| 例文 |
pattern containingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1520件
The outermost layer at least is formed by using a resin material containing two or more thermoplastic resins different in a melting point, and the grain-toned pattern is attached thereto by stretching a high-melting thermoplastic resin put in a half-melted state.例文帳に追加
融点の異なる2以上の熱可塑性樹脂を含む樹脂材料を用いて少なくとも最外層を形成し、高融点の熱可塑性樹脂を半溶融状態としてこれを引き伸ばすことにより木目調模様を付与する。 - 特許庁
To provide a polymer having a uniform composition distribution for each of polymer chains, and suitable as a resist composition, a method for producing the same, a resist composition containing the polymer and a method for producing a substrate plate formed with a pattern.例文帳に追加
各高分子鎖ごとの組成分布が均一で、レジスト組成物用として好適な重合体およびその製造方法、その重合体を含むレジスト組成物、並びにパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
An image forming system includes an image receiving structure containing a tunable-resistivity material; and an energy source to emit an energy beam to the image receiving structure to program the tunable-resistivity material in a pattern.例文帳に追加
可調整抵抗材料を含む画像受容構造と、可調整抵抗材料をパターン状にプログラムすべく画像受容構造にエネルギービームを放射するエネルギー源と、を含む画像形成システムにより上記課題を解決する。 - 特許庁
A resist film 302 formed from a resist containing a butane-1,4-sultam being a heterocyclic sulfone is formed on a substrate 301, and then the resist film 302 is subjected to pattern exposure by selectively irradiating the resist film 302 with exposure light 303.例文帳に追加
基板301の上に、ヘテロ環式スルホンであるブタン-1,4-スルタムを含むレジストからなるレジスト膜302を形成し、続いて、レジスト膜302に対して露光光303を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁
A pattern forming method of the present invention includes (A) forming a film with a resist composition; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加
本発明に係るパターン形成方法は、(A)レジスト組成物を用いて膜を形成することと、(B)前記膜を露光することと、(C)有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。 - 特許庁
To provide a novel compound useful as an acid generator for resist composition, the acid generator formed of the compound, the resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加
レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
This decorative sheet comprises a substrate film, a pattern layer and an adhesive layer containing a modified polyolefin, wherein the adhesive layer is formed by applying an aqueous dispersion or non-aqueous dispersion of the modified polyolefin to the substrate film and by drying the resultant coat.例文帳に追加
基材フィルム、絵柄層、及び変性ポリオレフィンを含む接着層からなる加飾シートであって、該接着層が変性ポリオレフィンの水分散体又は非水分散体を塗布し乾燥させることにより形成されてなる加飾シート。 - 特許庁
To provide a silicon-containing resin excellent in ink dropping properties, ink repellency and developing properties, and a photosensitive resin composition which forms a coating film excellent in ink dropping properties and ink repellency and moreover forms a fine pattern.例文帳に追加
優れたインク転落性、撥インク性および現像性を奏する含フッ素樹脂、およびインク転落性、撥インク性、に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
In another embodiment, an alkali metal oxide is added to the basic glaze as a coloring auxiliary agent, and applying the yo-hen nucleation decorating agent containing titanium dioxide on the surface of the glaze to generate the pattern with lustering nuclei.例文帳に追加
また、基本となる釉薬に発色補助剤としてアルカリ金属酸化物を添加し、該釉薬を施釉した表面に、二酸化チタンを含む曜変核加飾剤を釉薬表面に塗布することにより光彩核の紋様を発生させる。 - 特許庁
In an embodiment in accordance with this invention, this device pre-stores rhythm patterns containing information on notes and important notes in a database A, and selects a rhythm pattern based on date A2 for melody creation according to composition conditions A1 (A4).例文帳に追加
この発明の一実施例では、打点情報及び重要打点情報を含むリズムパターンをデータベースA5に予め記憶しておき、作曲条件A1に応じたメロディ生成用データA2に基づいてリズムパターンを選択する(A4)。 - 特許庁
A pulp slurry comprising a solid component having a surface decorating effect and containing pulp fibers is used as a papermaking raw material to give the pulp molded article having an irregular pattern developed on the surface by the solid component having the surface decorating effect.例文帳に追加
表面装飾効果を有する固体成分及びパルプ繊維を含むパルプスラリーを抄紙原料とし、前記表面装飾効果を有する固体成分によって発現した不規則な模様を表面に有するパルプモールド成形体。 - 特許庁
To provide a photo-acid generating agent which enhances transparency and can prevent the lowering of sensitivity and of thermal stability, a photoresist composition containing the photo-acid generating agent and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
透明性を向上させた上で、感度及び熱安定性の低下を防止することができるようにした光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The antenna sheet is provided with a magnetic sheet 11 containing an Fe group amorphous alloy in a resin matrix, and an antenna pattern 12 directly formed on the magnetic sheet 11 and constituted of nanoparticles.例文帳に追加
本発明のアンテナシートは、樹脂マトリクス中にFe基非晶質合金を含んでなる磁気シート11と、前記磁気シート11上に直接形成され、ナノ粒子で構成されたアンテナパターン12と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁
An electromagnetic absorbing material includes a conductive carbon material containing layer, and a plurality of independent pattern which is desirably formed by a diffusion transferring process, formed by a metal.例文帳に追加
導電性炭素材料含有層と金属で形成された複数の独立したパターンを含むことを特徴とする電磁波吸収材料であって、好ましくは、当該パターンが、拡散転写法によって形成されたことを特徴とする。 - 特許庁
An evaluation window extraction circuit 133 extracts a partial image region containing a noticeable dot and the dot in the vicinity thereof to output an extracted pattern arranging signal having the data of the arrangement and color of the extracted dots.例文帳に追加
評価ウィンドウ抽出回路133は、注目ドット及びその近傍のドットを含む部分画像領域を抽出し、抽出された各ドットの配置及び色の情報を有する抽出パターン配置信号を出力する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition containing nanoparticles excelling in dispersibility in both resin and a developing solution and having excellent transmissivity and patterning property, and to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加
樹脂中及び現像液中の双方でナノ粒子の分散性が良く、透過率、パターニング性に優れるナノ粒子を含有した感光性樹脂組成物及び、それを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing a color filter comprises applying a photosensitive resin composition containing an ink-repelling agent on a substrate to form a partition pattern and thermally setting the partition by heating at 220 to 260°C in an inert atmosphere.例文帳に追加
撥インキ剤を含む感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、隔壁パターンを形成した後、隔壁を不活性雰囲気内で220〜260℃の加熱温度で熱硬化させることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁
In the optical module, containing a film-like high-polymer optical waveguide provided with a core layer (2), a lower clad layer (1), and an upper clad layer (4), a circuit pattern of a metal layer (3) is formed in the lower clad layer (1) or the upper clad layer (4).例文帳に追加
コア層(2)、下部クラッド層(1)、及び上部クラッド層(4)を有するフィルム状の高分子光導波路を含む光モジュールにおいて、下部クラッド層(1)あるいは上部クラッド層(4)に金属層(3)の回路パターンを形成する。 - 特許庁
A test code generator reads out test procedure names in test procedure pattern information according to a test order and reads out test code information pieces each containing a test code fragment ID associated with the read-out test procedure name.例文帳に追加
実施形態のテストコード生成装置は、テスト手順パターン情報内のテスト手順名をテスト順番に沿って読み出し、当該読み出したテスト手順名に関連付けられたテストコード断片IDを含むテストコード情報を読み出す。 - 特許庁
To provide a rame-containing patterned scrubbing brush and a scrubbing brush fabric having been impossible to commercialize so far, by forming alphabet letter(s) or desired pattern(s), or the like so as to float in a sharp and clear-cut fashion using a single rame yarn and colored yarns.例文帳に追加
一本のラメ糸と色糸を用いてシャープでくっきり浮き出すようにアルファベット文字や所望の絵柄等を形成できるようにしてこれまで商品化できなかった絵柄模様のラメ入りたわし、及びたわし生地を提供する。 - 特許庁
A developing roller includes a conductive core body, an elastic layer, and a surface layer; the elastic layer is formed by continuously winding portions not containing foam cells in a spiral pattern from the conductive core body to the outer peripheral surface of the elastic layer.例文帳に追加
導電性芯体と弾性層と表層とを有し、該弾性層は発泡セルを含まない部位を導電性芯体からスパイラル状に弾性層の外周面まで連続して存在させていることを特徴とする現像ローラ。 - 特許庁
The formation of an upper electrode 42 is performed by transforming a liquid 2 containing fine metallic particles into a metallic film through heat treatment after the liquid 2 is applied directly to the surface of a piezoelectric layer 40 in a pattern by means of an ink-jet head 101.例文帳に追加
上部電極42の形成を、インクジェットヘッド101により金属微粒子を含有する液体2を圧電体層40の上に直接パターン塗布した後、熱処理を施して液体2を金属膜に変換することで行なう。 - 特許庁
The pattern forming method in which the positive resist composition is used contains two kinds of resins containing specific repetitive units with alicylic groups, and (B) compound generating an acid upon being irradiated with active rays or radiation rays.例文帳に追加
脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を2種、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
A resist film 102 consisting of a resist containing 4-pentane lactam which is a heterocyclic ketone is formed on a base material 101, and the pattern exposure is implemented by irradiating an exposure light 103 on the resist film 102 through a mask 104.例文帳に追加
基板101の上に、ヘテロ環式ケトンである4−ペンタンラクタムを含むレジストからなるレジスト102膜を形成し、続いて、レジスト膜102に対して露光光103をマスク104を通して照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁
Electrodes 41 and 42 of a wiring pattern set on the printed board are electrically connected to a discrete electrode 19 and a common electrode 20 with the use of an anisotropic conductive material containing conductive particles 44 of a constant size.例文帳に追加
一定の大きさの導電性の粒子44が含有された異方性導電材料を用いて、プリント基板上に設けられた配線パターンの電極41,42と個別電極19及び共通電極20を電気的に接続した。 - 特許庁
PRODUCTION METHOD OF ALKENYL PHENOL POLYMER, ALKENYL PHENOL POLYMER PRODUCED BY THE PRODUCTION METHOD, POSITIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING THE ALKENYL PHENOL POLYMER AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
アルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
To provide a chemical amplification type resist composition containing a new salt and a resin composition, having a good resist performance suitable for an excimer laser lithography, giving an improved line edge roughness and having a good pattern profile.例文帳に追加
新規な塩と樹脂成分を含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適した、レジスト性能が良好であるとともに、改善されたラインエッジラフネスを与え、かつパターンプロファイルの良好な化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
This method includes an electrolytic plating step wherein a conductor pattern is formed on a base metal film formed on an insulation substrate, by using a plating liquid containing a plating accelerating additive agent for reducing deposit overvoltage of plating metal.例文帳に追加
絶縁基板上に形成された下地金属膜上に、めっき金属の析出過電圧を小さくするめっき促進添加剤を含むめっき液を用いて、導体パターンを電解めっきによって形成する電解めっき工程を備える。 - 特許庁
(1) Photosensitive resist ink containing a 2,4,5-triallyl imidazole dimer or its derivative, or acridine or its derivative is used as the photosensitive resist ink used for forming the resist pattern by the direct resist drawing method.例文帳に追加
(1)レジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられる感光性レジストインクにおいて、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体又はその誘導体、もしくはアクリジン又はその誘導体を含有する感光性レジストインクを用いる。 - 特許庁
This panel material obtained by impregnating a sheet substrate material made of slurry containing basalt fibers and inorganic fibers with a thermosetting resin and hardened, is formed with a pattern of the Japanese paper by the sheet substrate material and the thermosetting resin.例文帳に追加
バサルト繊維及び無機繊維を含むスラリーを抄造して成形されたシート基材に熱硬化性樹脂を含浸させ硬化したパネル材であって、シート基材と熱硬化性樹脂とによって和紙模様が形成されているパネル材である。 - 特許庁
Raw material particles containing at least raw material atoms or molecules ionized under reduced pressure are irradiated on the deposition surface of the substrate on which a pattern has been formed by electric charges of the polarity opposite to the polarity of the ions.例文帳に追加
減圧下、イオン化させた、少なくとも原料原子又は分子を含む原料粒子を、該イオンとは逆極性の電荷でパターンを形成した基板の被成膜面に照射することを特徴とする堆積膜形成方法。 - 特許庁
To obtain a photopolymer composition containing a polyimide precursor having ethylenic double bonds reactive to an actinic radiation such as an ultraviolet radiation in side chains, being developable with an aqueous alkali solution, and having negative pattern forming properties.例文帳に追加
紫外線などの活性光線に反応可能なエチレン性不飽和二重結合を側鎖にもつポリイミド前駆体であり、アルカリ水溶液にて現像が可能なネガ型パターン形成能を有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition which suppresses dimensional variation of a resist pattern due to definite-period storage of the resist composition, with respect to a resist composition obtained by dissolution in an organic solvent containing ethyl lactate, and a method for producing the resist composition.例文帳に追加
乳酸エチルを含む有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物において、レジスト組成物の経時によるレジストパターンの寸法変動が抑制されたレジスト組成物、および該レジスト組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁
The pattern forming method has a first step for forming the liquid repellent part H by applying a droplet containing a liquid repellent material on the substrate having lyophilic part and a second step for applying the functional liquid on the lyophilic part Pa surrounded by the water repellent part H.例文帳に追加
親液部を有する基板に対して、撥液材料を含む液滴を塗布して撥液部Hを形成する第1工程と、撥液部Hに囲まれた親液部Paに機能液を塗布する第2工程とを有する。 - 特許庁
The method of forming the resist pattern includes steps of: forming a lower layer film 13 where polymer containing fluorine is added on a film to be processed 12; baking the lower layer; forming an interlayer film 14 on the lower film; and forming a resist film 15 on the interlayer film 14.例文帳に追加
被加工膜12上にフッ素含有ポリマーを添加した下層膜13を形成し、この下層膜をベークし、上記下層膜上に中間膜14を形成し、この中間膜14上にレジスト膜15を形成する。 - 特許庁
Since the opening 15a of the gettering mask film 15 is formed by self-aligment technology utilizing the photoresist 16 as a mask, the opening pattern of the gettering mask film is formed, without being shifted from the opening pattern 16a of the photoresist 16 and a CGS film containing no impurity of catalytic metal can be formed by performing a photolithographic process only once.例文帳に追加
ゲッタリングマスク膜15の開口部15aは、フォトレジスト16をマスクとして利用して、セルフアラインにより形成されるので、フォトレジスト16の開口部16aのパターンに対して、ゲッタリングマスク膜の開口部のパターンがずれることなく形成され、1回のフォトリソグラフィ工程によって、触媒金属による不純物を含まないCGS膜を形成することができる。 - 特許庁
When a photosensitive resin composition layer disposed on the surface of a substrate is exposed through a pattern mask and either the unexposed regions or the unexposed regions and the surface of the substrate under the unexposed regions are sandblasted to form a rugged pattern, a photosensitive resin composition layer containing a urethane-acrylic resin having no carboxyl group as a base polymer is used.例文帳に追加
基材面に設けた感光性樹脂組成物層にパターンマスクを介して露光を行った後、未露光部分又は未露光部分と該未露光部分の下部の基材面をサンドブラスト加工して凹凸模様を形成させるにあたり、カルボキシル基を含有しないウレタンアクリル系樹脂を、ベースポリマーとして含む感光性樹脂組成物層を使用する。 - 特許庁
In order to solve the above problem, the multilayer wiring board characterized by laminating two or more wiring boards each comprising: a characteristic change layer containing at least a photocatalyst and changing its characteristics by the action of the photocatalyst; and a conductive pattern formed along a pattern of the characteristic change layer with the characteristic changed.例文帳に追加
上記目的を達成するために、少なくとも光触媒を含有し、かつ光触媒の作用により特性が変化する特性変化層と、前記特性変化層の特性が変化したパターンに沿って形成された導電性パターンとからなる配線基板を、少なくとも2層以上積層してなることを特徴とする多層配線基板を提供する。 - 特許庁
The forming method of a resist pattern is employed, which comprises the processes of forming a resist film 2 containing silicon on a workpiece substrate 1, forming a protective film 3 on the resist film 2 for suppressing release of silicon from the resist film 2, and forming a latent image of a predetermined resist pattern by irradiating the resist film 2 with exposing light 5 via the protective film 3.例文帳に追加
被加工基板1上にシリコンを含むレジスト膜2を形成する工程と、レジスト膜2の上にレジスト膜2からのシリコンの放出を抑制する保護膜3を形成する工程と、保護膜3を介してレジスト膜2に露光光5を照射し所定のレジストパターン潜像を形成する工程とを有するレジストパターン形成方法を用いる。 - 特許庁
In the method for producing the ceramic green sheet, after a prescribed electrode pattern is formed on the heat-peelable adhesive layer of the carrier sheet having the adhesive layer containing a side chain type crystalline resin on one side of a base film, the ceramic green sheet is molded by ceramic slurry on the adhesive layer on which the electrode pattern is formed.例文帳に追加
ベースフィルムの片側に、側鎖型結晶性樹脂を含む加熱剥離粘着層を有するキャリアシートの当該加熱剥離粘着層上に、所定の電極パターンを形成した後、当該電極パターンの形成された加熱剥離粘着層上にセラミックスラリーによりセラミックグリーンシートを成形することを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。 - 特許庁
To provide a resist composition containing, as a base material, a molecular material capable of reducing LER and LWR in EUV lithography capable of forming an ultrafine pattern, and giving a resist film which ensures low outgassing in EUV exposure and has high etching resistance, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加
極微細パターンを形成可能なEUVリソグラフィーにおいて、LER及びLWRの低減が可能な分子性材料を基盤材料として含有するレジスト組成物であって、EUV露光時でのアウトガスが低く、またエッチング耐性の高いレジスト膜を与えるレジスト組成物、およびこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing device 1 for the electronic circuit board includes a laser 3 configured to form a predetermined hydrophilic pattern on a water-repellent surface of a substrate B having the water-repellent surface by irradiating the substrate B with light or an electron beam, and an ink head 2 having a print head 21 for discharging ink containing a conductive component onto the pattern.例文帳に追加
電子回路基板の製造装置1は、撥水性の表面を有する基板Bに光または電子線を照射することにより前記基板Bの表面に親水性を有する所定パターンを形成するレーザー3と、前記パターン上に導電性成分を含むインクを吐出するプリントヘッド21を有するインクヘッド2と、を備えている。 - 特許庁
The multilayer printed circuit substrate includes at least two laminated wiring boards each having a characteristic change layer containing at least a photocatalyst and changing in characteristics by an operation of the photocatalyst and a conductive pattern formed along the pattern changed in the characteristics of the changing layer.例文帳に追加
上記目的を達成するために、少なくとも光触媒を含有し、かつ光触媒の作用により特性が変化する特性変化層と、前記特性変化層の特性が変化したパターンに沿って形成された導電性パターンとからなる配線基板を、少なくとも2層以上積層してなることを特徴とする多層配線基板を提供する。 - 特許庁
To provide a dye-containing negative curable composition excellent in temporal stability after prepared and showing a small variation in pattern line width due to variation in exposure energy, a color filter excellent in hue and resolution and having a good pattern profile, and a method for producing a color filter by which the above color filter can be produced with high productivity (high cost performance).例文帳に追加
組成物作成後の経時安定性に優れ、かつ露光量変動によるパターン線幅変動の割合が小さい染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、色相及び解像力に優れ、パターン形状が良好なカラーフィルタ及び該カラーフィルタを高い生産性(高いコストパフォーマンス)にて作製し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁
A mask is formed on a permeable substrate, a first region having an optically catalytic film on the substrate and the mask is formed, light is allowed to penetrate the substrate to irradiate light to the optically catalytic film, a second region is formed by partially reforming the first region, and a pattern is formed by delivering a composition containing a pattern formation material to the second region.例文帳に追加
透光性を有する基板上にマスクを形成し、基板及びマスク上に光触媒膜を有する第1の領域を形成し、基板に光を通過させて光触媒膜に照射し、第1の領域の一部を改質して第2の領域を形成し、第2の領域にパターン形成材料を含む組成物を吐出してパターンを形成する。 - 特許庁
A circuit device is equipped with an optical path 101 as a three- dimensional body which serve as an optical path for optical communication, a circuit layer 105 possessed of a circuit pattern formed like an outer shell around the optical path, and optical communication parts 102 and 103, which form a part of the circuit containing the circuit pattern.例文帳に追加
光通信用の光路となる立体物としての光路部101と、この光路部の周りに外殻のように形成された回路パターンを有する回路層105と、光路部と回路層との間に位置し、光路部を介して光通信を行うことにより、回路パターンを含む回路の一部を構成する光通信部102、103とを備える。 - 特許庁
The pattern form comprises a substrate, a property changing layer formed on the substrate, containing at least a photocatalyst, fine metal particles and a property imparting agent, and undergoing a change in property due to irradiation with energy, and a property changed pattern obtained by patternwise changing a property of the property changing layer.例文帳に追加
上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒、金属微粒子、および特性付与剤を含有し、エネルギー照射により特性が変化する特性変化層と、前記特性変化層の特性がパターン状に変化した特性変化パターンを有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 - 特許庁
A liquid droplet 2 of a solution containing organic EL material (functional material) giving colors such as red, green, and blue is given using a liquid injection head so that each color is arranged in a mosaic manner on a transparent electrode pattern 4 of the glass substrate 5 with a barrier 3 surrounding the ITO transparent electrode pattern 4 to form the organic EL substrate (functional substrate).例文帳に追加
ITO透明電極パターン4を囲む障壁3付きガラス基板5の透明電極パターン4上に赤、緑、青に発色する有機EL材料(機能性材料)を各色がモザイク状に配列されるように、液体噴射ヘッドを用いて有機EL材料を含む溶液の液滴2を付与して、有機EL基板(機能性基板)を形成する。 - 特許庁
The packaging material is composed of a biodegradable film, a pattern layer printed on the biodegradable film and containing a biodegradable resin as a main binder, an overcoat layer provided to a region excepting a heat seal so as to cover the pattern layer and preventing adhesion due to heat, and the heat sealant layer selectively provided to the heat seal region.例文帳に追加
生分解性のフィルムと、この生分解性フィルム上に印刷され、生分解性樹脂を主たるバインダーとする絵柄層と、この絵柄層を被覆して設けられ、かつ、ヒートシール部位を除く部位に設けられ、熱による接着を防止するオーバーコート層と、ヒートシール部位に選択的に設けられたヒートシール剤層とを備えるを特徴とする。 - 特許庁
The method for manufacturing the electromagnetic wave shielding film comprises (1) a step of laminating a photoresist containing a plating substrate material on a transparent base, (2) a step of forming a geometrical photoresist pattern by exposing and developing the photoresist, and (3) a step of forming a metal layer on the plating substrate material of the photoresist surface formed with the photoresist pattern.例文帳に追加
(1)透明基材上にメッキ下地材料を含有させたフォトレジストを積層させる工程と、(2)前記フォトレジスト層を露光、現像することにより幾何学的なフォトレジストパターンを形成させる工程と、(3)前記フォトレジストパターンを形成したフォトレジスト表面部のメッキ下地材料に金属層を形成させる工程と、を含む方法である。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|