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pattern containingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1520件
The switch patterns 14, 18 are formed by laminating a melt-bonded circuit board formed by heating a paste containing a metal or metal compound at 140-250°C to mutually melt-bond the metal particles existing in the paste or metal particles or metal particles deposited from the metal compound on a resin-containing circuit pattern composed of a resin-containing conductive paste containing a conductive powder dispersed in a resin binder.例文帳に追加
スイッチパターン14,18は導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に、金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層して形成される。 - 特許庁
In the transparent pattern electrode 20 provided with, on its transparent support, a conductive metal layer 1 including metal fiber and a conductive polymer layer 2 containing a conductive polymer containing a π-conjugated conductive polymer and polyanion and a polymer (A), the conductive metal layer and the conductive polymer layer have a laminated structure like a pattern image.例文帳に追加
透明支持体10上に、金属繊維を含有する導電性金属層1を有し、更にπ共役系導電性高分子とポリアニオンを含んで成る導電性ポリマーおよび下記ポリマー(A)を含有する導電性ポリマー層2とを有する透明パターン電極20において、該導電性金属層と該導電性ポリマー層が、パターン像様の積層構造を有することを特徴とする透明パターン電極。 - 特許庁
To accurately detect an end point of plasma etching in a process of forming a pattern on an extreme ultraviolet absorption film, in a method of manufacturing a mask for extreme ultraviolet exposure including the process of forming a pattern on an extreme ultraviolet absorption film by performing plasma etching using a gas containing carbon (C) to the extreme ultraviolet absorption film using a substrate having the extreme ultraviolet absorption film formed of a material containing Ta and N.例文帳に追加
TaとNを含有する材料からなる極端紫外線吸収膜を有する基板を用い、前記極端紫外線吸収膜に対して炭素(C)を含むガスを用いたプラズマエッチングを行うことにより、前記極端紫外線吸収膜にパターンを形成する工程を有する極端紫外線露光用マスクの製造方法において、前記工程でのプラズマエッチングの終点を高精度に検出する。 - 特許庁
A composition containing a hydrophilic polymer having a photoactive group in at least a side chain or an end is brought into contact with the top of a hydrophobic support, energy is imagewise imparted to fix the hydrophilic polymer on a hydrophobia polymer-containing layer, thereby forming a hydrophilic pattern, and then a coloring material is stuck to the hydrophilic pattern or to a hydrophobic region with no imparted energy.例文帳に追加
疎水性支持体上に、少なくとも側鎖又は末端に光活性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、疎水性ポリマー含有層上に該親水性ポリマーを固定化して親水性パターンを形成し、該親水性パターン、或いはエネルギーを付与されていない疎水性領域のいずれかに色材を付着させることを特徴とする。 - 特許庁
The photo development equipment includes a developing solution supplier for supplying a negative development solution; and a first photo apparatus to form a positive photoresist pattern, by using a positive photoresist containing a novolac resin as a base and containing an acrylic resin with the above negative development solution, wherein the photoresist pattern is necessary for forming a black matrix by patterning a light-shielding metal layer formed on a substrate.例文帳に追加
本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第1フォト装備を含むことを特徴とする。 - 特許庁
The method for forming the microparticle pattern includes patternwise exposing a substrate 1 having a layer 5 formed on an uppermost surface thereof and containing a silane coupling agent having a thiol, amino, hydroxyl, carboxyl or sulfo group protected by a photodegradable protective group, and immersing the substrate in a colloidal solution in which metal atom-containing microparticles are dispersed to selectively deposit metal atom-containing microparticles 3 on an exposed portion 4.例文帳に追加
光分解性保護基で保護されたチオール基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはスルホ基を有するシランカップリング剤を含有する層5が最上面に形成された基板1をパターン状に露光した後、該基板を金属原子含有微粒子が分散されたコロイド溶液に浸漬し、金属原子含有微粒子3を露光部4に選択的に付着させる微粒子パターン形成方法。 - 特許庁
To provide an inorganic powder-containing resin composition which achieves high solvent resistance of a pattern after development and can form a black matrix suitable for batch formation of a plurality of members; a transfer film having an inorganic powder-containing resin layer comprising the inorganic powder-containing resin composition; and a method for manufacturing a flat panel display in which a plurality of members including a black matrix are batch-formed.例文帳に追加
本発明は、現像後のパターンの耐溶剤性が高く、複数部材の一括形成に適したブラックマトリクスを好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、当該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、ブラックマトリクスを含む複数部材を一括形成するフラットパネルディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁
When the character of a form similar to the character in this dedicated dictionary image exists, concerning an area containing a noncoincident part between this dedicated dictionary image and the dedicated dictionary image containing the similar character, partial pattern matching is performed between the extracted area and the dedicated dictionary image containing the similar character and it is discriminated whether the character in the extracted area is coincident with the similar character or not.例文帳に追加
この専用辞書画像の文字と形状が類似した文字が存在する場合、この専用辞書画像と類似文字を含む専用辞書画像との不一致部分を含む領域について、抽出した領域と類似文字を含む専用辞書画像との部分パターンマッチングを行い、抽出した領域の文字が、類似文字と一致するか否かを判別する。 - 特許庁
In a production method of a printed circuit board, an injection of a conductive ink in a groove processed by the imprinting method can embody the circuit pattern having a desired thickness, and prevent the bleeding of the conductive ink and the distortion of the pattern in the baking process of the ink containing a metal.例文帳に追加
印刷回路基板の製造方法において、インプリント方式で加工した溝に導電性インクを注入することで、所望する厚みの回路パターンを具現することができ、金属の含有された導電性インクの焼成過程でのインクの滲み及びパターン形状の歪みを防止することができる。 - 特許庁
To provide a dye containing curing composition for forming high-resolution pattern images (for instance, pixels) superior light resistance, heat resistance, pattern formation and solvent resistance by suppressing elution to a developing liquid of an exposure part, and to provide a color filter using it and its manufacturing method.例文帳に追加
露光部の染料の現像液への溶出が抑制され、耐光性、耐熱性、パターン形成性(現像性)、および耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像(例えば画素)を形成することができる染料含有硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
In the paper exclusive for the electronic pen on which a dot pattern to be read by the electronic pen in which an imaging part is built is printed, the printed dot pattern is printed with the ink containing the fluorescent body emitting visible light by ultraviolet rays or infrared rays.例文帳に追加
前記課題の目的を達成するために、撮像部を内蔵する電子ペンで読み取られるためのドットパターンが印刷された電子ペン専用用紙であって、前記印刷されたドットパターンは、紫外線または赤外線により可視光を発光する蛍光体を含むインキで印刷された電子ペン専用用紙を提供する。 - 特許庁
To precisely discriminate the presence of the adhesion of residue in inspecting the presence of the adhesion of the residue consisting of an organic component to the surface of a resist pattern by applying an electron beam to a substrate which the resist pattern and an antireflection film being an organic film containing silicon overlie in this order from the upper side.例文帳に追加
レジストパターンと、シリコンを含む有機膜である反射防止膜と、が上側からこの順番で積層された基板に対して、電子線を照射することにより、当該パターン上への有機成分からなる残渣の付着の有無を検査するにあたり、精度高く残渣の付着の有無を判別すること。 - 特許庁
A resin composition for the decorative plate containing a curable crystalline oligomer simple substance solid at an ordinary temperature, or crystalline oligomer and unsaturated polyester, is applied to pattern paper or core paper for the decorative plate, and a curing agent solution is applied to the back face to obtain resin coated pattern paper and resin coated core paper which are thermocompression-integrated.例文帳に追加
硬化性を有する常温で固形の結晶性オリゴマー単体、または結晶性オリゴマーと不飽和ポリエステルとを含む化粧板用樹脂組成物を化粧板用パターン紙またはコア紙に塗布し、裏面に硬化剤溶液が塗布して樹脂塗工パターン紙及び樹脂塗工コア紙を得、熱圧一体化する。 - 特許庁
To provide a positive type silicone-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region with ArF or KrF as a light source in the production of a semiconductor device, having high resolving power and giving a resist pattern excellent in density dependency and margin for exposure particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、ArFやKrFを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に0.18μm以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコーン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁
As an alternative, patterns containing figures or letters are applied to a part of the front body cloth 1a and sleeves 1c, 1d in a manner to develop an integrated, continuous or single correlated pattern to form a correlated pattern in the course of slipping off the wear and/or fastening buttons of the wear.例文帳に追加
また、前身頃、袖の夫々の一部に、絵柄や文字を含む模様を関連づけて付し、衣類を着た状態で、関連づけた模様を一体化、連続化あるいは1つの関連した模様を形成させる動作で、衣類を脱ぐ動作あるいは/および衣類のボタン止め動作が行える態勢になるようにしている。 - 特許庁
To provide a positive type silicon-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source and having high resolving power in the production of semiconductor device and giving a resist pattern excellent in density dependency particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm and in margin for exposure.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、ArFやKrFを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に0.18μm以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁
After the first resist pattern is formed using the resist composition containing a thermal base generator as a chemically-amplified resist composition in the first patterning, a hard bake process is performed before the second patterning, for baking the first resist pattern under a bake condition that a base is generated from the thermal base generator.例文帳に追加
1回目のパターニングの際、化学増幅型レジスト組成物として、熱塩基発生剤を含有するレジスト組成物を使用して第一のレジストパターンを形成した後、2回目のパターニングを行う前に、第一のレジストパターンを、前記熱塩基発生剤から塩基が発生するベーク条件にてベークするハードベーク工程を行う。 - 特許庁
To provide a negative resist composition for ion beam writing having good thermal stability and storage stability, containing few ionic impurities such as Cl and Na, excellent in transparency in a wide wavelength region, and giving a resist pattern with a large film thickness and a high aspect ratio, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
レジスト組成物自体の熱安定性・保存安定性が良好で、ClやNaなどのイオン性の不純物が少なく、広い波長領域で透明性に優れ、厚膜かつアスペクト比の高いレジストパターンが得られるイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The resin sheet holds the sheet-shaped extruded material between the pattern roll with the geometrical pattern formed and the cooling roll after the resin composition containing 0.05-1.0 pt.wt. of a methacrylate-acrylate copolymer per 100 pts.wt. of a polycarbonate resin or a mixed resin comprising the polycarbonate resin and a polyester resin is melted/extruded.例文帳に追加
ポリカーボネート樹脂、あるいはポリカーボネート樹脂とポリエステル樹脂との混合樹脂100重量部に対し、メタクリル酸エステル・アクリル酸エステル共重合体を0.05〜1.0重量部含有せしめた樹脂組成物を溶融押出した後、シート状押出物を幾何学模様が付された型付ロールと冷却ロールとの間に挟持する。 - 特許庁
This security medium 1 uses the heat storage agent or the cool storage agent, and a pattern 2 of printing ink containing a material prepared by micro-capsuling the heat storage agent or the cool storage agent is printed, together with another pattern 3, on a part of either the front or back side of the base 1a of the security medium.例文帳に追加
本発明のセキュリティ媒体1は、蓄熱剤または蓄冷剤を使用したセキュリティ媒体であって、当該セキュリティ媒体基材1aの表裏いずれかの面の一部に、蓄熱剤または蓄冷剤をマイクロカプセル化した材料を含む印刷インキによる絵柄2が、他の絵柄3とともに印刷されている、ことを特徴とする。 - 特許庁
In a dry etching process of the fine mask pattern of a membrane mask, a radical and an ion, containing at least one of nitrogen, carbon, and oxygen that do not contribute to pattering, are generated by plasma for supplying to the upper and side surfaces and foundation of the mask pattern, and a layer (membrane) for restraining the generation of stress is reliably formed on the side.例文帳に追加
メンブレンマスクの微細マスクパターンのドライエッチング工程において、パターニングに寄与しない窒素、炭素もしくは酸素の少なくとも一つ以上を含むラジカルやイオンをプラズマにより発生させて、マスクパターンの上面、側面および下地に供給し、側面に応力発生を抑制する層(膜)を確実に形成する。 - 特許庁
A hydrophilic TFT pattern 19 surrounded by a hydrophobic region 14 is formed on a substrate, and spontaneous movement is generated in a fluid containing the organic molecules or nano wires dropped on a channel 12, by characteristically forming the TFT pattern.例文帳に追加
基板上に撥液性の領域14に囲まれた親液性のTFTパターン19を形成し、そのパターンの形状に特徴を持たせることによりチャネル部12に滴下した有機分子やナノワイヤを含む流体に自発的な運動を生じさせ、その運動によりチャネル部に有機分子やナノワイヤを配向させる。 - 特許庁
In the color filter whose thickness-direction retardation has the relationship of (red pixels)≤(green pixels)≤(blue pixels), the red pixels are produced by forming a pattern with a red colored composition containing an organic compound having an epoxy group as a retardation adjuster and hardening the pattern, and the red pixels have a negative retardation.例文帳に追加
厚み方向位相差が赤色画素≦緑色画素≦青色画素の関係を有するカラーフィルタにおいて、前記赤色画素が、リタデーション調整剤として、エポキシ基を有する有機化合物を含有する赤色着色組成物にてパターン形成し硬膜してなる赤色画素であるとともに、負のリタデーションを持つ赤色画素である。 - 特許庁
The light emitting device includes a body, a first electrode having a protruding pattern on the body, a second electrode electrically isolated from the first electrode on the body, a junction layer on the first electrode containing the protruding pattern, and a light emitting element on the junction layer.例文帳に追加
本発明による発光装置は、胴体と、上記胴体の上に突出パターンを有する第1電極と、上記胴体の上に上記第1電極と電気的に分離された第2電極と、上記突出パターンを含む第1電極の上の接合層と、上記接合層の上の発光素子と、を含む。 - 特許庁
An insulating layer 3 is formed on a substrate 2 on which a wiring pattern 4 is formed, a bottomed via hole reaching the wiring pattern 4 is formed in the insulating layer 3 in the thickness direction, and then the bottomed via hole is filled with a conductive material 6, i.e. conductive paste containing conductive particles or conductive particles and thermoplastic resin.例文帳に追加
配線パターン4が形成された基材2上に絶縁層3を形成し、絶縁層3の厚み方向に配線パターン4に達する有底ビアホールを形成し、その有底ビアホールに導電性材料6として導電性粒子若しくは導電性粒子と熱可塑性樹脂とを含む導電性ペーストを充填する。 - 特許庁
In an optical plate, its manufacturing method, a display device, and its manufacturing method, an optical plate is formed on the polarizing plate transmitting polarization among incident light, and includes a phase delay layer containing a first pattern providing 3 lambda/4 phase delay of the polarization and a second pattern providing λ/4 phase delay of the polarization.例文帳に追加
光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法において、光学板は入射光のうち、偏光を透過させる偏光板上に形成され、偏光を3λ/4位相遅延させる第1パターン及び偏光をλ/4位相遅延させる第2パターンを含む位相遅延層を含む。 - 特許庁
In the iris registration apparatus 10, a light emission part 12 irradiates a subject in a specific emission pattern, to be imaged by an imaging part 14, an iris coding part 16 encodes the image into a bit string, and a registration data generation part 18 generates registration data containing the bit string and an emission pattern ID and registers it in a registration data storage part 20.例文帳に追加
虹彩登録装置10は、発光部12が特定の発光パターンで被登録者に照明を当てて撮影部14がその画像を撮影し、虹彩符号化部16がこの画像をビット列へと符号化し、登録データ生成部18がそのビット列と発光パターンIDとからなる登録データを生成し登録データ記憶部20に登録する。 - 特許庁
In the disposable wet towel with a picture pattern, a nonwoven fabric layer containing a cellulose fiber and a hot melting synthetic fiber is bonded to overlie both surfaces of a thermoplastic synthetic resin film with the picture pattern printed on at least one simultaneously with being embossed by the heating embossing to make a laminate, which is soaked with wetting water.例文帳に追加
少なくとも片面に絵柄印刷を施した熱可塑性合成樹脂フィルムの両面に、セルロース系繊維及び熱融着型合成繊維を含有する不繊布層が加熱エンボス加工によって型付と同時に接着して積層されている積層体に湿し水を含有させてなる絵柄付使いすておしぼり。 - 特許庁
In this floor material, a vinyl chloride resin foam layer is formed on a base material, a pattern layer is formed on the foam layer, a top coat layer is formed on the pattern layer, and a layer containing a deodorant for deodorizing the aldehydes by 1.0 to 9.0 wt.% is formed on the top coat layer.例文帳に追加
基材上に塩化ビニル樹脂発泡層が形成され、前記発泡層上に絵柄模様層が形成され、前記模様層上にトップコート層が形成され、前記トップコート層上に、アルデヒド類を消臭する消臭剤を1.0〜9.0重量%含有する層が形成されていることを特徴とする床材である。 - 特許庁
A method of manufacturing a substrate for liquid crystal display device, on which a protrusion for liquid crystal divided alignment is formed, is characterized by containing a stage for forming the protrusion by exposing and developing a photosensitive resin via a mask having a pattern corresponding to the protrusion and gradation of light transmittance in the pattern.例文帳に追加
液晶分割配向のための突起が形成された液晶表示装置用基板の製造方法であって、突起に対応したパターンを有し、かつ該パターン内で光透過率に階調をもたせたマスクを介して感光性樹脂を露光、現像することによって突起を形成する工程を含むことを特徴とするものである。 - 特許庁
This grain type resin molded article is obtained by injection-molding or blow-molding a resin material containing a dye or ≤1 pt.wt. of a pigment and 0.05 to 10 pts.wt. of a pattern material for developing the natural stone pattern to a transparent base resin comprising a thermoplastic resin such as polypropylene resin or ABS resin.例文帳に追加
ポリプロピレン樹脂、ABS樹脂等の熱可塑性合成樹脂からなる透明性を有する基材樹脂に、染料または1重量部ないしはそれより少ない顔料を、天然石模様を現出させるための模様材を0.05〜10重量部含有させてなる樹脂材料を射出成形またはブロー成形する。 - 特許庁
To provide a pattern forming technique for forming a pattern on a substrate by coating a substrate surface with an application liquid containing a photo-curable material and irradiating with light, which is capable of preventing the application liquid from being adhered to the periphery of a nozzle and securely irradiating and curing the applied liquid with light.例文帳に追加
基板表面に光硬化性材料を含む塗布液を塗布して光照射することで基板上にパターンを形成するパターン形成技術において、ノズル周辺での塗布液の固着を防止し、しかも、塗布された塗布液に確実に光を照射して硬化させることのできる技術を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus for manufacturing a functional substrate by forming a dot pattern with high definition and high precision by using a solution containing a functional material to form the high quality fuctional substrate, and the high quality functional substrate manufactured by the manufacturing apparatus and having the dot pattern with high definition and high recision formed thereon.例文帳に追加
機能性材料を含有する溶液によるドットパターン形成を高精細かつ高精度に行い高品質な機能性基体を形成する機能性基体製造装置、及びこのような製造装置によって製作され、高精細かつ高精度なドットパターンを形成された高品質な機能性基体を提供する。 - 特許庁
A pattern is formed on a place to become the non-image line part on the base material by a photosensitive resist and a film of a fluorine-containing silane based compound is formed on the remaining surface of the base material as the image line part and the surface of the base material which is appeared by removing the photosensitive resist pattern is defined as the non-image line part.例文帳に追加
基材上の非画線部となる箇所に感光性レジストでパターンを形成し、残る基材表面に含フッ素シラン系化合物の膜を形成して画線部とし、感光性レジストパターンを除去することで現れる基材表面を非画線部とする剥離印刷用刷版の製造方法。 - 特許庁
The ROM 81 stores a plurality of pattern data for each of performance means 30, 41, 42, 43, 44 and 50 and a plurality of performance combination data containing the information for specifying the pattern data corresponding to the contents of the game performances to be carried out by the respective performance means 30, 41, 42, 43, 44 and 50.例文帳に追加
ROM81には、演出手段30,41,42,43,44,50のそれぞれについての複数のパターンデータ、及び各演出手段30,41,42,43,44,50に行わせる遊技演出の内容に対応するパターンデータを特定するための情報を含む複数の演出組合せデータが格納される。 - 特許庁
An ink-jet method using a liquefied substance containing conductive particles as an ink at a normal temperature is used for the formation of the conductive pattern 411 (including 412, 414), the conductive particles are made to contact with one another by drying and solidifying this ink, and thus the conductive pattern 411 (including 412, 414) is formed.例文帳に追加
この導通パターン411(412,414も)の形成には、常温では導電性粒子を含有した液状物をインクとするインクジェット法が用いられ、当該インクを乾燥固化させることにより導電性粒子を相互接触させて、導通パターン411(412,414含)が形成されている。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can prevent a parasitic capacity increase of a conductive pattern due to a thickness increase of a barrier film by preventing a contact resistance of a portion connected with N-type conductive region from increase in forming the conductive pattern directly connected with the N-type conductive region containing silicon.例文帳に追加
シリコンを含むN型の導電領域と直接接続される導電パターンの形成時に、N型の導電領域と接続される部分のコンタクト抵抗の増大を防止し、バリア膜の厚さ増大に伴う導電パターンの寄生容量の増大を防止できる半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
Concerning this inlet sheet, a circuit pattern 2b of copper foil containing a loop antenna is formed on one surface of a thermoplastic resin support 1 having thermally melt-sticking property and on the other surface of the support 1, a circuit pattern 2c of copper foil connected with an IC chip 6a in a bear chip state by an ACF 20 is provided.例文帳に追加
このインレットシートは、熱融着性を有する熱可塑性樹脂製の支持体1の一方の表面にループアンテナを含む銅箔の回路パターン2bが形成され、支持体1の他方の表面にはACF20によりベアチップ状態のICチップ6aと接続された銅箔の回路パターン2cが形成されている。 - 特許庁
To provide a decorative sheet made hard to generate the fading of a pattern caused by the deterioration of the pigment in a pattern printing layer by suppressing the attack of the pigment by the radical generated from an ink binder itself or a layer excepting a layer of other sheet, especially, the light strabilizer-containing layer on the surface side of the sheet by the deterioration of a resin and excellent in weatherability.例文帳に追加
インキバインダー自体やその他のシートの層、とりわけシート表面側の光安定剤が入っている層を除く層からの樹脂劣化により発生したラジカルが顔料をアタックすることを抑え、柄印刷層の顔料の劣化により柄が退色しにくい耐候性に優れた化粧シートを提供する。 - 特許庁
The present invention relates to the photosensitive resin composition containing (a) a polyimide resin having a specified repetition unit, (b) a compound generating a sulfonic acid when irradiated with light, and (c) a crosslinking agent having an alkoxymethyl or acyloxymethyl group on a nitrogen atom, a pattern manufacturing method using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加
(a)特定の繰り返し単位を含むポリイミド樹脂、(b)光照射によりスルホン酸を発生する化合物、及び(c)アルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を窒素原子上に有する架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁
In the ashing method, while irradiating a heating gas to a resist pattern 101 that is formed at the upper part of a silicon substrate 100 and having an alteration layer 101b formed at the surface layer in an oxygen-containing atmosphere, the silicon substrate 100 is cooled down to the temperature lower than the heating gas to remove the resist pattern 101.例文帳に追加
シリコン基板100の上方に形成されて表層に変質層101bが形成されたレジストパターン101に対し、酸素含有雰囲気中において加熱ガスを照射しながら、加熱ガスよりも低い温度にシリコン基板100を冷却してレジストパターン101を除去するアッシング方法による。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a film of a high strength heat resistant resin composition with formed pattern by forming a pattern in a film of a resin composition containing a thermoplastic precursor convertible to a high strength heat resistant polymer by irradiation with ion beams and curing the film by heating after development.例文帳に追加
高強度、耐熱特性を有するポリマーに変換可能な熱可塑性前駆体を含む樹脂組成物膜にイオンビーム照射によりパターン形成を行い、そのパターン形成された樹脂組成物膜を現像処理後に加熱硬化することにより、パターン形成された高強度、耐熱性樹脂組成物膜を作製する方法。 - 特許庁
A wiring pattern forming method for forming a wiring pattern on a liquid-repellent substrate P includes a step of forming a lyophilic region H1 by discharging and locating a lyophilic material X2 by means of a drip discharging method, and a step of providing a functional liquid containing conductive particles on the lyophilic region to form the wiring pattern by drying and baking.例文帳に追加
撥液性を有する基板P上に配線パターンを形成する配線パターン形成方法であって、液滴吐出法によって親液性材料X2を上記基板上に吐出配置することによって親液領域H1を形成する工程と、上記親液領域上に導電性微粒子を含む機能液を配置し乾燥、焼成させることによって上記配線パターンを形成する工程とを有する。 - 特許庁
The method of manufacturing a master mold for nanoimprint comprises forming a pattern on a resist-applied silicon substrate by electron beam drawing to prepare a silicon master, separating a master mold having a rugged pattern reverse to a resist pattern of the silicon master formed by electroforming, from the silicon master, and then eliminating resist residue on the surface of the master mold by irradiation of plasma containing atomic hydrogen.例文帳に追加
レジストを塗布したシリコン基板に電子線描画によってパターンを形成してシリコン原盤を作製した後、電鋳により形成された前記シリコン原盤のレジストパターンと逆の凹凸パターンを有するマスターモールドを前記シリコン原盤から剥離した後、原子状水素を含むプラズマの照射で前記マスターモールドの表面のレジスト残渣を除去することを特徴とするナノインプリント用マスターモールドの製造方法。 - 特許庁
To provide a polymer for cross-linking an anti-reflective film, which can be applied to an immersion lithography process and a damascene process and to provide an anti-reflective composition containing the polymer and a method for forming a photoresist pattern by using the polymer.例文帳に追加
液浸リソグラフィ工程およびダマシン工程への適用できる反射防止膜用架橋重合体、これを含む反射防止膜用組成物、及びこれを利用したフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
Resin impregnated overlay raw paper impregnated with a resin liquid containing a thermosetting resin as a main component, resin impregnated pattern paper and a core material are laminated on overlay raw paper having optical interference fibers incorporated therein by a papermaking process and the whole is molded under heating and pressure.例文帳に追加
光学干渉繊維を抄き込んだオーバーレイ原紙に、熱硬化性樹脂を主な成分とする樹脂液を含浸した樹脂含浸オーバーレイ原紙と、樹脂含浸パターン紙と、コア材とを積層し、加熱加圧成形する。 - 特許庁
Moreover, since the straight pattern part containing the lead bar 8c and the chip mounting part 6b can reduce bending of the sealed body 1 due to the stress when the chips 4C1 and 4C2 are sealed, peeling of the sealed body 1 can be avoided.例文帳に追加
また、リードバー部8cとチップ搭載部6bとを含む直線パターン部分がチップ4C1,4C2の封止時の応力により撓むのを低減できるので、封止体1の剥離を回避することができる。 - 特許庁
To provide a dye-containing negative curable composition having high sensitivity, capable of forming a rectangular fine pattern, and ensuring high in-plane uniformity of a film in coating, and to provide a color filter using the composition and a method for manufacturing the color filter.例文帳に追加
高感度で矩形な微細パターン形成が可能でかつ塗布時の膜面内均一性が高い染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To prevent the deterioration of surface properties caused by a striped pattern notably appearing in a galvannealed steel sheet for automotive panel use in which a Ti-containing extra-low-carbon steel sheet with high formability is used as a basis material.例文帳に追加
成形性のよいTi含有極低炭素鋼板を母材とする、自動車用パネル用途向けの合金化溶融亜鉛めっき鋼板に顕著に見られる筋模様の発生による表面性状の劣化を防止する。 - 特許庁
To provide a new polymeric compound that can be used as a base component of a positive resist composition, and to provide a positive resist composition containing the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
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