「pattern containing」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dense metallic copper film having almost no voids therein by treating a printing pattern of a liquid composition containing particles formed of a copper oxide as a main component, with formic acid.例文帳に追加

銅酸化物からなる粒子を主成分とする液状組成物の印刷パターンをギ酸により処理し、空隙のほとんどない緻密な金属銅膜を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition having high sensitivity and capable of forming a rectangular pattern, a color filter using the curable composition, and a method for producing the color filter.例文帳に追加

高感度で、且つ、矩形なパターン形成が可能な染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN USING SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC DEVICE, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL DEVICE, GATE INSULATING FILM AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

The surface side 11a of a quartz glass substrate 11 on which a chromium/nickel laminate 27 containing a nickel film 26 formed in a wiring pattern is coated with a negative photoresist 31.例文帳に追加

配線パターン状にニッケル膜２６を含むクロム・ニッケル積層体２７が形成された石英ガラス基板１１の表面１１ａ側にネガレジスト３１をコーティングする。 - 特許庁

The resist pattern is formed by using the liquid for a liquid immersion exposure process containing a straight chain methyl hydrogen silicone oil and an annular silicone oil at a wavelength range of 200 nm or smaller.例文帳に追加

200nm以下の波長範囲において、直鎖メチル水素シリコーンオイルまたは環状シリコーンオイルを含有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する。 - 特許庁

A surface layer 7 made from the aqueous binder or obtained by forming a designed pattern with the aqueous binder is formed on the surface of the base layer 6 containing the tourmaline.例文帳に追加

次に、水性バインダーのみ、または水性バインダーでもってデザイン柄を施した表面層７を捺染プリントにてトルマリン入りベース層６の上面に形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a luminous tape and sheet by pattern-printing one surface of a synthetic resin made tape or sheet with ink containing a luminous pigment and a method of forming a sheet.例文帳に追加

蓄光顔料を含有するインキを合成樹脂製テープ又はシートの一面にパターン印刷してなる蓄光性テープ及びシートを製造する方法を提供する。 - 特許庁

Besides, a component containing the SAW element 21, a conductor pattern and a conductor layer are not formed in a conductor location inhibited area 14 within 100 μm from the periphery of the multilayer substrate 10.例文帳に追加

また、ＳＡＷ素子２１を含む部品、導体パターン、導体層は、多層基板１０の周囲から１００μｍ以内の導体配置禁止領域１４には形成しない。 - 特許庁

Dielectric paste 13 containing ceramic powder as a pigment is printed in a prescribed pattern on the surfaces of one kinds of green sheets 10 carrying ink stripes 12 on both ends.例文帳に追加

両端に帯状の黒インク筋１２を形成したグリーンシート１０の表面に、セラミック粉末を顔料とした誘電体ペースト１３を所定のパターンで印刷する。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high dimensional accuracy and a sensitive film obtained from the composition.例文帳に追加

高感度で寸法精度の高いパターンを形成することができる無機粒子含有感光性組成物およびそれから得られる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a field region composed of a first layer containing indium and/or aluminum capable of forming a desired resist pattern.例文帳に追加

所望のレジストパターンが形成可能な、インジウムおよび／またはアルミニウムを含む第１の層からなるフィールド領域を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The polishing surface 108 includes groove sets 128 and 132 each containing grooves arranged in a pattern in which the grooves 128 in one groove set cross the grooves 132 in another groove set.例文帳に追加

研磨面１０８は、それぞれ溝セットの溝１２８がもう一つのセットの溝１３２と交差するパターンで配置された溝を包含する溝セット１２８，１３２を含む。 - 特許庁

To provide a composition for a fluororesin-containing powder coating which gives a coating film having good weatherability and a designed embossed pattern on its surface.例文帳に追加

耐候性が良好でかつ表面に意匠性を有する凹凸模様が形成された塗膜を与えることができる、含フッ素樹脂粉体塗料用組成物を提供する。 - 特許庁

A bright pattern layer 1 comprising a binder resin containing a silver type or iridescent color type titanium coated mica powder is patternwise formed on a colored opaque base material B.例文帳に追加

着色不透明基材Ｂに、バインダー樹脂中にシルバータイプ又は虹彩色タイプの二酸化チタン被覆雲母粉を含有する光輝絵柄層１をパターン状に形成する。 - 特許庁

To provide a lactone backbone-containing polymer for photoresist which provides a photoresist film that can be exposed to light to change swiftly into an alkali-soluble area so that a delicate pattern can be precisely depicted.例文帳に追加

露光によりレジスト膜の露光部が速やかにアルカリ可溶性に変化し、微細なパターンを精度よく得ることのできるラクトン骨格含有フォトレジスト用ポリマーを得る。 - 特許庁

To provide a transparent electrode of a carbon nanotube (CNT) pattern containing a net-like thin film of the CNT and showing excellent optical transmittance and electric conductivity, and its manufacturing method.例文帳に追加

ＣＮＴの網目状薄膜を含み、優れた光透過性及び電気伝導性を示すカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）パターンの透明電極、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Etching is performed by using a C* gas and an F* gas containing CF+ ions from the top surface of the resist pattern film 14 to form an etching hole 112A in the oxide film 112.例文帳に追加

レジストパターン膜１１４の上面から、ＣＦ＋系イオンを含むＣ＊、Ｆ＊のガスを用いてエッチングを行い、酸化膜１１２にエッチング孔１１２Ａを形成していく。 - 特許庁

A continuous diamond-shaped pattern is formed on the surface of the porous polyurethane layer 3 by applying ink containing a solvent (such as dimethylformamide) that dissolves polyurethane resin.例文帳に追加

多孔質ポリウレタン層３の表面には、ポリウレタン樹脂を溶解する溶剤（ジメチルホルムアミド等）を含むインキを塗布することにより、連続したダイヤ状の模様が施されている。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive resin composition capable of forming a high-accuracy pattern, excellent in thermal decomposability of organic components, and ensuring less shrinkage after baking.例文帳に追加

精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN-FILM PATTERN USING THE SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC DEVICE, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL ELEMENT, GATE INSULATING FILM AND THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加

シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

The forming method of the conductive pattern 4 includes the steps of: forming the porous receiving layer 2 containing the pseudo boehmite on the substrate 1; forming the porous surface layer 3 containing the inorganic particles on the porous receiving layer 2; and providing liquid containing a conductive material onto the porous surface layer 3.例文帳に追加

導電パターン４の形成方法は、基板１上に擬ベーマイトを含有する多孔質受容層２を形成する工程と、多孔質受容層２上に無機粒子を含有する多孔質表面層３を形成する工程と、多孔質表面層３上に導電性材料を含有する液体を設ける工程とを有する。 - 特許庁

In this pattern forming method, a resist pattern is formed by generating an acid from a radiation-sensitive acid generation group-containing resin contained as a resin component in a radiation-sensitive resin composition by irradiation with an actinic ray or radiation to increase the solubility of the radiation-sensitive acid generation group-containing resin in a developer.例文帳に追加

本パターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming a resist layer containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene on a substrate; performing rendering or exposure of a predetermined pattern by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a developer containing n-amyl acetate at ≤5°C.例文帳に追加

基板上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う工程と、酢酸−ｎ−アミルを含む５℃以下の現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する工程と、を含む。 - 特許庁

A negative photoresist is obtained through steps of: providing a photoresist layer containing a polycarbonate resin having a specified structure and a photoacid generator such as diazonaphthoquinone on a substrate; masking the layer with a desired pattern; irradiating the pattern surface with UV rays; and then developing the resist by using a developing solution comprising a tetra-substituted ammonium hydroxide, a low molecular weight alcohol, and a solvent containing water.例文帳に追加

基板上に、特定構造のポリカーボネート樹脂及びジアゾナフトキノンなどの光酸発生剤を含むフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクし、このパターン面に紫外線を照射したのち、テトラ置換アンモニウムヒドロキシド、低分子アルコール及び水を含む溶媒から成る現像液を用いて現像することによりネガ型のフォトレジストを得る。 - 特許庁

The coating method comprises distributing and applying a finish coating material containing one or more granules selected from natural stones, colored aggregates and plant powders of a predetermined average grain size onto an undercoat containing granules of another predetermined average grain size and imparting a pattern to the surface of the finish coating material with a pattern roller before complete hardening of the finish coating material.例文帳に追加

特定の平均粒子径を有する粉粒体を含有する下塗材の上に、特定粒子径の自然石、着色骨材、植物性粉体から選ばれる１種以上の粉粒体を含有する仕上塗材を配り塗りし、該仕上塗材が完全に硬化する前に、パターンローラーで該仕上塗材表面にパターンを付与する。 - 特許庁

The structure with the mat-gloss tone pattern mixed in which a coating layer mainly containing a curable binder resin containing a delustering agent is formed on a substrate, and a gloss tone pattern is formed, a mat tone coating layer with the binder resin cured is partially worn, by a physical means such as abrasion and the molding using the structure are provided.例文帳に追加

基材上に、マット化剤が含有する硬化型結着樹脂を主体とする塗工層を設け、前記結着樹脂を硬化せしめたマット調塗工層を部分的に磨耗などの物理的手段によりグロス調模様を形成してなることを特徴とするマット−グロス調模様が混在する構造物およびその構造物を用いた成形体である。 - 特許庁

The reflection plate scatters and reflects light and includes a base layer containing, as a principal component, organic resin or Si (constituting a reflective pixel pattern 19a and a reflective pixel pattern 19c) and a reflective film (constituting a reflective pixel electrode 20) formed of an Al alloy film containing oxygen atoms, the film directly disposed on the base layer.例文帳に追加

本発明にかかる反射板は、光を散乱反射させる反射板であって、有機系樹脂又はＳｉを主成分とする下地層（反射画素パターン１９ａ、反射画素パターン１９ｃ）と、前記下地層の上に直接設けられ、酸素原子を含むＡｌ合金膜によって形成された反射膜（反射画素電極２０）と、を備えるものである。 - 特許庁

The pattern 5 is made by copper; i.e., a shape corresponding to the pattern 5 is printed onto the surface of the base 3 using catalytic element containing liquid, and metal component containing liquid including copper is brought into contact with the place where the printing is done to separate out the copper by an electroless plating method.例文帳に追加

パターン５は、銅によって形成されたもので、パラジウム化合物を含有する触媒成分含有液を用いて、パターン５に相当する形状の印刷を基体３の表面に施すとともに、当該印刷が施された箇所に銅を含有する金属成分含有液を接触させて、無電解めっき法にて銅を析出させることによって形成されている。 - 特許庁

When the photo mask is manufactured by forming a light shielding film pattern on one side of a light transmitting substrate and demarcating a light transmitting part by the light shielding film pattern, a fluorine-containing photocatalyst active layer containing a photocatalyst and a fluorine-based compound is formed in a manner that it can be overlapped on the light transmitting part on the plane view.例文帳に追加

光透過性基板の片面に遮光膜パターンが形成され、この遮光膜パターンによって光透過部が画定されているフォトマスクを作製するにあたり、光透過部と平面視上重なるようにして、光触媒とフッ素系化合物とを含有するフッ素含有光触媒活性層を形成することによって、上記課題を解決した。 - 特許庁

A method for manufacturing the circuit board comprises the steps of forming the conductive pattern 2 on a ceramic board 1 with conductive paste containing Bi(bismuth) of 0.1 to 1.0%, then coating the board 1 with a crystallized glass 3 containing CaO(calcium oxide) so as to cover except an electrode 2a of the pattern 2, and thereafter baking the board 1 at 800 to 850°C.例文帳に追加

Ｂｉ（ビスマス）が０．０％から１．０％含有された導電ペーストでセラミック基板１上に導電パターン２を形成し、次にこの導電パターン２の電極部２ａ以外を覆うようにセラミック基板１上にＣａＯ（酸化カルシウム）を含有する結晶化ガラス３を塗布し、その後、このセラミック基板１を８００℃から８５０℃で焼成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a transparent conductive film provided with a conductive pattern on a transparent film base material, the conductive pattern containing the conductive fiber is formed by applying an emulsion containing at least hydrophilic solvent and hydrophobic solvent and conductive fiber on the transparent film base material.例文帳に追加

透明フィルム基材上に導電性パターンを有する透明導電性フィルムの製造方法であって、少なくとも親水性溶媒と疎水性溶媒及び導電性繊維を含むエマルションを塗布することにより、前記導電性繊維を含有する導電性パターンを形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。 - 特許庁

The antenna circuit structure for IC card and tag 1 comprises a resin film substrate 11, a first circuit pattern layer composed of a copper foil containing copper as a main component, which is formed on one surface of the substrate 11, and a second circuit pattern layer composed of a copper foil containing copper as a main component, which is formed on the other surface of the substrate 1.例文帳に追加

ＩＣカード・タグ用アンテナ回路構成体１は、樹脂フィルム基材１１と、樹脂フィルム基材１１の一方表面の上に形成された、主成分として銅を含む銅箔からなる第１の回路パターン層と、樹脂フィルム基材１１の他方表面の上に形成された、主成分として銅を含む銅箔からなる第２の回路パターン層とを備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the polymer optical waveguide substrate comprising the processes of forming a polymer optical waveguide laminated body on a silicon substrate, removing the unnecessary part by performing the reactive ion etching via a resist pattern containing positive type silicon, and exfoliating the resist containing the silicon, is characterized in that an exfoliation liquid containing amino alcohol is used as an exfoliation liquid of the resist containing silicon.例文帳に追加

シリコン基板上に、ポリマー光導波路積層体を形成し、ポジ型シリコン含有レジストパターンを介して反応性イオンエッチングを行って不要部を除去し、次いでシリコン含有レジストを剥離する工程を含むポリマー光導波路基板の製造方法において、シリコン含有レジストの剥離液としてアミノアルコール含有剥離液を使用することを特徴とする方法。 - 特許庁

To provide a method of generating an exposure pattern that reduces the total number of drawing figures by changing a rectangles containing transverse lines to a one containing no transverse lines in consideration of an angle and a width through the use of two parameters to improve throughput while maintaining accuracy.例文帳に追加

２つのパラメータで角度、幅を配慮して、斜め線を含む矩形を斜め線を含まない矩形に変更することで総描画図形数を減らし、精度を保持したままスループットを向上させる露光パターン生成方法を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method includes a second resin film forming step of forming a second resin film as the acid transfer resin film on a first resin film containing a resin having an acid dissociable group and not containing a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加

酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a resist composition which is excellent in storage stability and has good lithography properties, to provide a method for forming a resist pattern using the resist composition, and to provide a nitrogen-containing organic compound useful as a nitrogen-containing organic compound component contained in the resist composition.例文帳に追加

保存安定性に優れ、リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、およびレジスト組成物に含有される含窒素有機化合物成分として有用な含窒素有機化合物の提供。 - 特許庁

The resist pattern thickening material contains resin, a compound selected among a cyclic compound represented by general formula (1), a compound having a carboxyl group-containing cyclic structure, and a compound containing an aromatic hydrocarbon structure and water.例文帳に追加

樹脂と、下記一般式（１）で表される環状化合物と、カルボキシル基を含む環状構造を有する化合物、及び、芳香族炭化水素構造を有する化合物のいずれかの化合物と、水と、を含むことを特徴とするレジストパターン厚肉化材料。 - 特許庁

A reaction mixture, as an essential condition, containing cesium ions as alkali metal ion sources is heated while stirring the same, so that cesium ion-containing aluminosilicate zeolite having a specified X-ray diffraction pattern can be crystallized.例文帳に追加

アルカリ金属イオン源としてセシウムイオンを含有することを必須条件とする反応混合物を撹拌しながら加熱することにより、特定のＸ線回折パターンを有するセシウムイオン含有アルミノシリケートゼオライトを結晶化することができる。 - 特許庁

The wiring for the electric circuit is formed by causing a solvent to contact with a metal ink pattern which is drawn on a substrate with metal ink containing metal fine particles and the dispersant containing a substituent that can be coordinated on the metal fine particles.例文帳に追加

電気回路用配線は、基板上に、金属微細粒子と、金属微細粒子に配位しうる置換基を有する分散剤と、を含む金属インクにより描画される金属インクパターンを溶媒に接触させることにより形成される。 - 特許庁

The alkali-developable positive photosensitive relief pattern forming material comprises an alkali-soluble material (A) containing both of a cage silsesquioxane structure-containing group and a phenolic hydroxyl group in the same molecule and a dissolution inhibitor (B).例文帳に追加

同一分子内に籠型シルセスキオキサン構造含有基とフェノール性水酸基の両方の基を含有するアルカリ可溶性物質（Ａ）、及び溶解抑止剤（Ｂ）を含有することを特徴とするアルカリ現像性のポジ型感光性レリーフパターン形成材料。 - 特許庁

The method of producing a patterned body includes an energy irradiation step for forming a wettability change pattern having a reduced contact angle with water on a resin substrate by arranging a photocatalyst containing layer containing a photocatalyst and a photocatalyst containing layer of a substrate on the photocatalyst containing layer side having a base, and a resin base material having water repellency to face each other and then radiating energy in a pattern.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板の光触媒含有層と、撥水性を有する樹脂製基材とを対向させて配置し、パターン状にエネルギーを照射することにより、前記樹脂製基材上に水との接触角が低下した濡れ性変化パターンをパターン状に形成するエネルギー照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The resin composition for pattern reverse is used for a method for forming a reversed pattern comprising: a step of forming a resist pattern on a substrate to be processed; a step of embedding a resin composition for pattern reverse between the patterns of the resist patterns; and a step of removing the resist patterns to form reversed patterns, and contains polysiloxane containing a constitutional unit having a specific acryloyloxy alkyl group, and an organic solvent.例文帳に追加

パターン反転用樹脂組成物は、被加工基板上にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンのパターン間にパターン反転用樹脂組成物を埋め込む工程と、レジストパターンを除去し、反転パターンを形成する工程と、を備える反転パターン形成方法において用いられるものであって、特定のアクリロイルオキシアルキル基を有する構成単位を含むポリシロキサンと、有機溶剤と、を含有する。 - 特許庁

The compound machine is provided with a storage means for storing an operation conducted by a user by turns, a first control pattern generating means for generating the first control pattern for specifying a content of the operation by reading the operation stored in the storage means, and a control sheet printing means for printing the control sheet, containing the first control pattern generated by the first control pattern generating means.例文帳に追加

本発明に係る複合機は、ユーザの行った操作を順次記憶する、記憶手段と、前記記憶手段に記憶されている操作を読み出して、その操作内容を特定することのできる第１制御パターンを生成する、第１制御パターン生成手段と、前記第１制御パターン生成手段で生成された第１制御パターンを含む制御シートを印刷する、制御シート印刷手段と、を備えている。 - 特許庁

By incident energy that reaches a wiring pattern as the specified structure embedded inside the testpiece 2 to be reflected thereat and escape from the surface of the testpiece, electronic beams as charged particles are irradiated to a region containing the wiring pattern to scan the region.例文帳に追加

試料２の内部に埋設された特定構造物としての配線パターンに到達し、特定構造物で反射して試料表面から脱出するに足る入射エネルギーで配線パターンを含む領域に荷電粒子としての電子ビームを照射して走査する。 - 特許庁

A slot machine 1 is provided with a first slot game which conducts a game using a first pattern arrangement table 34a and a main display 3 equipped with a function to execute a second slot game conducting a game using a second pattern arrangement table 34B and containing a help screen W2.例文帳に追加

スロットマシン１は、第１図柄配列テーブル３４Ａを用いて遊技を行う第１スロットゲームと、第２図柄配列テーブル３４Ｂを用いて遊技を行う第２スロットゲームとを実行する機能を有し、またヘルプ画面Ｗ２を含むメインディスプレイ３を備える。 - 特許庁