「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a negative resist composition showing not only proper basic physical properties, such as retention ratio, pattern stability, adhesion to substrate, and chemical resistance, but also very low brittleness due to superior ductility, during bonding process and hot process.例文帳に追加

残膜率、パターンの安定性、基材に対する接着力及び耐化学性などの基本物性が良好なだけでなく軟性に優れており合着工程や高温工程中において容易に割れないネガレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition providing a cured film cured at a low temperature, the cured film which is by no means inferior to a film cured at a high temperature and exhibits excellent chemical resistance against various kinds of organic solvents, and to provide a production method of a pattern, and electronic components.例文帳に追加

低温硬化後の硬化膜が、高温で硬化したものと遜色なく、種々の有機溶媒に対して優れた薬品耐性を示すポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is superior in various properties, including film thickness, resolution, pattern shape, transparency, heat resistance and solvent resistance, in particular, in the heat resistance, and which is able to form a microlens that is superior in balance of the various properties.例文帳に追加

膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐溶剤性等の諸性能、特に耐熱性に優れ、且つ諸性能のバランスに優れたマイクロレンズを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To control the amount of a photoresist remaining in a channel region to be uniform and to reduce projections at an end of a semiconductor layer, in relation to a method for forming a pattern using a photoresist composition and to a method for manufacturing a thin film transistor display panel.例文帳に追加

フォトレジスト組成物を用いたパターンの形成方法、薄膜トランジスタ表示板の製造方法に関し、チャンネル領域に残っているフォトレジストの量を均一にして、半導体層の末端の突出を減少させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive element which suppress thickness reduction of a pattern and allow production of a liquid crystal display capable of displaying a high-quality image free of display unevenness, and a method for producing liquid crystal spacers.例文帳に追加

パターンの膜減りを抑制し、表示ムラのない、高品位な画像を表示することができる液晶表示装置の製造が可能な感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに液晶スペーサーの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in this order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern, deposits no insoluble matter in the preparation of a resist solution or after storage, is excellent in dependency on density and can reduce a sensitivity change after storage.例文帳に追加

レジストパターンのエッジラフネスが改善され、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れ、経時保存後の感度変動を軽減できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition for silica glass optical waveguide formation capable of forming a cured product which avoids thermal deformation of pattern shape in dry etching and baking (has excellent heat resistance) and has excellent resolution.例文帳に追加

ドライエッチングやベーキングのときパターン形状が熱により変形せず（耐熱性に優れ）、解像性に優れた硬化物を形成することができる石英系ガラス光導波路形成用ネガ型感光性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

This uneven pattern-forming powder coating composition is characterized by mixing 100 pts.wt. of a powder coating component with 0.5 to 10 pts.wt. of an epoxy resin powder coating having an average particle diameter of 10 to 100 μm.例文帳に追加

本発明は、粉体塗料成分１００重量部に対し、平均粒径１０〜１００μｍのエポキシ樹脂粉体塗料を０．５〜１０重量部混合することを特徴とする凹凸模様形成性粉体塗料組成物である。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter comprises applying a photosensitive resin composition containing an ink-repelling agent on a substrate to form a partition pattern and thermally setting the partition by heating at 220 to 260°C in an inert atmosphere.例文帳に追加

撥インキ剤を含む感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、隔壁パターンを形成した後、隔壁を不活性雰囲気内で２２０〜２６０℃の加熱温度で熱硬化させることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in resist strippability and can improve adhesion and resolution, and to provide a photosensitive element, a method of forming a resist pattern and a method of manufacturing a printed wiring board using the same.例文帳に追加

レジストのはく離性に優れ、密着性及び解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The purple light enters the light guide plate 23 on the side of the display surface 16 and becomes white light through the composition of the purple light and green light to illuminate and display a pattern of a white part of the guide display in white.例文帳に追加

表示面16側の導光板23内に紫色の光が入射し、紫色の光と緑色の光との合成で白色の光となり、誘導表示の白色部分の図柄を白色の発光色で発光表示する。 - 特許庁

To provide a highly practically usable pattern forming method with which more refined patterns can be easily and efficiently formed, and which can be applied to semiconductor manufacturing processes, and a radio-sensible resin composition used therefor.例文帳に追加

より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法、及びそれに用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A computing composition device 5 compares movement of each part of the dancer taken from the camera part with a beat of accompaniment music outputted from a music generation device 6 and reads a dance pattern of the movement matching the music tempo from a storage device 8.例文帳に追加

演算・合成装置５は、カメラ部から取り込まれる踊り手の各個所の動きと音楽発生装置６から出力される伴奏曲の拍子を比較し、動きが音楽テンポに合った踊りパターンを記憶装置８から読み出す。 - 特許庁

In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order, and it is characterized in that the quantity of light in the second exposure is 2-15 times that in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

Then an auxiliary channel beam output in a form of covering an antenna pattern of the main antenna 1 is obtained by applying weighting of amplitude and phase or only the phase to the aperture separation signals Xl, Xr, Xu, Xd and applying beam composition to the result.例文帳に追加

そして、開口分割信号Ｘｌ、Ｘｒ、Ｘｕ、Ｘｄに、振幅および位相、または位相のみの重み付けを施してビーム合成することにより、主アンテナ１のアンテナパターンを覆う形状の補助チャネルビーム出力を得る。 - 特許庁

To provide a photosensitive cured resin composition for a transparent material pattern spacer having buffer action as the result of temperature changes while stably maintaining a uniform cell gap, and having excellent storage stability, heat resistance, chemical resistance and resolution.例文帳に追加

安定的に均一なセルギャップを維持しながら、温度変化によって緩衝作用を有し、保存安定性、耐熱性、化学的耐性及び解像度に優れた透明材料パターンスペーサ用感光性硬化樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is useful for producing electric/electronic materials, is excellent in elongation, heat resistance, chemical resistance, and water-resistant adhesiveness, gives a high-resolution polyimide pattern, and has a high storage stability.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、高伸度であり、高い耐熱性、高い耐薬品性、耐水接着性を合わせ持ち、かつ高い解像度のポリイミドパターンを与え、かつ保存安定性が高い感光性組成物を提供する。 - 特許庁

This is the conductive sheet for the non-contact communication medium in which on the insulate base material, a pattern layer (a) of which the main component is active energy ray-curable composition is formed, and on the surface of the layer, a conductive thin-filmed layer (b) is formed.例文帳に追加

絶縁基材上に活性エネルギー線硬化組成物を主成分とするパターン層（ａ）と該層の表面に導電性薄膜層（ｂ）が形成されていることを特徴とする非接触通信媒体用の導電性シート。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can accurately reproduce the designed size of a mask pattern even by proximity exposure and which can give a spacer for a display panel having excellent adhesiveness with a substrate, transparency, strength, heat resistance and so on.例文帳に追加

プロキシミティー露光を行ってもマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性、透明性、強度、耐熱性等に優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

An active energy-beam setting resin composition [1] is poured in a mold with unevenness, and exposed to be hardened and the hardened body is released from the model to obtain the housing for the plane image display device which has an uneven pattern reverse to that of the mold.例文帳に追加

凹凸を有する鋳型に、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物［Ｉ］を流し込み、露光して硬化させた後、該硬化物を鋳型から剥離して該鋳型と逆の凹凸パターンを成形してなる平面画像表示装置用筐体。 - 特許庁

To provide a fluororesin exhibiting excellent ink repellency, ink dropping properties and developing properties, and a photosensitive resin composition which forms a coating film excellent in ink repellency and ink dropping properties and moreover forms a fine pattern.例文帳に追加

優れた撥インク性、インク転落性、および現像性を奏する含フッ素樹脂、および撥インク性、インク転落性に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition forming an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a resist layer, giving an excellent resist pattern, and having a fast dry etching speed compared to the resist.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたレジストパターンが得られ、レジストに比較して大きなドライエッチング速度を有するリソグラフィー用反射防止膜を形成する組成物を提供するものである。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition solution having ≤1×10-3 milliequivalent/g acid component content and suitable for use as a minute pattern forming resist.例文帳に追加

本発明のネガ型感放射線性樹脂組成物溶液は、組成物溶液中の酸成分の含有量が１×１０^-3ミリ当量／ｇ以下の範囲に調整されており、微細パターン形成用のレジストとして好適に使用される。 - 特許庁

To provide a photo acid generators which has excellent transparency for UV light having a wavelength of ≤220 nm and a high photoreaction efficiency (photo acid generation efficiency), and to provide a chemical amplification resist composition which gives pattern sidewalls having excellent smoothness.例文帳に追加

波長２２０ｎｍ以下の紫外光に対して透明性に優れ、光反応効率（光酸発生効率）が高い光酸発生剤、および解像性、パターン側壁の平滑性に優れた化学増幅レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoreactive resin composition which has high sensitivity and is hard to cause gelation, and a method for manufacturing a circuit board and a multilayer board which have a high resolving degree wiring pattern and a via hole by the photolithography using the same.例文帳に追加

感度が高く、かつゲル化が起こりにくい光反応性樹脂組成物、およびそれを用いたフォトリソグラフィ法により、解像度の高い配線パターンやビアホールを有する回路基板およびセラミック多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a functional group whose pKa is 8-14 within a molecule, a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子内に連鎖移動可能な官能基とｐＫａが８〜１４の範囲にある官能基とを有する化合物、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁

To provide an antireflection film composition for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist layer, giving an excellent photoresist pattern, having a high dry etching rate compared to a photoresist and having excellent thermal stability.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたフォトレジストパターンが得られ、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、熱安定性に優れたリソグラフィー用反射防止膜組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for forming an upper antireflection film capable of thoroughly reducing standing-wave effect and blob defects in lithography and having superior solubility in an alkali developer, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィーにおいて、定在波効果及びブロッブ欠陥を十分に低減することができ、且つアルカリ現像液に対する溶解性に優れた上層反射防止膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法を提供する - 特許庁

To obtain a photopolymer composition containing a polyimide precursor having ethylenic double bonds reactive to an actinic radiation such as an ultraviolet radiation in side chains, being developable with an aqueous alkali solution, and having negative pattern forming properties.例文帳に追加

紫外線などの活性光線に反応可能なエチレン性不飽和二重結合を側鎖にもつポリイミド前駆体であり、アルカリ水溶液にて現像が可能なネガ型パターン形成能を有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resist composition for a color filter excellent in sensitivity, adhesion in development and pattern profile, to enhance the reliability of a color filter and a liquid crystal display device, to boost yield and to reduce the cost of manufacturing.例文帳に追加

感度、現像時の密着性、パターン形状に優れたカラーフィルター用感光性レジスト組成物を提供し、カラーフィルターおよび液晶表示装置の信頼性を高く、かつ歩留まりを向上させ製造コストを削減することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, capable of forming a resist pattern having a cross section of inverted tapered shape, markedly superior in heat resistance and in adhesion, even with respect to a substrate having high smoothness, without deteriorating the storage stability.例文帳に追加

保存安定性を損なうことなく、断面が逆テーパー状で、耐熱性が顕著に優れ、かつ平滑性の高い基板に対しても密着性に優れたレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a decorative paper sheet comprising various layers (a picture pattern layer, a sealing layer or the like) other than a surface protective layer, being made from an aqueous composition and being excellent in adhesive property between respective layers and also having a durable anti-surface soiling property.例文帳に追加

表面保護層以外の種々の層（絵柄層、シーラー層等）を水性組成物から形成した化粧紙であって、各層間の接着性に優れ、しかも持続した耐表面汚染性を有する化粧紙を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of producing a molding having a fine pattern on the surface accurately by holding a photopolymerizable composition formed in the shape of a thin film by spin coating, or the like.例文帳に追加

表面に微細パターンを有する成型体の製造方法において、スピンコート法等により薄膜に形成された光重合性組成物を保持し、精度よく微細パターンを有する成型体を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

The transparent resin composition is used when a metal pattern layer whose surface is treated with blackening by a metal blackening treatment liquid and an optical film are laminated to be integrated, and includes a resin and a compound shown by general formula (I).例文帳に追加

透明性樹脂組成物は、金属黒化処理液により表面が黒化処理された金属パターン層と、光学フィルムとを積層一体化する際に用いられ、樹脂と、一般式（Ｉ）で表される化合物と、を含有する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive composition used as a positive type chemical amplification resist and having such high process admissibility as to ensure excellent resolving power and pattern profile even if considerable time elapses from the end of exposure to post-heating.例文帳に追加

ポジ型化学増幅レジストにあって、露光した後、後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるプロセス許容性が大きいポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a positive photosensitive resin composition which is developed with an alkaline aqueous solution in a short time, is produced in commercial production facilities, and forms a pattern having high resolution and high film thickness retention.例文帳に追加

アルカリ水溶液による短時間での現像が可能であり、量産設備で製造が可能で、かつ高解像度で膜厚保持率の高いパターンを形成できるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition suitable as a resist having sensitivity with respect to far ultraviolet rays, represented by active radiation (for example, ArF excimer laser, EUV, electron beam, and so forth), a substrate with resist film, and a pattern forming method.例文帳に追加

活性放射線（例えば、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＵＶ、電子線等）に代表される遠紫外線に感応するレジストとして好適な感放射線性樹脂組成物及びレジスト被膜付き基板並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition showing excellent resolution of a resist pattern after being developed, edge fusing property during storage and lamination follow-up property to the substrate, having an excellent tenting property of the cured film and aggregation property when the composition is dispersed in a developer, and useful as a DFR (dry film resist) for the manufacture of an alkali developing type printed wiring board.例文帳に追加

現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、保存時のエッジフューズ性と基板へのラミネート追従性とを両立しており、しかも硬化膜のテンティング性や現像液分散時の凝集性にも優れ、アルカリ現像型プリント配線板作製用ＤＦＲとして有用な光重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive resin composition giving a pattern free of cracking even in plating and even by washing and drying after plating, capable of precisely forming a thick plated/shaped body such as a bump or wiring and excellent also in sensitivity, resolution, etc., and a method for producing the plated/shaped body using the composition.例文帳に追加

特に、メッキ中およびメッキ後の水洗・乾燥によってもパターンにクラックを生じることがなく、バンプあるいは配線等の厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができ、かつ感度、解像度等にも優れたポジ型感放射線性樹脂組成物、並びに当該組成物を用いるメッキ造形物の製造方法を提供する。 - 特許庁

This phosphorus-containing compound containing a vinyl monomer having a phosphorus compound structure in its side chain, a vinyl monomer having a carboxyl group in its side chain and a vinyl monomer having an aryl or ester group in its side chain as structural units, the resin composition containing the compound, the photosensitive film 1 obtained by using the resin composition, the method for forming the resist pattern and the printed wiring board are provide.例文帳に追加

側鎖にリン化合物構造を有するビニルモノマー、側鎖にカルボキシル基を有するビニルモノマー、側鎖にアリール基又はエステル基を有するビニルモノマーを構造単位として含むリン含有化合物、該化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム１、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板。 - 特許庁

To provide a coloring light-sensitive resin composition, which has high line width stability relative to development and can form a pattern with high resolution, as well as a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure, and particularly to provide a coloring light-sensitive resin composition suitable for forming a colored pixel of a color filter or the like and a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure.例文帳に追加

現像に対する線幅安定性が高く、高解像度のパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法、特に、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な、着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive resin composition which excels in application property and radiation sensitivity, provides good pattern form and can form an interlayer insulating film having excellent heat resistance, solvent resistance, light transmittance, dry-etching resistance, and the interlayer insulating film obtained from the composition and a method for forming the film.例文帳に追加

塗布性に優れ、放射線感度、及び良好なパターン形状が得られると共に、耐熱性、耐溶剤性、光線透過率、耐ドライエッチング性に優れた層間絶縁膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物、その組成物から得られた層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁