「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(80ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist composition giving a pattern having a smooth good surface free from foreign matter and rectangular good profile and also having a large focal depth in the case of an isolated pattern in lithography using a short-wavelength light source for exposure which enables ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、表面がスムーズで異物がない良好な表面を有し、かつ、矩形で良好なプロファイルを有するパターンが得られ、また、孤立パターンについて広い焦点深度を有するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for ion beam writing having good thermal stability and storage stability, containing few ionic impurities such as Cl and Na, excellent in transparency in a wide wavelength region, and giving a resist pattern with a large film thickness and a high aspect ratio, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

レジスト組成物自体の熱安定性・保存安定性が良好で、ＣｌやＮａなどのイオン性の不純物が少なく、広い波長領域で透明性に優れ、厚膜かつアスペクト比の高いレジストパターンが得られるイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of improving the performance in minute processing of a semiconductor element using an electron beam, an X ray, a KrF excimer laser beam, or an ArF excimer laser beam, excellent in terms of sensitivity, resolution, focal margin (DOF) performance, LWR, reduction of blur, and reduction of pattern surface roughness; and to provide a pattern-forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上であり、感度、解像力、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、ＬＷＲ、裾引き低減、パターン表面荒れの低減に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive composition which is suitable for exposure to far-UV rays including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light and which can form a pattern with high resolution while avoiding the causes for deterioration in the resolution such as swelling due to permeation of a developer or remaining of a resist film between the lines of the pattern.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレ−ザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線での露光に適していて，現像液の浸透による膨潤や，パタンの線間にレジスト膜が残るといった解像度劣化の原因を取り除いた高解像度のパタン形成が可能なネガ型の感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type silicon-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source and having high resolving power in the production of semiconductor device and giving a resist pattern excellent in density dependency particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm and in margin for exposure.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

Then, a detection unit 108 detects a detection object based on a total feature amount concerning each composition pattern of the first cross area pattern group that is calculated by a feature amount calculation unit 107, and a strong discriminator which is stored by a discriminator storage unit 112 and is composed of a plurality of weak discriminator.例文帳に追加

そして、検出部１０８が、特徴量算出部１０７によって算出される、第１の交差領域パターングループの各構成パターンに関する総合特徴量と、識別器記憶部１１２に記憶されている、複数の弱識別器から構成される強識別器とに基づいて、検出対象を検出する。 - 特許庁

The color filter is manufactured by forming a positive photoresist pattern 8 in the desired region on a substrate 1 comprising a coloring part 4 formed on a transparent substrate 2, forming a through hole 10 by exposing the pattern and forming the spacer 13 by filing a curable resin composition 12 in the through hole 10 from an inkjet head 11 and curing it.例文帳に追加

透明基板２上に着色部４を形成した基材１上の所望の領域に、ポジ型フォトレジストパターン８を形成し、パターン露光してスルーホール１０を形成し、該スルーホール１０にインクジェットヘッド１１より硬化型樹脂組成物１２を充填して硬化させ、スペーサー１３を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by a positive-negative reversal in which wet etching using an alkaline etching liquid is performed for a step of finally acquiring a negative image by giving a positive pattern a resistance to an organic solvent used for a composition for forming a reverse film to the degree of necessity, and securing solubility into an alkaline etching liquid.例文帳に追加

ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye containing curing composition for forming high-resolution pattern images (for instance, pixels) superior light resistance, heat resistance, pattern formation and solvent resistance by suppressing elution to a developing liquid of an exposure part, and to provide a color filter using it and its manufacturing method.例文帳に追加

露光部の染料の現像液への溶出が抑制され、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）、および耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像（例えば画素）を形成することができる染料含有硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

This negative type radiation sensitive resin composition solution is suitable for use as a resist which is not swellable with a developing solution, excellent in developability, pattern shape, focus latitude, heat resistance, pattern faithfulness, lithographic process stability, etc., having high sensitivity and high resolution and adaptable to various radiation sources.例文帳に追加

本発明によれば、現像液による膨潤がなく、現像性、パターン形状、フォーカス許容性、耐熱性、パターン忠実度、リソグラフィープロセス安定性などに優れ、高感度かつ高解像度で様々な放射線源に対応できるレジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物溶液を得ることができる。 - 特許庁

In the electrically conductive pattern forming method, an electrically conductive layer is formed using a photosensitive composition containing (A) electrically conductive particles, (B) an alkali-soluble resin, (C) a compound containing an ethylenically unsaturated group and (D) a photopolymerization initiator and the electrically conductive layer is exposed and developed to form a pattern.例文帳に追加

（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性組成物を用いて導電層を形成し、当該導電層を露光処理し、当該導電層を現像処理してパターンを形成する導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A light shielding pattern 54 having a plurality of arrayed polygonal light shielding portions 53 and a light transmitting portion 55 of a resolution limit or lower disposed at the center of the array is formed in the light transmitting region of a photomask, as a unit light shielding pattern for forming a projection 56 for alignment control in a photosensitive composition layer.例文帳に追加

感光性組成物層に配向制御用突起５６を形成するための単位の遮光パターンとして、フォトマスクの光透過領域中に、多角形状の遮光部５３が複数個配列され、その配列の中心部に解像限界以下の光透過部５５を有する遮光パターン５４を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resist composition for color filter with which a thin film pattern having high light shielding property can be easily formed by a photolithographic process, the residue in an unexposed part after alkali development can be suppressed and a favorable pattern profile and sensitivity are obtained, and to improve reliability and manufacturing yield of a color filter and a liquid crystal display device.例文帳に追加

薄膜かつ高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、アルカリ現像後の未露光部分の残さを抑制し、パターン形状と感度がともに良好なカラーフィルター用感光性レジスト組成物を提供し、カラーフィルターおよび液晶表示装置の信頼性を高く、かつ歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent sensitivity even when applied to an LDI (laser direct imaging) system, has satisfactory storage stability, and enables to form a resist pattern having good resist shape free of undercut and overhang, a photosensitive film, a resist pattern forming method and a permanent resist.例文帳に追加

ＬＤＩ方式に適用した場合でも優れた感度が得られ、且つ、充分な保管安定性を有し、アンダーカットやオーバーハング等のない良好なレジスト形状を有するレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジストを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter, which has excellent development property without occurring defect or stripping off of pixel pattern in developing stage and excellent mechanical strength after film-forming, and also gives a good pattern shape and further does not generate defective display such as image seizing in using for a display panel.例文帳に追加

現像時の画素パターンに欠落や剥がれを生じることがなく、現像性に優れ、かつ成膜後の機械的強度が優れ、またパターン形状も良好であり、しかも表示パネルにしたとき焼き付き等の表示不良を生じることがないカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for laser direct drawing exposure, which allows the formation of a resist pattern having high sensitivity, an excellent resist feature, a preferable resolution, an adhesion property and a release property in laser direct drawing exposure, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

レーザ直接描画露光において高感度で、レジスト形状に優れ、解像度、密着性及び剥離性が良好なレジストパターンを形成することが可能なレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for ion implantation forming a resist film which is excellent in ion blocking property and in the breaking resistance of the resist even in the case of a thin film, has good sensitivity and resolution even when an antireflection film is not formed on a substrate, and ensures a good pattern profile and a small pattern variation range.例文帳に追加

薄膜であってもイオン遮断性及びレジストの耐破壊性に優れ、基板上に反射防止膜が形成されていない場合にも、良好な感度及び解像度を有し、良好なパターンの形状、及びパターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能なイオンインプランテーション用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁

The resin sheet holds the sheet-shaped extruded material between the pattern roll with the geometrical pattern formed and the cooling roll after the resin composition containing 0.05-1.0 pt.wt. of a methacrylate-acrylate copolymer per 100 pts.wt. of a polycarbonate resin or a mixed resin comprising the polycarbonate resin and a polyester resin is melted/extruded.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂、あるいはポリカーボネート樹脂とポリエステル樹脂との混合樹脂１００重量部に対し、メタクリル酸エステル・アクリル酸エステル共重合体を０．０５〜１．０重量部含有せしめた樹脂組成物を溶融押出した後、シート状押出物を幾何学模様が付された型付ロールと冷却ロールとの間に挟持する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition which has high radiation sensitivity and development margin to form a favorable pattern even when the process time exceeds the optimum developing time in a developing process, and with which a pattern thin film having excellent adhesiveness can be easily formed, and to provide an interlayer insulating film of electronic parts and microlens.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。 - 特許庁

To provide a highly fine electric conductor pattern excellent in long term reliability with low migration by using a photosensitive silver paste which uses a glass composition developed for an electric conductive paste capable of preventing the induction of electrode migration even if used for the highly fine electric conductor pattern.例文帳に追加

高精細な導電体パターンに用いた場合にも電極マイグレーションの誘発を抑制し得る導電性ペースト用ガラス組成物を開発し、該ガラス組成物を用いた感光性銀ペーストを使用することにより、低マイグレーション性による長期信頼性に優れる高精細導電体パターンを提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for exposure to a far ultraviolet ray in which bridging for forming a developing defect or particularly line pattern and a trench pattern is reduced so as to perform a subject in a technique for improving an original performance of a microphotofabrication used for a far ultraviolet ray or particularly an ArF excimer laser beam.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、現像欠陥、特にラインパターン及びトレンチパターン形成におけるブリッジングを低減した遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition short in minimum developing time and forming a resist film breakable by a shock of spray or the like and especially excellent in adhesion and resolution and to provide a photosensitive element using this, and manufactures of a resist pattern and the printed circuit board having this pattern by incorporating a specified photopolymerizable compound and specified compounds.例文帳に追加

最少現像時間が短かく、レジスト硬化膜がスプレー等の衝撃により割れ、さらに密着性及び解像度が特に優れた感光性樹脂組成物及びそれを使用した感光性エレメント、及びレジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンを有するプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This artificial marble having a pattern of a luminescent material obtained by an inorganic fluorescent composition, capable of generating a light by the ultraviolet light and showing an original marble pattern of the artificial marble under the visible light is characterized by that the pattern on the surface of the artificial marble becomes different under the visible light and under the ultraviolet rays, and its method for luminescence.例文帳に追加

本発明は、無機蛍光体組成物によって得られた紫外線で発光する発光体による模様を有する人造大理石であって、可視光下では人造大理石が有する本来の大理石模様を表す人造大理石であり、人造大理石表面の模様が可視光下と紫外線下とで異なることを特徴とする発光性人造大理石及びその発光方法に関する。 - 特許庁

To provide an acid transfer composition which can uniformly and very precisely diffuse acid all over the resin surface to make a pattern and can obtain an acid transfer film in highly stabilized dimensions all over this patterned resin surface, and also to provide an acid transfer film using it, and a pattern forming method which can make a pattern by the existing photolithography by using this film.例文帳に追加

酸の拡散が被パターン化樹脂膜の全面に均一に十分な精度をもって行うことができ、その結果、被パターン化樹脂膜の全面に均一優れた寸法安定性が得られる酸転写用膜を得ることができる酸転写用組成物、これを用いてなる酸転写用膜、及びこの酸転写用膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step of forming a resist pattern on a surface to be processed by forming a resist film on the surface using the resist composition for immersion exposure, irradiating the resist film with exposure light by immersion exposure, and developing it, and a step of transferring the pattern to the surface to be processed by etching through the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に、本発明の前記液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、該レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面にパターンを転写するパターン転写工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

In the pattern- forming method, the positive photosensitive resin composition is applied and subjected successively to first exposure, development, second exposure and heating, with the quantity of light in the second exposure being 2-15 times that in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To obtain a hardenable composition for lining at the time of production of a shadow mask, capable of providing a hardened membrane excellent in each of etching resistance, alkali-dissolvable and peelable properties, and pattern-forming properties even in the case of carrying out secondary etching at high temperature.例文帳に追加

高温で２次エッチングする場合においても、その硬化膜が、耐エッチング性、アルカリ溶解・剥離性及びパターン形成性のいずれにも優れたシャドウマスク製造時の裏止め材用硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

This thermoplastic resin composition P1 for forming a grain pattern W comprises 100 pts.wt. of a styrenic resin and 0.5-10 pts.wt. of colored pellets comprising a thermoplastic resin containing a coloring agent.例文帳に追加

スチレン系樹脂１００重量部に対して、着色剤を含有する熱可塑性樹脂からなる着色ペレットを０．５重量部以上１０重量部以下混合した木目模様形成熱可塑性樹脂組成物である。 - 特許庁

To provide a negative pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness, exposure latitude, and dry etching resistance, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a satisfactory color filter having no foreign matter inferiority and no image defect by reducing charge gathering on a glass substrate where a coating layer of a colored composition is applied and preventing sticking of dirt and destruction of an exposure mask pattern.例文帳に追加

着色組成物の塗布層が塗布されたガラス基板上に溜まる電荷を低減し、ゴミの付着、及び露光マスクパターンの破壊を防ぎ、異物不良、画像欠陥のない良好なカラーフィルターを提供する。 - 特許庁

The resin composition is applied to a carrier, dried, irradiated with a radiation in a certain pattern, heated, developed to be formed, and baked to give the objective inorganic molded item.例文帳に追加

無機造形物は、前記無機造形物製造用感放射線性樹脂組成物を支持体に塗工し、乾燥して、所定の形状に放射線を照射し、その後加熱し、現像して造形したものを焼成してなる。 - 特許庁

To provide a colored alkali developable photosensitive resin composition that has superior sensitivity, resolution and adhesion, and that enables a fine pattern to be formed accurately.例文帳に追加

感度、解像度、密着性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

The method can be applied to various methods, and, e.g., it is also possible that the composition is applied to a substrate, so as to be exposed to form metal particulate, and further, development is performed, thus a metal particulate-containing pattern is formed.例文帳に追加

このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち、さらに、現像し、金属微粒子を含むパターンを形成することもできる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, forms a film having heat resistance and a coefficient of linear expansion close to that of a substrate, does not require imidization at a high temperature, and can be alkali-developed.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive colorant dispersion resin composition for color filters, which can obtain a photosensitive layer with high sensitivity, high color purity and high light shielding effect and is excellent in adhesion in development and a pattern shape.例文帳に追加

高感度で、高い色純度及び遮光性の感光層を得ることができ、現像時の密着性やパターン形状において優れるカラーフィルタ用感光性着色剤分散樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Then, a composition means 38 combines at least two patterns on the basis of the selected pattern information and the display control signals, and display is performed at an image display device 42 on the basis of the combined image information.例文帳に追加

そして、合成手段３８が選択された図柄情報と表示制御信号に基づいて少なくとも二つの図柄を合成し、その合成した画像情報に基づいて画像表示装置４２に表示させる。 - 特許庁

To obtain an ink composition that can directly form a printed pattern on a glass substrate to give, after baking, a printed area being submissible to selective electroless metal plating and not separated upon plating.例文帳に追加

ガラス基板に直接印刷パターンを形成することができるとともに、焼成後に印刷部への選択的な無電解金属メッキが可能で、メッキ工程により脱落することのないインキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition which attains cost reduction without impairing basic performances such as sensitivity and resolution, ensures small ruggedness due to stationary waves and improves pattern profile, particularly line edge roughness.例文帳に追加

感度、解像度などの基本的な性能を落とさずにコストが低減され、また定在波による凹凸が小さく、パターンプロファイル、特にラインエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity, can provide a large dissolution contrast irrespective of the kind of a polyimide precursor and, resultantly, can provide a pattern having a preferable shape while maintaining sufficient process margin.例文帳に追加

高感度で、ポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which may not be turned into a gel even when including a photosensitive component, forming inexpensively a high-precision pattern, and having high adhesion to ceramic, silicon and glass substrates in a thin film state.例文帳に追加

感光性成分を含有してもゲル化を起こさず、安価で、高精度のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a rubber for correcting a tire pattern model applicable for the production of a silicone rubber mold with a silicone rubber composition without causing vulcanization defect in the production of the rubber mold and enabling the correction and repair of the mold.例文帳に追加

シリコーンゴム組成物を用いたシリコーンゴム型の製造に適用し得るタイヤパターンモデルを、ゴム型製作時における加硫不良を生ずることなく、修正、修繕することができるタイヤパターンモデル修正用ゴムを提供する。 - 特許庁