the resist pattern form of basic patterns which are formed after exposure and development steps is measured.例文帳に追加

測定工程Ｓ２０では、露光、現像工程後に形成された基本パターンのレジストパターン形状を測定する。 - 特許庁

In the error process ER2, an oscillating variation is performed with stopped patterns after a variation time for each special pattern has passed.例文帳に追加

このエラー処理ＥＲ２では、各特別図柄の変動時間経過後に停止図柄で揺れ変動を実行する。 - 特許庁

The restricting information for disclosure is recovered if it is before the passage of a constant period after evasion in the recovery possible pattern.例文帳に追加

復元可能パターンでは、退避後一定時間の経過前であれば、開示制限情報を復元できる。 - 特許庁

Consequently, dimensional stability of the pattern is improved regardless of an elapsed time after the resist coating.例文帳に追加

これによりレジスト塗布後の据え置き時間によらずパターン寸法安定性を向上させることが可能となる。 - 特許庁

Data is written so that a reversed data pattern is stored in a spare word line before address conversion and after address conversion.例文帳に追加

アドレス変換前および変換後のスペアワード線には逆のデータパターンが格納されるようにデータを書込む。 - 特許庁

A transmission device A11 has a function of outputting data after outputting a clock pattern to a data line 13.例文帳に追加

送信デバイスＡ１１はデータ線１３上にクロックパターンを出力した後、データを出力する機能を備える。 - 特許庁

By this constitution, the electrophoretic system 1 can rapidly detect the separation pattern of the sample after electrophoresis.例文帳に追加

これによって、電気泳動装置１は、電気泳動後のサンプルの分離パターン検出を迅速に行うことができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is capable of restraining an adverse effect from being imposed on processes that are carried out after a symbol pattern is formed.例文帳に追加

記号パターン形成後の工程への悪影響を抑制することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing unit that can prevent periodic dot arrangement and a regular dot grown pattern from being caused in an image after threshold processing.例文帳に追加

二値化後の画像における周期的なドットの配置および規則的なドットの成長パターンを防止する。 - 特許庁

To provide a verification method for shortening a TAT (Turn Around Time) with high accuracy for a mask pattern after an OPC (Optical Proximity Correction).例文帳に追加

ＯＰＣ後のマスクパターンに対する、高精度で短ＴＡＴ化が可能な検証方法を提供する。 - 特許庁

An angle feature calculating part 13 calculates an angle feature expressing a handwriting direction from the inputted pattern after normalization.例文帳に追加

角度特徴計算部１３は、正規化後の入力パタンから筆記方向を表す角度特徴を計算する。 - 特許庁

Any color before and after the hydrophilic agent 10 visually changes is similar to the color of the pattern 12.例文帳に追加

親水性の剤１０が視覚的に変化する前後何れかの色と、模様１２の色とは類似色である。 - 特許庁

A nozzle hole 16 is formed after a nozzle pattern 13c is formed by depositing the metal film on the bowl- shaped recessed part.例文帳に追加

碗状凹部１５に金属被膜を蒸着し、ノズルパタ−ン１３ｃを形成した後、ノズル孔１６を形成する。 - 特許庁

After the scroll display of the determined single frame number, the big wind pattern is forcibly displayed to be stationary.例文帳に追加

そして、決定されたコマ送数のスクロール表示後に前記大当り図柄が強制的に静止表示される。 - 特許庁

To provide a video display device capable of decreasing a diffused pattern characteristic to a video after error diffusion processing.例文帳に追加

誤差拡散処理後の映像に特徴的な拡散パターンを軽減可能な映像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mold to achieve an excellent S/N ratio in a magnetic recording medium after transfer of a pattern.例文帳に追加

パターン転写後の磁気記録媒体において優れたＳ／Ｎ比が実現されるモールドを提供することにある。 - 特許庁

After the resist film is exposed and developed, a rectangular resist pattern 7 is obtained by performing developing processing.例文帳に追加

このレジスト膜を露光、加熱した後、現像処理を行うことによって矩形状のレジストパターン７が得られる。 - 特許庁

A binary processing part 7 binarizes CMY data after ROP processing, by the use of a prescribed binary pattern for each color.例文帳に追加

２値化処理部７は、各色毎に所定の２値化パターンを用いて、ＲＯＰ処理後のＣＭＹデータを２値化する。 - 特許庁

After the pattern formation, the substrate 5 is thermally treated to set the conductive substance, thereby completing a circuit board.例文帳に追加

パターン形成後、基板５を熱処理することにより導電性物質を硬化させ回路基板を完成する。 - 特許庁

Also the pattern electrodes may be formed via the photo-resists after forming the photo-resists of positive type on the piezoelectrics.例文帳に追加

また、前記圧電体にポジ型のフォトレジストを形成し、このフォトレジストを介してパターン電極を形成してもよい。 - 特許庁

The gate electrode is formed by performing etchback without forming a resist pattern, after a polysilicon film is formed.例文帳に追加

ゲート電極は、ポリシリコン膜を成膜した後、レジストパターンを形成することなくエッチバックすることにより形成される。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes, after exposure, forming an acidic film on a resist surface, heating and developing.例文帳に追加

露光後、レジスト表面に酸性の膜を形成させてから、加熱処理を行い、現像をするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an epitaxial growing method, with which pattern matching is enabled in a photolithography process after the epitaxial growth of silicon.例文帳に追加

シリコンのエピタキシャル成長後のフォトリソグラフィ工程でのパターン合わせが可能となる、エピタキシャル成長方法を得る。 - 特許庁

After electron-ray resist 4 is applied over the entire surface of the substrate, electron-beam exposure is conducted for forming an opening pattern 5.例文帳に追加

電子線レジスト４を基板全面に塗布した後、電子線露光を行い、開口パターン５を形成する。 - 特許庁