「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(82ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a colored photosensitive composition having such heat resistance as not to impair the properties (shape, hue, etc.), of a color filter and capable of forming a fine pattern with high resolution and to provide a color filter using the same.例文帳に追加

カラーフィルタの性状（形状、色相等）を損なわない耐熱性を有し、精細なパターンを高解像度に形成することが可能な着色感光性組成物、及びこれを用いたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

By using the composition, stress of a patterned film is minimized in baking to minimize deformation by shrinkage, whereby a phenomenon such as twist, short (breaking) or falling (rising) of the pattern can be suppressed or prevented.例文帳に追加

これにより、焼成時にパターン膜の応力を最小化することによって、収縮による変形を最小化してパターンのねじれ、短絡（切れ）または脱落（浮き上がり）などの現象を抑制または根本的に防止できる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition with high resolution, excellent in dry etching resistance, with reduced wear of the film and suitably used in a method for forming a resist pattern via an exposing step using a low-energy electron beam.例文帳に追加

高解像性で、ドライエッチング耐性に優れ、膜減りの低減された、低加速電子線を用いて露光する工程を経てレジストパターンを形成する方法に好適に用いられるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The alcohol-based coating agent composition for an evaporative pattern comprises: (a) the refractory particles of at least one selected from obsidian, pearlite and pitchstone; and (b) scaly refractory particles in a specified weight ratio.例文帳に追加

黒曜石、真珠岩及び松脂岩から選ばれる少なくとも一種の耐火性粒子（ａ）と、鱗片状耐火性粒子（ｂ）とを、特定の重量比で含有する消失模型用アルコール系塗型剤組成物。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for forming colored layer, which is excellent in adhesion to a substrate, and cleaning property with an organic solvent, and from which pixels having a high-definition excellent pattern profile can be formed.例文帳に追加

基板との密着性に優れ、かつ有機溶剤による洗浄性にも優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素形成できる着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new compound useful for chemical amplification-type image-forming materials, and to provide a chemical amplification-type positive- type resist composition having high sensitivity and high resolution power and improved in pattern edge roughness.例文帳に追加

化学増幅型画像形成材料に有用な新規な化合物を提供すること、及び高感度、高解像力を有し、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Further, when the whole composition is heat treated in film formation, it is adapted to a protective membrane or an insulation film of a semiconductor, a circuit substrate or the like which requires excellent heat, electrical and mechanical characteristics, and the pattern formation of the high resolution.例文帳に追加

また、全体組成物をフィルム化して熱処理した時、熱的、電気的、機械的特性が優れて高解像度のパタン形成を必要とする半導体、回路基板などの保護膜、絶縁膜として適合する。 - 特許庁

To provide a coloring curable composition from which a colored pattern with high definition having a rectangular or normally tapered cross-sectional form and excellent adhesiveness to a solid surface can be formed by exposure and development.例文帳に追加

露光及び現像により、高精細で、且つ、矩形又は順テーパーの断面形状を有し、更に、固体表面に対する密着性に優れた着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

Preferably, the Ti-MWW layered precursor is one giving an X-ray diffraction pattern having values below and having a composition represented by general formula: xTiO_2-(1-x)SiO_2 (wherein x is a numerical value of 0.0001-0.1).例文帳に追加

該Ｔｉ-ＭＷＷ層状前駆体としては、下記に示す値のＸ線回折パターンを有し、かつ一般式ｘTiO2・(1−x)SiO2（式中ｘは0.0001〜0.1の数値を表す。）で表される組成を有するものであることが好ましい。 - 特許庁

To obtain a composition excellent in crushability, heat resistance, fluidity in molding, transferring properties of granulated pattern by compounding styrene-based thermoplastic elastomer, a specific ethylene-based resin and zeolite in a specific ratio.例文帳に追加

取扱性、成形加工時の流動性、シボ転写性に優れる熱可塑性エラストマー組成物、熱可塑性エラストマー組成物パウダー及びそれらよりなる、機械特性、耐熱性、意匠性に優れる表皮材を提供する。 - 特許庁

To provide a silver microparticle-containing composition which has a uniform grain size, which can form a fine graphic pattern and which has light environmental load, a process for producing the silver microparticle, and a paste containing the silver microparticle.例文帳に追加

粒度が均一で微細な描画パターンを形成でき、環境負荷が小さい微小銀粒子含有組成物、その製造方法、微小銀粒子の製造方法および微小銀粒子を有するペーストを提供すること。 - 特許庁

To provide a black photosensitive resin composition for a solid state image sensor in which a small amount of a residue is generated, adhesion to a substrate after being exposed is excellent and a black pattern having an excellent rectangular cross section profile is obtained.例文帳に追加

現像残渣が少なく、感光後の基板密着性に優れ、良好な矩形の断面プロファイルを有する黒色パターンが得られる固体撮像素子用黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition to be used for producing a melamine decorative board on which a fingerprint or the like is hardly highlighted and a picture pattern of decorative paper can be expressed clearly and to provide a transfer sheet, the melamine decorative board and a method for producing the melamine decorative board.例文帳に追加

指紋等が目立ちにくく、化粧紙の絵柄が鮮明に表現できるメラミン化粧板の製造に使用できる組成物、転写シート、メラミン化粧板、及びメラミン化粧板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing fine pattern formation in a thick film exceeding 20 μm and capable of providing a film excellent in reliability as a protective film, and to provide a cured film.例文帳に追加

２０ミクロンを越えるような厚膜で微細なパターン形成を行うことが可能であり、保護膜としての信頼性に優れた皮膜を提供可能な感光性樹脂組成物および硬化皮膜を提供する。 - 特許庁

To realize a resist composition having high transparency with respect to far-ultraviolet rays and radiation and moreover, superior in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape and line edge roughness.例文帳に追加

遠紫外線及び放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチ耐性、パターン形状及びラインエッジラフネス等のレジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a radical-curable composition which can suppress the generation of a wrinkle pattern such as "striae" on a molded product surface in the production of an optical component such as a lens by a casting molding method using a radical curing system.例文帳に追加

ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物表面における「脈離」等の皺模様の発生を抑制できるラジカル硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies few development defects as well as high sensitivity, high resolution and a good pattern shape when an active ray or radiation, particularly an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線の使用に対して、高感度、高解像性、良好なパターン形状に加えて、現像欠陥の特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern adjusting device which sticks a desired amount of a composition for adjustment by a single defect-revision work even in the case of using only one adjusting needle.例文帳に追加

本発明は、修正用ニードルを１本のみ用いた場合でも、１回の欠陥修正作業で所望量の修正用組成物を欠陥箇所に付着させることが可能なパターン修正装置の提供を主目的とする。 - 特許庁

A medley list for program reproducing mode is prepared, by repeatedly executing steps S4 to S6 and setting a musical composition number, the number of times of loop and reproducing of all or release pattern for every program number PN.例文帳に追加

プログラム再生モード用のメドレーリストは、ステップＳ４ないしステップＳ６が繰り返し実行されて楽曲ナンバ、ループ回数、全部あるいはサビパターンの再生がプログラムナンバＰＮ毎に設定されることにより作成される。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having excellent resolution and etching resistance, capable of giving a resist pattern that undergoes a small dimensional change per unit temperature by a thermal flow process and having good aging stability.例文帳に追加

解像性及び耐エッチング性に優れ、サーマルフロープロセスにより単位温度当りの寸法変化量が小さいレジストパターンを与えることができ、かつ経時安定性の良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a cold-rolling oil composition for making the color tone of a stainless steel plate uniform without causing a pattern on the surface of the steel plate after the annealing and pickling after the cold rolling in a process of cold rolling of the stainless steel plate.例文帳に追加

ステンレス鋼板の冷間圧延の工程において、冷間圧延後の焼鈍、酸洗後に鋼板表面に模様を発生させないで色調が均一となるような、冷間圧延油組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition capable of giving a resist pattern excellent in section shape without generating resist residue when a semiconductor device is manufactured by a via first dual damascene process.例文帳に追加

ビアファーストのデュアルダマシン法により半導体デバイスを製造する場合に、レジスト残りを生じず、かつ断面形状に優れるレジストパターンを与えることができる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive resin composition excellent in dispersibility, drying properties and environmental safety and providing a fine pattern excellent in developability, photosensitivity, adhesion, pencil hardness, solvent, acid, heat and gold plating resistances.例文帳に追加

分散性、乾燥性、環境安全性に優れ、現像性、光感度、密着性、鉛筆硬度、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性、耐金メッキ性優れたファインパターンが得られる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for electronic materials causing no corrosion reaction to copper and copper alloys of metal wiring, etc., and having good film adhesion and sensitivity, a method for producing a pattern and electronic components.例文帳に追加

金属配線等の銅及び銅合金に対して腐食反応を引き起こさず、膜の密着性、感度の良好な電子材料用の感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a solvent or solvent composition for pattern printing of a solar cell, an organic thin film transistor, electronic paper or an organic electroluminescence device, which ensures high solubility of a resin additive such as a binder resin and has low hygroscopicity.例文帳に追加

バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い太陽電池、有機薄膜トランジスター、電子ペーパー、又は有機エレクトロルミネッセンスデバイスのパターン印刷用溶剤又は溶剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition containing β-hydroxyalkyl amide soluble with an organic solvent, from which a film or a fine pattern having sufficient heat-resistance, chemical resistance, smoothness and optical characteristics can be formed.例文帳に追加

耐熱性・耐薬品性・平滑性・光学特性を満足する膜あるいは微細パターンの形成が可能な、有機溶剤に可溶であるβ−ヒドロキシアルキルアミドを含む感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive resin composition excellent in sensitivity and adhesion and capable of accurately forming a fine pattern regardless of whether a photopolymerization initiator is not used or is used in small quantity.例文帳に追加

光重合開始剤を使用しない又は少量の使用であるにも関わらず、感度及び密着性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The photosensitive resin composition is mainly composed of a polyimide precursor having a benzoxazole skeleton and a phenolic hydroxyl group, a vinyl ether compound and a photoacid generator, can be developed with an aqueous alkali solution, and has positive pattern forming capability.例文帳に追加

ベンゾオキサゾール骨格とフェノール性水酸基を有するポリイミド前躯体、ビニルエーテル化合物、光酸発生剤とを主成分とするアルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有する感光性樹脂。 - 特許庁

To provide a titanium dioxide composition and a titanium dioxide-containing layer which has few crystal defects and exhibits high activity, and to provide a pattern formation body using the titanium dioxide-containing layer.例文帳に追加

本発明は結晶欠陥が少なく、高い活性を示す二酸化チタン組成物や二酸化チタン含有層、およびこの二酸化チタン含有層を用いたパターン形成体等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution for far UV rays as typified by an ArF excimer laser, excellent in the pattern profile or the like, and suitable as a chemically amplifying resist.例文帳に追加

特にＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線に対する感度、解像度が優れ、パターン形状等にも優れる新規な化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymerizable resin composition, having adequate sensitivity to light having a wavelength of about 436 nm, about 408 nm or about 365 nm in exposure and allowing a coating film or pattern, having a high transmittance to be formed.例文帳に追加

露光時に４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の波長の光に十分な感度をもち、かつ透過率の高い塗膜またはパターンを形成することができる重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The ink composition which contains water, a colorant, and 1,3,5-trioxane or tetraethylene glycol dimethyl ether is prepared, and the obtained ink is inserted into an inkjet printer to jet ink drops onto a recording sheet in an image pattern.例文帳に追加

水と、着色剤と、１，３，５−トリオキサンまたはテトラエチレングリコールジメチルエーテルとを含むインク組成物を調製し、得られたインクをインクジェットプリンタに装入し、記録シート上にインク滴を画像状パターンで噴出させる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used for microphotofabrication using far UV rays, in particular ArF excimer laser light and which eliminates problems of line edge roughness and pattern collapse.例文帳に追加

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、ラインエッジラフネス、パターン倒れの問題が解消されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a paste composition suitable for a laser direct imaging device using a laser oscillation light source having a maximum wavelength of 350-420 nm, useful for efficiently forming a fine pattern, and excellent in storage stability.例文帳に追加

最大波長が３５０ｎｍ〜４２０ｎｍのレーザー発振光源を用いたレーザー・ダイレクト・イメージング装置に適し、精細なパターンを効率良く形成するのに有用で、かつ保存安定性に優れたペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To achieve excellent controllability of resist pattern size in a thermal flow process using a resist composition for use in ArF excimer laser lithography or the like.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れるサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an underlayer film composition for forming an underlayer film having a low reflectance for exposure light at a short wavelength and excellent etching resistance against oxygen plasma or the like, and to provide a method for forming a multilayer resist pattern.例文帳に追加

短波長の露光光の反射率が低く、酸素プラズマ等に対するエッチング耐性にも優れる下層膜を形成するための下層膜用組成物及び多層レジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The resin composition affording interference pattern comprises an alcohol component containing at least 3 mol% 1,4-cyclohexanedimethanol, a polyester resin with terephthalic acid as the acid component and an acrylonitrile-styrene-based resin.例文帳に追加

少なくとも３モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノールを含むアルコール成分とテレフタル酸を酸成分とするポリエステル系樹脂とアクリロニトリル−スチレン系樹脂とからなることを特徴とする干渉模様透明樹脂組成物。 - 特許庁

This injection molded form with a fine pattern transferred in high accuracy is obtained by injection molding of a cyclic olefin resin or a thermoplastic resin composition comprising the above cyclic olefin resin and a specific hydrocarbon resin.例文帳に追加

環状オレフィン樹脂または環状オレフィン樹脂と特定の炭化水素樹脂からなる熱可塑性樹脂組成物を用いて射出成形することにより、微細なパターンが高転写された射出成形体を得る。 - 特許庁

The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a hydrophilic functional group within a molecule, a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子内に連鎖移動可能な官能基と親水性官能基とを有する化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁

To provide a design panel, and an air conditioner using it capable of realizing a novel appearance with a feeling of depth in a display pattern by an inexpensive composition even when the design panel is a curved surface shape.例文帳に追加

意匠パネルが曲面状であっても、安価な構成により、表示パターンに奥行き感のある斬新な見栄えをもたせることができるようにした意匠パネルおよびそれを用いた空気調和機を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is provided with a process comprised by ejecting the resin composition from an ink-jet head to respective light transmission regions on a substrate on which partitions are preliminarily formed, subsequently driving it and forming a pixel pattern.例文帳に追加

カラーフィルタの製造方法は、予め隔壁を形成した基板の各光透過領域にインクジェットヘッドから前記樹脂組成物を吐出させたのち、乾燥して画素パターンを形成する工程を備えている。 - 特許庁

When the photosensitive resin composition is used as a liquid photosensitive resist material, flexibility as a coating film as well as various characteristics such as pattern forming property, etching or plating resistance and removability is improved.例文帳に追加

このような感光性樹脂組成物を、液状の感光性レジスト材料として用いることにより、パターン形成性、エッチング又はめっき耐性、剥離性等の諸特性のみでなく、塗膜としての柔軟性も改善される。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter forming a pattern free of chipping and peeling and capable of preventing the occurrence of residue and surface stains on a substrate in unexposed regions and on a light shielding layer.例文帳に追加

パターンに欠けおよび剥がれを生じることがなく、未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れが発生するのを防止しうるカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

Here, a guide display control part 11 causes a guide pattern template as an auxiliary line prepared, in advance, to be imposed and displayed on the display screen of the electronic finder so as to refer to it at determining of the composition and the framing.例文帳に追加

この際、ガイド表示制御部１１は、予め準備された補助線としてのガイドパターンテンプレートを、構図およびフレーミング等の決定に参考とすべく、電子ファインダ表示画面に重畳表示させる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which can form high-quality pixels free of unevenness due to water (spotted color unevenness occurring on a pixel pattern after development and cleaning) even with a small amount of light exposure.例文帳に追加

低露光量であっても水ムラ（現像・水洗後に画素パターン上に発生するシミ状の色ムラ）のない高品質な画素を形成することができる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁