「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(87ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに該組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition having high definition capable of corresponding to high image quality improvement and power consumption reduction of a collar liquid crystal display device, particularly a photosensitive coloring composition with high definition even for a thick film in COA system and with excellent adhesion preventing pattern peeling, and a color filter using the same.例文帳に追加

カラー液晶表示装置の高画質化、低消費電力化に対応できる高解像性を有する感光性着色組成物、特に、ＣＯＡ方式のような厚膜でも高解像度で、パターン剥がれをおこさない密着性の優れた感光性着色組成物、およびこれを用いたカラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁

The resin composition for forming a fine pattern contains a resin containing a hydroxyl group, a crosslinking component, and an alcohol-based solvent containing alcohol and water by 10 wt.% or less of the whole solvent, wherein the resin composition contains a compound having two or more epoxy groups in the molecule as the crosslinking component.例文帳に追加

水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、アルコール及び全溶媒に対して１０重量％以下の水を含むアルコール系溶媒と、を含有する微細パターン形成用樹脂組成物であって、前記架橋成分として、その分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物を含有する微細パターン形成用樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of standing waves, having high sensitivity, having a large depth of focus (DOF) and having excellent in-plane uniformity (CDU) of a linewidth when a highly reflective substrate is directly used without using an antireflection film, and a resist film using the composition, and a pattern formation method.例文帳に追加

反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition etc. for a color filter, with which no undissolved matter (residue) of the composition remains on an unexposed region, and no scum is produced on a pixel, even when a fine pixel array is to be formed, and with which a pixel array with excellent pattern shape and with excellent adhesion strength to a substrate is formed with a high yield.例文帳に追加

微細な画素アレイを形成する場合であっても、未露光部に組成物の未溶解物（残渣）が残存したり、画素上にスカムが発生することがなく、しかもパターン形状、基板との密着強度等にも優れた画素アレイを高い歩留りで形成することができるカラーフィルタ用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁

"industrial design" means any composition of lines or colours or any three-dimensional form, or any material, whether or not associated with lines or colours, provided that such composition, form or material gives a special appearance to a product of industry or handicraft and can serve as a pattern for a product of industry or handicraft and appeals to and is judged by the eye;例文帳に追加

「意匠」とは，線若しくは色彩の何らかの組合せ，若しくは何らかの立体形状，又は線若しくは色彩と関連しているか否かを問わず何らかの材料であって，工業又は手工芸の製品に特別の外観を与え，工業又は手工芸の製品の模様として役立ち，かつ，眼に訴え，眼によって判断されるものをいう。 - 特許庁

To provide a positive acting resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes of manufacturing a VLSI and a high-capacity microchip and has excellent line edge roughness and further a positive acting resist composition which has superior resolving power, defocusing latitude, and an exposure margin in contact-hole pattern formation.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlay film, the composition having excellent storage stability and giving a cured film as a resist underlay film that has high adhesiveness to a resist coating, an excellent etching selection ratio with respect to the resist coating film and to a substrate to be processed, low reflectance and the like, and thereby, exhibits excellent pattern forming property.例文帳に追加

保存安定性に優れるとともに、レジスト下層膜としての硬化膜がレジスト被膜との高い密着性、レジスト被膜及び被加工基板に対する優れたエッチング選択比並びに低反射性等を備えることで、優れたパターン形成性を発揮することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and a development margin that achieves formation of a preferable pattern feature even a developing time exceeds the optimum developing time in a developing process, and capable of forming a patterned thin film with excellent adhesiveness, and to provide an interlayer insulating film and a microlens formed from the composition.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物およびそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。 - 特許庁

The pattern forming method includes (1) applying a resist composition for negative development comprising a resin of which the polarity increases by the action of an acid to thereby reduce its solubility in a negative developer, (2) exposing the composition, and (3) performing development with a negative developer comprising an organic solvent having a metal impurity content of ≤100 ppb.例文帳に追加

（ア）酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（ウ）金属不純物の含有量が、１００ｐｐｂ以下の有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像を行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a thermosetting composition rich in pigment with a small amount of a resin used, suitable for etching, excellent in spectroscopic characteristics, pattern form's rectangularity and adhesion to lower and upper layers, and capable of thin-film formation, to provide a color filter and an image recording material each using the composition, and to provide a method for producing the color filter.例文帳に追加

エッチングに好適であり、分光特性、パターン形状の矩形性、並びに、下層および上層との密着性に優れ、かつ、薄膜化が可能であり、更に、樹脂の総使用量が少なく高濃度な顔料含有熱硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタ、画像記録材料およびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To enhance fine dispersibility of a pigment of a pigment dispersion composition to enhance storage stability and coloring force, to enhance optical sensitivity, storage stability, coloring force, a support adhesiveness and developability of a coloring curable composition to suppress reduction of a development residue and a color concentration (removal of color), and to attain formation of pattern of sufficient cross section shape.例文帳に追加

顔料分散組成物の顔料の微細分散性を高め、保存安定性、着色力を向上し、着色硬化性組成物の光感度、保存安定性、着色力、支持体密着性、及び現像性を高め、現像残渣及び色濃度の低下（色抜け）を抑え、良好な断面形状のパターン形成を可能にする。 - 特許庁

To provide a black color hardening composition achieving satisfactory close adhesiveness onto a substrate, high sensitivity, and forming a fine pattern, to provide a light shielding color filter achieving high light shielding performance in an infrared region and its manufacturing method by use of the black color hardening composition, and to provide a solid imaging element preventing the occurrence of noise and improving quality of picture image.例文帳に追加

基板密着性が良好で、感度が高く、微細なパターンを成形できる黒色硬化性組成物を提供し、それを用いて赤外領域の遮光性が高い遮光性カラーフィルタおよびその製造方法を提供し、ノイズ発生が防止され、画質が向上した固体撮像素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a curable resin composition for column spacer having excellent developability, solubility and an aptitude for EBR, forming a column spacer with clear pattern without leaving any developing residue in using for production of the column spacer to be used for manufacture of a liquid crystal display element, and to provide a column spacer composed of the curable resin composition and to provide a liquid display element.例文帳に追加

優れた現像性、溶解性、及び、ＥＢＲ適性を有し、液晶表示素子の製造に使用するカラムスペーサ用途に用いた場合、パターン形成時に現像残滓を生じることがなく、鮮明なパターンのカラムスペーサを形成することができる硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition highly transparent to a light of a wavelength of at most 250 nm, particularly to an ArF excimer laser light, excellent in resist performances such as sensitivity, resolution, adhesion to a substrate and dry etching resistance, and therefore suitable for the far ultraviolet light excimer laser lithography, an electron beam lithography and the like, and a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、感度、解像度、基板密着性、ドライエッチング耐性といったレジスト性能に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pigment excellent in dispersion stability, excellent in transparency and capable of reducing generation of a pinhole even if a coating film is formed, a pigment dispersion composition excellent in dispersion stability, a curable composition excellent in storage stability, coatability, sensitivity, non-exposure part developability, substrate adhesion property and a pattern shape, a color filter, and its manufacturing method.例文帳に追加

分散安定性に優れ、透明性に優れ、また塗布膜を形成してもピンホールの発生が低減される顔料、分散安定性に優れた顔料分散組成物、保存安定性、塗布性、感度、未露光部現像性、基板密着性、パターン形状等に優れた硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The single layer prism sheet comprises a vinyl ester composition as a main structural component and has a prism pattern formed on the surface, wherein a plurality of triangular prisms the cross-sectional figure of which is a triangle having a vertex angle of 70 to 110° are arranged in a pitch of 100 μm or less on one surface of the sheet comprising a vinyl ester composition and further containing a polyfunctional acrylate.例文帳に追加

ビニルエステル組成物を主たる構成成分とし、表面にプリズム形状が形成されてなる単層プリズムシートであって、ビニルエステル組成物、更には多官能アクリレートを併用したシートの片面に、その断面形状が頂角７０〜１１０°の三角形をなす三角柱状のプリズムをピッチ１００μｍ以下で複数並列に設けている。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes such as manufacture of VLSIs and high capacity microchips and whose surface roughness in etching is reduced, and further a resist composition which has superior characteristics of sensitivity, resolving power, a profile, a pattern fall, a side lobe margin, roughness and fineness dependency, etc.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが低減されたレジスト組成物、また更には、感度、解像力、プロファイル、パターン倒れ、サイドローブマージン、疎密依存性などの諸特性にも優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In the processing method, a photosensitive resin composition comprising a polybenzoxazole precursor and a photosensitive diazoquinone compound is applied, prebaked, exposed and developed to form a pattern, curing is carried out at a temperature higher than the prebaking temperature and lower than the final curing temperature, and after etching, the photosensitive resin composition is finally cured.例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール前駆体と感光性ジアゾキノン化合物からなる感光性樹脂組成物を塗布、プリベーク、露光、現像し、パターンを作成した後、プリベーク温度より高い温度、ただし、最終硬化温度より低い温度にて硬化を行い、その後、エッチングし、感光性樹脂組成物を最終硬化する感光性樹脂組成物の加工方法である。 - 特許庁

To provide an unsaturated group-containing urethane resin for an active energy ray-curing which gives a coating film performance excellent in flexibility, softness, surface hardness, fouling resistance, weather resistance and the like, an active energy ray-curing composition using the resin and a method for forming a resist pattern using the composition.例文帳に追加

柔軟性、屈曲性等に優れ、かつ表面硬度、耐汚染性ならびに耐候性等にも優れた塗膜性能を得られる活性エネルギー線硬化用不飽和基含有ウレタン樹脂、該不飽和基含有ウレタン樹脂を用いた活性エネルギー線硬化組成物及び該活性エネルギー線硬化組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide a method for forming an interlayer insulation film and microlenses from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and such a development margin as to form a good pattern shape even by development for over an optimum developing time in a developing step, the composition easily forming a patterned thin film excellent in adhesion and being suitable for forming an interlayer dielectric or microlenses.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an ultraviolet ray-curing type inkjet composition which is excellent in storage stability and can suitably be used for forming patterns excellent in glossy sense and abrasion resistance; to provide a production method by which the ultraviolet ray-curing type inkjet composition can efficiently be produced; and to provide a recorded article formed using the ultraviolet ray-curing type inkjet composition and having a pattern excellent in glossy sense and abrasion resistance.例文帳に追加

保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターンの形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット用組成物を提供すること、当該紫外線硬化型インクジェット用組成物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット用組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁

To provide: a conductive resin composition capable of reducing volume cost, forming a fine conductive pattern with favorable conductivity, and achieving lower cost; and an electronic circuit board.例文帳に追加

導電性樹脂組成物において、ボリュームコストを低減させることができるとともに、形成される微細な導電パターンにおいて、良好な導電性を有し、低コスト化を図ることが可能な導電性樹脂組成物、及び電子回路基板を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high exposure sensitivity and good developability, capable of forming a precision and complete pattern, and excellent in various physical properties such as film strength, heat and chemical resistances after curing when used as a resist.例文帳に追加

レジストとして使用した場合、露光感度が高く現像性が良好で、精密で正確なパターンを形成することができ、且つ硬化後において、塗膜強度、耐熱性及び耐薬品性等の諸物性に優れる感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

The present invention also encompasses a lithographic structure containing the underlayer prepared from the above composition, a method of making the lithographic structure, and a method of using the lithographic structure to pattern an underlying material layer on a substrate.例文帳に追加

本発明は、本発明の組成物から調製される基層を備えるリソグラフィ構造物、そのようなリソグラフィ構造物を製作する方法、およびそのようなリソグラフィ構造物を用いて基板上の下地材料層をパターン化する方法も含む。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for far ultraviolet rays, particularly KrF eximer laser light, having improved line edge roughness, excellent sensitivity, resolution and focal depth and capable of reducing foreign substance on a resist pattern and decreasing standing wave.例文帳に追加

遠紫外光、特にＫｒＦエキシマレーザー光に好適で、ラインエッジラフネスが改善され、感度、解像力、焦点深度が優れ、レジストパターン表面上の異物が減少し、更に定在波も低減したポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an acrylic polymer which is suitable for a radiation-sensitive resin composition which has high transparency to radiation and excels in the basic properties (e.g. sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern shape) as a resist and particularly excels in contact hole formation.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、コンタクトホール形成に優れる感放射線性樹脂組成物に適したアクリル系重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a colored composition simultaneously achieving storage stability and low temperature calcination, a colored pattern excellent in development resistance, heat resistance, solvent resistance, voltage holding ratio, or the like, a color filter, a color display element having a color filter and a method for manufacturing a color filter.例文帳に追加

保存安定性と低温焼成を両立する着色組成物、及び現像耐性、耐熱性、耐溶媒性、電圧保持率等に優れる着色パターン、カラーフィルタ、カラーフィルタを備えるカラー表示素子及びカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for an etching resist giving a cured film excellent in etching resistance even in secondary etching at a high temperature and excellent also in suitability to subsequent alkali dissolution and removal and in pattern forming property and suitable for use as a backing material particularly in the manufacture of a shadow mask.例文帳に追加

高温下の２次エッチングにおいてもその硬化膜が耐エッチング性に優れ、その後のアルカリ溶解・剥離性及びパターン形成性のいずれにも優れる、特にシャドウマスク製造時の裏止め材に適したエッチングレジスト用硬化型組成物の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an inkjet head related to a positive type resist which does not generate cracks even when a resin composition becoming an ink passage wall is solvent-coated on the upper layer of the positive type resist which forms a liquid chamber pattern of a thick film, and to provide the inkjet head.例文帳に追加

厚膜の液室パターンを形成するポジ型レジストの上層に、インク流路壁となる樹脂組成物をソルベントコートしても、クラックを生じることがないポジ型レジストに係るインクジェットヘッドの製造方法及びインクジェットヘッドの提供。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation method, restraining the occurrence of a droplet blot originating from a liquid for liquid dipping in liquid dipping exposure using a liquid for liquid dipping having a high refractive index, and a radiation-sensitive resin composition used in the formation method.例文帳に追加

高屈折率の液浸用液体を用いた液浸露光において、液浸用液体由来の液滴痕の発生を抑制できるレジストパターン形成方法、及びその形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming organic insulating film and to provide a method for forming pattern of the organic insulating film using the same by simplifying manufacturing process and producing an organic thin film transistor with a high degree of charge transfer in a completely wet process.例文帳に追加

製造工程を単純化することができ、電荷移動度の高い有機薄膜トランジスタを完全ウェット工程によって製造することができる、有機絶縁膜組成物およびこれを用いた有機絶縁膜のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive resin composition for electromagnetic wave shielding material for plasma display panel which can form a pattern of fine line width with high accuracy, and can reveal excellent electromagnetic wave shielding performance even if the particle size of conductive fine particles is small.例文帳に追加

微細な線幅のパターンを高精度で容易に形成することができ、かつ、導電性微粒子の粒径が小さくとも優れた電磁波シールド性を発現し得るプラズマディスプレイパネル用電磁波シールド材用導電性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A patterned resin layer 3 expressing a marble pattern is formed on the molding surface 2 of a casting mold 1 and, thereafter, a base resin composition 4 is injected in the casting mold 1 to be molded and cured to manufacture artificial marble.例文帳に追加

注型用金型１の成形面２に大理石柄を表現する模様付き樹脂層３を形成した後、注型用金型１内にベース樹脂組成物４を注入して成形硬化させる人造大理石の製造方法に関する。 - 特許庁

To obtain a positive type resist composition having high sensitivity and high resolving power, giving a rectangular photoresist, having good wettability with a developing solution, nearly free from development defects and ensuring a slight dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

高感度及び高解像力で、矩形形状を有するフォトレジストを与え、現像液への濡れ性が良好で現像欠陥が少なく、更に酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写時に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を得る。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which solves the problem of the occurrence of development defects and scum in development in micro-photofabrication using far ultraviolet light and which is capable of giving a resist pattern excellent in adhesion to a substrate.例文帳に追加

遠紫外光を使用するミクロフォトファブリケ−ションにおいて、現像の際の現像欠陥発生及びスカムの発生の問題を解消し、更には基板密着性に優れたレジストパターンを与え得るポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a dyestuff-containing curable composition which is suitable for yellow color and for green or blue color by combining it with a dyestuff of other color, and which is excellent in solubility in solvent, heat-resistance, lightfastness and pattern formability.例文帳に追加

イエロー色用として、及び他色染料との組合せによるグリーン色やブルー色の調整に好適であって、溶剤溶解性が良好で耐熱性、耐光性及びパターン形成性に優れた染料含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can cope with both wavelengths used for a direct drawing exposure method, has excellent photo sensitivity, and can improve the tent reliability and adhesion of a formed resist film and the resolution of a formed resist pattern.例文帳に追加

直接描画露光法に用いられる両波長に対応可能で、光感度に優れ、形成したレジスト膜のテント信頼性や密着性及び形成したレジストパターンの解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin forming a pattern of good form without a problem of bad compatibility of an acid generating agent with a polymer having an acid dissociation group, which is an essential component of a photoresist, and a photosensitive composition.例文帳に追加

酸発生剤とフォトレジストの主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、良好な形状のパターンを得ることができる感光性樹脂及び感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in resolution, sensitivity, pattern shape, etc., causing no development defect in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも解像度、感度、パターン形状等に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing an amine imide as a photobase generating agent which efficiently generates an enough strong base even with low exposure, together with a polyoxazole precursor, and to provide a method for manufacturing a relief pattern and a method for manufacturing a heat-resistant coating film.例文帳に追加

低露光量でも十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリオキサゾール前駆体と併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which has excellent photosensitive characteristics, can be developed with an aqueous alkali solution, shrinks hardly in curing, and ensures excellent adhesion and thermal shock resistance of a formed resist pattern.例文帳に追加

優れた感光特性を有し、アルカリ水溶液で現像可能であり、硬化に伴う収縮が十分に小さく、且つ、形成されるレジストパターンが優れた密着性及び耐熱衝撃性を有するポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition giving high solubility contrast regardless to the kind of a polyimide precursor by addition of a smaller amount of a photo-base generator, and thereby, giving a pattern having preferable features while maintaining a sufficient process margin.例文帳に追加

より少量の光塩基発生剤の添加で、ポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁