「pattern containing」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern formation method that can perform a high throughput of wafer treatment with a process liquid containing potassium hydroxide (KOH) at a low cost by using a proper mask material.例文帳に追加

適切なマスク材料を用いることにより、水酸化カリウム(KOH)を含む処理液によるウエハの処理をスループット高く、低コストで行うことができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of readily producing a fat-eliminating paper containing water mark, having low production cost and capable of simply carrying out change, etc., of pattern of fat-eliminating paper for cosmetic.例文帳に追加

透かし模様入りの化粧用脂取紙の製造が容易であって、製造コストが低く、また、化粧用脂取紙の模様の変更等も簡便に行うことのできる方法を提供する。 - 特許庁

To provide an undercoat forming composition having a high n value, a low k value, transparency and high etching resistance, containing substantially no sublimable component, and used in resist pattern transfer.例文帳に追加

ｎ値が高く、ｋ値が低く透明でかつエッチング耐性が高く、更に昇華性成分が極めて少ない、レジストパターン転写時に使用される下層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a bright surface pattern structure capable of reducing the content of a bright material, making unnecessary for thickly forming a bright layer containing the bright material and developing excellent brightness.例文帳に追加

光輝材料の含有量が少なくて済み、光輝材料を含んだ光輝性層を厚く形成する必要がなく、優れた光輝性を発揮する光輝性表面模様構造を提供する。 - 特許庁

The stamper for imprint processing is provided with a metal-made stamper body on the surface of which a rugged pattern is formed, and a film formed on the surface of the stamper body and containing 10% or over of inorganic carbon.例文帳に追加

表面に凹凸パターンを有する金属製のスタンパー本体と、スタンパー本体の表面に形成された、無機カーボンを１０％以上含む膜とを具備したインプリント加工用スタンパー。 - 特許庁

To manufacture a master mold high in the uniformity of a recess of an uneven pattern containing a wide recess and a narrow recess in manufacturing the master mold using a reactive ion etching method.例文帳に追加

反応性イオンエッチング法を用いたマスターモールドの製造において、広幅凹部および狭幅凹部を含む凹凸パターンの凹部の均一性の高いマスターモールドを製造することを可能とする。 - 特許庁

To suitably form a conductive film pattern having a structure in which a transparent conductive film formed of metal oxide containing indium is laminated on a metal film formed of aluminum or aluminum alloy.例文帳に追加

アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属膜の上に、インジウムを含む金属酸化物からなる透明導電膜が積層された構造の導電膜パターンを良好に形成する。 - 特許庁

To form solder part and the solder grains on each conductor pattern, a paste containing the solder grains is screen printed and the solder grains are heat melted to facilitate formation.例文帳に追加

導体パターン上に上記半田部分や半田粒を形成するには、半田粉含有ペーストをスクリーン印刷し、半田粉を加熱溶融させることにより、簡単に形成することができる。 - 特許庁

The masonry used is from the original site, and is a highly unique quartzite containing a 'ripple pattern' fossil that is said to have been formed over 500 million years ago. 例文帳に追加

従って建物の腰石も現地で使われていた物であり、5億年以上前に形成されたという「漣痕」模様の化石がみられる成珪岩という実に珍しいものである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

NEW OXIME ESTER COMPOUND, RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR CONTAINING THE SAME, POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE TYPE RESIST BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING IMAGE PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法 - 特許庁

A substrate after developing an exposure pattern is rinsed by supplying a rinsing liquid containing a polyethylene glycol-based or acetylene glycol-based surfactant in a critical micelle concentration or lower.例文帳に追加

露光パターンを現像処理した後の基板に、臨界ミセル濃度以下のポリエチレングリコール系またはアセチレングリコール系の界面活性剤を含有するリンス液を供給してリンス処理する。 - 特許庁

The epitaxial structure 102 is provided on the substrate 100, and the substrate 100 contains a pattern containing a light emitting region L provided on the light emitting surface of the epitaxial structure 102.例文帳に追加

エピタキシャル構造１０２は基板１００上に設けられ、基板１００はエピタキシャル構造１０２の発光表面上に設けられた発光領域Ｌを含むパターンを含む。 - 特許庁

To provide a composition containing a water-soluble polymer which reacts with a photoresist layer to form a coating film along a surface thereof, and a photoresist pattern forming method using the composition.例文帳に追加

フォトレジスト層と反応してその表面に沿ってコーティング膜を形成することができる水溶性重合体を含む組成物、及びこれを用いたフォトレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This pattern forming method forms a barrier film 103 containing a polymer and a bridging agent on the resist film 102 of a substrate 101 to make this polymer cause a bridging reaction by heat.例文帳に追加

パターン形成方法は、基板１０１の上に形成したレジスト膜１０２の上に、ポリマーと該ポリマーに熱により架橋反応を生じさせる架橋剤とを含むバリア膜１０３を形成する。 - 特許庁

Ink for printing a conductor pattern comprises platinum powder containing 70% or more of platinum particles based on the whole platinum, each of the platinum particles having a particle size of 0.05 μm or more and 0.5 μm or less.例文帳に追加

導体パターン印刷用インクは、粒径が０．０５μｍ以上、０．５μｍ以下の白金粒子を白金全体に対して７０％以上含んだ白金粉末を含有している。 - 特許庁

No metal-containing accessory pattern is provided on a part adjacent to an electrode pad on a thin scribe line to a degree that laser radiation is necessary prior to dicing.例文帳に追加

ダイシングに先立ちレーザ照射する必要がある程度に細いスクライブライン上であって、電極パッドに隣接する部分には金属を含むアクセサリパターンを配置しないようにした。 - 特許庁

The photoluminescent pattern coating film forming method is performed by forming the base coating film on a base material and after that, the photoluminescent clear coating film containing 0.1-5 mass % aluminum flake pigment in the coating film.例文帳に追加

基材に、ベース塗膜を形成後、アルミニウムフレーク顔料を塗膜中に０．１〜５質量％含有する光輝性クリヤー塗膜を形成する光輝性模様塗膜形成方法。 - 特許庁

To provide a TiO_2-containing quartz glass substrate which, when used as a molding substrate for nanoimprint lithography, can form a concavoconvex pattern having dimensional fluctuations within ±10%.例文帳に追加

ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。 - 特許庁

The solder resist composition containing a resist pattern gelation, the dry film provided with the solder resist composition on a carrier film and the method of making resist patterns by using the same are provided.例文帳に追加

ゲル化剤を含有することを特徴とするソルダーレジスト組成物、該ソルダーレジスト組成物をキャリアーフィルム上に設けたドライフィルム、およびそれを用いたレジストパターンの作製方法。 - 特許庁

The photosensitive layers (5)-(6) are utilized as visible light shielding layers and an image pattern is selectively recorded in the photosensitive layers (2)-(4) separately containing thermally irreversible photochromic compounds.例文帳に追加

感光層（５）〜（６）を可視光遮光層として利用し、熱不可逆型フォトクロミック化合物をそれぞれ含む３種類の感光層（２）〜（４）に対して選択的に画像パターンを記録させる。 - 特許庁

The method for forming the silicon film includes a step where a silicon precursor or a solution containing a silicon precursor is applied like a pattern and it is processed thermally and/or optically.例文帳に追加

上記シリコン膜の形成方法は、シリコン前駆体又はシリコン前駆体を含有する溶液をパターン状に塗布し、次いで熱及び／又は光で処理する工程を含むものである。 - 特許庁

The concrete board comprises a hardened body of a composition containing at least cement, pozzolan fine powder, fine aggregate having ≤2 mm particle diameter, a water reducing agent and water and has a pseudo rock pattern on the surface.例文帳に追加

少なくとも、セメント、ポゾラン質微粉末、粒径2mm以下の細骨材、減水剤、及び水を含む配合物の硬化体からなるコンクリート板であって、表面に擬岩模様を有するコンクリート板。 - 特許庁

A pattern 3 for forming a conductive circuit is provided at a specific section of the conductive film 2 by using toner containing a photocatalyst or a developer for electrophotography (2).例文帳に追加

（２）前記導電膜２の所定部に光触媒を含むトナーあるいは電子写真方式用現像剤を用いて電子写真方式により導電回路形成用パターン３を設ける工程。 - 特許庁

A computer-implemented method for analyzing a physiological signal includes selecting a first time interval containing a pattern of interest in a recording of the physiological signal.例文帳に追加

生理学的信号を分析する、コンピュータに実装される方法の１つで、生理学的信号の１つの記録において、関心のあるパターンを含む第１の時間間隔を選択することを含む。 - 特許庁

In addition to that, there were other techniques such as the lacquer-used pattern-stamping technique, the foil-stamping of gold or silver foil and the technique of fine powder-shaking to draw patterns by a brush containing glue and shake gold and silver powders. 例文帳に追加

この他にも漆型押し技法や金箔・銀箔の箔押しや糊を付けた筆で紋様を描いて金銀砂子（すなご）を振り掛ける砂子振り等の技法も用いられた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The insulating film is subjected to dry etching through the mask pattern as a mask by the use of etching gas containing C_4F_8 and C_xF_y (x and y are each an integer and so set as to satisfy formulas, x≥5 and y≤(2x-1)).例文帳に追加

マスクパターンをマスクとし、Ｃ_4Ｆ_8ガスとＣ_xＦ_y（ｘ及びｙは整数であり、ｘ≧５、ｙ≦（２ｘ−１）を満たす）ガスとを含むエッチングガスを用いて、絶縁膜をドライエッチングする。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid-generating agent for a resist composition, an acid-generating agent consisting of the compound, a resist composition containing the acid-generating agent and a method for producing a resist pattern.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which prevents a shape failure of a wire in a circuit with a fine pattern and can manufacture a printed wiring board (or film) that does not cause a short circuit.例文帳に追加

微細パターンの回路配線の形状不良を防止し、ショート発生のないプリント配線板（あるいはフィルム）を製造し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative dye-containing curable composition having high sensitivity, ensuring no residue in an unexposed portion, capable of forming a rectangular fine pattern, and excellent in color fastness to heat and light.例文帳に追加

高感度で未露光部分に残査がなく、矩形な微細パターン形成が可能で熱堅牢性および光堅牢性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The conductive element is manufactured by the manufacturing method comprising subjecting the photosensitive material for forming the conductive element to pattern exposure and a developing process, the photosensitive material having support, a silver-salt-containing layer, and a conductive particle-containing layer with a binder content of ≤0.2 g/m^2.例文帳に追加

この導電性要素は、支持体と、銀塩含有層と、バインダ量が０．２ｇ／ｍ^２以下の導電性微粒子含有層とを有する導電性要素形成用感光材料をメッシュ状にパターン露光および現像処理する製造方法により製造される。 - 特許庁

The photosensitive resin composition, containing a pyrazolin compound indicated by (a) a thermoplastic copolymer containing an unsaturated carboxyl group, (b) an addition polymerization monomer, (c) an optical polymerization initiator and (d) formula (I), is prepared, and a resist pattern is formed by using the composition.例文帳に追加

（ａ）不飽和カルボキシル基を含有する熱可塑性共重合体、（ｂ）付加重合性モノマー、（ｃ）光重合開始剤、及び（ｄ）下記一般式（Ｉ）で示されるピラゾリン化合物を含有する感光性樹脂組成物を作成し、それを用いてレジストパターンを形成する。 - 特許庁

When a laminated ceramic capacitor 10 is manufactured, a specified ceramic green sheet among a plurality of ceramic green sheets containing a binder is coated with conductive paste containing a binder having a higher softening point than the binder in the ceramic green sheet to form an internal electrode pattern.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサ１０を製造するためには、バインダを含む複数のセラミックグリーンシートの所定のものに、セラミックグリーンシート中のバインダの軟化点より高い軟化点のバインダを含む導電ペーストを塗布することによって、内部電極パターンが形成される。 - 特許庁

The substrate with an ink accepting layer has at least one peak in an X-ray diffraction pattern, and the diffraction angle (2θ) of at least one peak has a layer containing a micelle-containing inorganic oxide (C) represented by the formula, 2θ=2sin^-1(λ/2d).例文帳に追加

Ｘ線回折パターンにおいて、少なくとも一つのピークを有し、かつそのうちの少なくとも一つのピークの回折角度（２θ）が（１）式で表されるミセル含有無機酸化物（Ｃ）を含んでなる層を有することを特徴とするインク受容層付基材である。 - 特許庁

By thus performing plasma processing using the gas containing the halogen element and the gas containing the inert gas, the metal oxide film pattern where the lower section linewidth is decreased can be obtained, and this allows the integration of a semiconductor device to be improved.例文帳に追加

このようにハロゲン元素を含むガス及び不活性ガスを含むソースガスを利用してプラズマ処理することにより、下部線幅が減少された金属酸化膜パターンを獲得することができ、これにより、半導体素子の集積度を向上させることができる。 - 特許庁

When compressed document data having separately an image pattern dictionary data part 51 containing pairs of image patterns and indexes and a document layout data part 52 containing pairs of area identification information and indexes are inputted, the image patterns paired with the indexes in the image pattern dictionary data part 51 out of both data parts are replaced with image patterns representing new translation characters.例文帳に追加

画像パターンとインデックスの各対を内包する画像パターン辞書データ部５１、及び領域識別情報とインデックスの各対を内包する文書レイアウトデータ部５２を個別に有する圧縮文書データが入力されると、それら両データ部のうち、画像パターン辞書データ部５１にて各インデックスと対を成している画像パターンを、翻訳された新たな文字を表す画像パターンと差し替える。 - 特許庁

The method of manufacturing the pattern electrode formed of a conductive layer formed on a support body and containing metal fine particles, includes a step of forming the conductive layer by coating a liquid containing metal fine particles on the support body, a step of pattern-printing metal fine particle-removing liquid on the conductive layer, and a cleaning step.例文帳に追加

支持体上に形成された金属微粒子を含有する導電層からなるパターン電極の製造方法であって、支持体上に金属微粒子含有液を塗設して導電層を形成する工程、当該導電層の上に金属微粒子除去液をパターン印刷する工程、及び洗浄工程を有することを特徴とするパターン電極の製造方法。 - 特許庁

The decorative sheet has a laminated structure comprising a transparent sheet laminated on a substrate sheet through a pattern layer, an adhesive layer and a protecting layer laminated on the transparent sheet wherein the pattern layer, the adhesive layer and the protecting layer are formed by (1) a composition not containing an organic solvent or (2) a composition containing an organic solvent having a carbon number of ≤5.例文帳に追加

基材シート上に模様層および接着剤層を介して透明シートが積層され、前記透明シート上に保護層が積層された積層構造を有しており、 前記模様層、前記接着剤層および前記保護層は、１）有機溶剤を含まない組成物又は２）炭素数が５以下の有機溶剤を含む組成物により形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

In the decoration sheet formed with at least a picture pattern layer on a substrate sheet, the picture pattern layer is formed of water-based ink including a polycarbonate-based polyurethane resin obtained by reaction of a polyfunctional compound containing liqid polycarbonate polyol at 20°C and a raw material mixture containing polyisocyanate.例文帳に追加

基材シート上に少なくとも絵柄模様層が形成されている化粧シートであって、当該絵柄模様層は、２０℃において液状であるポリカーボネートポリオールを含む多官能性化合物とポリイソシアネートとを含む原料混合物を反応させることにより得られるポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、を含有する水性インキによって形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

This material for forming the resist pattern coating film for forming the coating film on the resist pattern surface is constituted of the first aqueous solution containing a water-soluble resin A1 having a segment ionized in the aqueous solution to be charged with a positive charge, and the second aqueous solution containing a water-soluble resin A2 having a segment charged with a negative charge in the aqueous solution.例文帳に追加

レジストパターン表面に被覆膜を形成するためのレジストパターン被覆膜形成用材料であって、水溶液中で電離して正の電荷を帯びる部位を有する水溶性樹脂（Ａ１）を含有する第一の水溶液と、水溶液中で負の電荷を帯びる部位を有する水溶性樹脂（Ａ２）を含有する第二の水溶液とから構成されるレジストパターン被覆膜形成用材料。 - 特許庁

This phosphorus-containing compound containing a vinyl monomer having a phosphorus compound structure in its side chain, a vinyl monomer having a carboxyl group in its side chain and a vinyl monomer having an aryl or ester group in its side chain as structural units, the resin composition containing the compound, the photosensitive film 1 obtained by using the resin composition, the method for forming the resist pattern and the printed wiring board are provide.例文帳に追加

側鎖にリン化合物構造を有するビニルモノマー、側鎖にカルボキシル基を有するビニルモノマー、側鎖にアリール基又はエステル基を有するビニルモノマーを構造単位として含むリン含有化合物、該化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム１、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板。 - 特許庁

The coating agent for forming a thin film on the surface of a metal mask formed of a metallic material and having openings with a predetermined pattern comprises a fluorine-containing phosphonic acid compound containing fluorine in a molecule and is composed so that the phosphonic acid of the fluorine-containing phosphonic acid compound forms a salt with the metal atom of the metal mask.例文帳に追加

金属材料から形成されかつ所定のパターンで開口部を有するメタルマスクの表面に薄膜を形成するために用いられるコーティング剤において、分子中にフッ素を含有する含フッ素ホスホン酸化合物からなり、かつ該含フッ素ホスホン酸化合物のホスホン酸が前記メタルマスクの金属原子と塩を形成するように、コーティング剤を構成する。 - 特許庁

The first ionomer resin layer, an unstretched amorphous polyethylene terephthalate resin layer containing an inorganic filler, a pattern layer, the second ionomer resin layer, and the third ionomer resin layer are formed at least in this order on a backer layer containing an ethylene-vinyl acetate copolymer resin containing an inorganic filler as a main component.例文帳に追加

無機充填剤を含有するエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂を主体とするバッカー層の上に、第一アイオノマー樹脂層、無機充填剤を含有する非延伸の非結晶性ポリエチレンテレフタレート樹脂層、絵柄層、第二アイオノマー樹脂層、第三アイオノマー樹脂層が少なくともこの順に設けられてなることを特徴とする。 - 特許庁

Then, isotropic etching is made by reducing bias output applied to a wafer without containing N_2 or O_2, or etching under the conditions of a high mask selection ratio containing N_2 or O_2 for machining the grooves or holes slightly thinner than the pattern dimensions and isotropic etching while reducing bias output applied to the wafer without containing N_2 or O_2 are made periodically.例文帳に追加

その後N_２またはO_２を含まず、ウエハに印加するバイアス出力を低下させて等方的なエッチングを行う、又はパターン寸法よりも溝又は孔をやや細く加工するN_２またはO_２を含む高マスク選択比条件と、N_２またはO_２を含まず、ウエハに印加するバイアス出力を低下させて等方的なエッチングを周期的に行う。 - 特許庁

The manufacturing method of this mold 10 has a process for forming the primer layer 12 on the base material 11, a process for forming the film 23 containing the perfluoropolymer on the primer layer, a process for pressing a heated original mold 40 to the film 23 containing the perfluoropolymer and a process for separating the original mold 40 from the film 23 containing the perfluoropolymer to form the pattern layer 13.例文帳に追加

基材１１上にプライマー層１２を形成する工程と、プライマー層上にペルフルオロポリマーを含む膜２３を形成する工程と、ペルフルオロポリマーを含む膜２３に加熱されたオリジナルモールド４０を押しあてる工程と、ペルフルオロポリマーを含む膜２３からオリジナルモールド４０を分離しパターン層１３を形成する工程とを有する、モールド１０の製造方法。 - 特許庁

This mask for exposure comprises: a substrate; the photocatalyst containing layer formed on the substrate and at least containing the photocatalyst; an inorganic oxide layer formed on the photocatalyst containing layer; and a shielding portion formed in a pattern on the inorganic oxide layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層と、前記光触媒含有層上に形成された無機酸化物層と、前記無機酸化物層上にパターン状に形成された遮蔽部とを有することを特徴とする露光用マスクを提供する。 - 特許庁