「pattern containing」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for manufacturing the semiconductor device having the solder dump on a semiconductor substrate, after having formed a metal pattern containing a barrier metal material as a main component by using screen printing in the region for the solder dump on the semiconductor substrate to be formed, the solder dump is formed on this metal pattern.例文帳に追加

半導体基板上に半田バンプを有する半導体装置の製造方法において、半導体基板上の半田バンプを形成すべき領域に、バリアメタル材を主成分とするメタルパターンをスクリーン印刷法を用いて形成した後、このメタルパターン上に、半田バンプを形成する。 - 特許庁

A droplet injection device injects several drops of solution containing particulates by injection head 11 to form a pattern on a current supply area on a board 14 and volatile components of the applied liquid-drops are volatilized to form pattern wiring or a device.例文帳に追加

液滴噴射装置は、噴射ヘッド１１によって微粒子含有溶液の液滴を基板１４に複数滴噴射付与し、基板１４上の通電領域にパターンを形成し、付与後の液滴の揮発成分を揮発させることによってパターン配線あるいはデバイスを形成する。 - 特許庁

The etching method performed by forming a film 2 to be etched on a substrate 1, forming the resist on the film 2 to be etched, exposing and developing the resist to form a resist pattern 3, generating plasma with an etching gas containing halogen and using the resist pattern 3 as a mask to etch the film 2 to be etched is used.例文帳に追加

基板１上に被エッチング膜２を形成し、被エッチング膜２上にレジストを形成し、レジストに対し露光及び現像を行ってレジストパターン３を形成し、ハロゲンを含むエッチングガスによりプラズマを発生させてレジストパターン３をマスクとして被エッチング膜２をエッチングするエッチング方法を用いる。 - 特許庁

A resist pattern forming method is provided which is characterized in that a resist pattern 2 formed on a substrate 1 by developing a resist composition having photosensitivity to a predetermined light source by lithography is brought into contact with a supercritical processing liquid 5' comprising a supercritical fluid 3' containing a crosslinking agent 4.例文帳に追加

所定の光源に感光性を有するレジスト組成物をリソグラフィー技術により現像処理をして、基板１上に形成されたレジストパターン２を、架橋剤４を含む超臨界流体３’からなる超臨界処理液５’に接触させることを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The flexible wiring board for the tape carrier package includes an insulating film 1, a wiring pattern 3 formed on a surface of the insulating film, and an overcoat layer 9 containing a cured resin and porous fine particles, for protecting at least part of a wiring pattern.例文帳に追加

絶縁フィルム１、この絶縁フィルムの表面に形成された配線パターン３、および樹脂硬化物と多孔性微粒子を含み、前記配線パターンの少なくとも一部を保護するオーバーコート層９を備えることを特徴とするテープキャリアパッケージ用柔軟性配線板。 - 特許庁

A method for manufacturing circuit board includes: a substrate formation process S1 for burning green sheet to form a ceramic substrate; a catalyst patterning process S2 for drawing and forming a catalyst pattern from a liquid body containing plating catalyst; and a plating process S3 for plating the catalyst pattern.例文帳に追加

グリーンシートを焼成してセラミック基板を形成する基板形成工程Ｓ１と、めっき触媒を含有する液状体で触媒パターンを描画形成する触媒パターニング工程Ｓ２と、前記触媒パターンにめっきを施すめっき工程Ｓ３と、を有する回路基板の製造法。 - 特許庁

To provide a colorant-containing curable composition having high sensitivity, wide development latitude, in particular excellent lightfastness and heat resistance as well as superior pattern forming property (developability) and excellent solvent resistance without elution of dye after cured, and capable of forming a pattern image of high resolution.例文帳に追加

高感度かつ広い現像ラチチュードを有すると共に、特に耐光性および耐熱性並びにパターン形成性（現像性）に優れ、かつ硬化後の染料の溶出がなく、耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像を形成し得る着色剤含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

Left and right patterns variably displayed in capsules 51a to 51c are temporarily stopped and, when a ready-to-win display pattern occurs, a music is outputted correspondingly to a character pattern appearing later while a balloon 52a containing a character string of 'tooting ' and note images 52b are displayed (a) to (c).例文帳に追加

カプセル５１ａ〜５１ｃ内で変動表示された左図柄及び右図柄を仮停止させ、リーチ表示態様になると、後に登場するキャラクタ図柄に対応付けられた楽曲を出力させると共に、「チャララ〜♪」という文字列を含む吹き出し５２ａ、音符の画像５２ｂを表示させる（ａ）〜（ｃ）。 - 特許庁

In the coating method, a multi-color pattern coating, having a hue with the same degree as that of a dark color part and containing two or more coloring particles having different hues, is applied to a substrate having the dark color part and bright color part so that the coloring particles are coated in a spotted pattern.例文帳に追加

本発明の塗装方法は、暗色部と明色部を有する基材に対し、暗色部と同程度の色相を有し、かつ、異なる色相を有する２種以上の着色粒子を含む多彩模様塗料を、着色粒子が斑点状となるように塗付することを特徴とする。 - 特許庁

A light is irradiated on a substrate for pattern formation in which a photoreaction composition containing alkylsilane and/or fluoroalkylsilane is coated on the base material and the photoreaction composition-coated side is exposed and developed, and thereby, a pattern made of the coated part of the photoreaction composition and the exposure part of the substrate is formed.例文帳に追加

基材上にアルキルシラン及び／又はフルオロアルキルシランを含有する光反応性組成物が塗布されたパターン形成用基板に、光を照射して光反応性組成物塗布面を露光現像し、光反応性組成物の被覆部と基板露出部とからなるパターンを形成する。 - 特許庁

The first step enables a contact of a pattern (2) of the template (1) surface with a polymer material (3) containing one or more Cyclic Olefin Copolymers (COCs) to produce a flexible polymer replica having a structural surface with an inverse of the pattern (2) of the template (1) surface.例文帳に追加

第一工程では、テンプレート１表面のパターン２を、一種以上の環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）を含んでなる重合体材料３と接触させ、テンプレート１表面のパターン２と逆の構造化された表面を有する可撓性重合体レプリカを製造する。 - 特許庁

The tape carrier for semiconductor devices is provided with a conductor pattern layer 2 that is formed on the surface of a resin film, a nickel-iron alloy-plated layer 3 containing at least 5 wt.% iron formed on the conductor pattern layer, and a gold-plated layer 4 formed on the nickel-iron alloy-plated layer.例文帳に追加

樹脂フィルムの表面に形成された導体パターン層２と、前記導体パターン層上に形成された少なくとも５重量％以上の鉄を含むニッケル−鉄合金めっき層３と、前記ニッケル−鉄合金めっき層上に形成された金めっき層４とを有する構成とする。 - 特許庁

In the optical disk manufacturing apparatus provided with a stamper 2 for transferring information by a projecting and recessed pattern to the optical disk when the optical disk is manufactured, the stamper 2 is provided with the projecting and recessed pattern for producing optical disk quality control information QID containing apparatus information of the optical disk manufacturing apparatus to which the stamper is attached.例文帳に追加

光ディスク製造時に光ディスクに凹凸パターンによる情報を転写するスタンパ２を備えた光ディスク製造装置であって、スタンパ２は、装着される光ディスク製造装置の装置情報を含む光ディスク品質管理情報ＱＩＤを生成する凹凸パターンを備える。 - 特許庁

On a substrate to be machined, a thin film pattern is formed by using a resist originating from a material containing silicon being formed by patterning and the succeeding glassification treatment, and transferring the resist pattern to a thin film already formed on the substrate to be machined by a dry etching treatment.例文帳に追加

被加工基板上において、薄膜パターンを、パターニングとそれに続くガラス化処理によって形成されたシリコン含有材料由来のレジストパターンをマスクとし、そのレジストパターンを被加工基板上にすでに形成されている薄膜にドライエッチング処理で転写することによって形成する。 - 特許庁

The method is applied to various methods, for example, a substrate is coated with the composition, exposed to light to form a metal fine particle, which is developed to form a pattern containing the metal fine particle and an electroless plating pattern is formed by an electroless plating treatment.例文帳に追加

このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち現像して金属微粒子を含むパターンを形成し、無電解めっき処理することにより無電解めっきパターンを形成することもできる。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing (a) a resin having a specified repetition unit, (b) a compound generating an acid when irradiated with light, and (c) a crosslinking agent, and (d) a thermally acid generating agent, a pattern manufacturing method using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

（ａ）特定の繰り返し単位を含む樹脂、（ｂ）光照射により酸を発生する化合物、（ｃ）架橋剤、および（ｄ）熱酸発生剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁

By this method, the patterned composite resin molded object containing the substance having the refractive index different from that of the resin, different in the concentration and/or size of the substance in parts at every pattern and having the pattern in the direction right-angled to the extrusion direction so as to reach up to the depth direction is obtained.例文帳に追加

このような方法により、樹脂と屈折率の異なる物質を含み、模様毎の部分で該物質の濃度及び／又は大きさが異なると共に、押出方向に対して直角方向に模様があり、かつ該模様が深さ方向にまで及んでいる模様付複合樹脂成形体が得られる。 - 特許庁

The metal nanoparticle cluster ink containing colloid metal nanoparticles and a bifunctional compound, and a method of forming a conductive metal pattern through a heat treatment process after forming the metal nanoparticle pattern on a substrate using a die made of a PDMS polymer as a stamp are provided.例文帳に追加

コロイド金属ナノ粒子と二官能性化合物を含む金属ナノ粒子クラスターインクおよびＰＤＭＳ高分子で作製された型をスタンプとして使って金属ナノ粒子パターンを基板上に形成した後、熱処理過程を通じて伝導性金属パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

In the method for forming the fine pattern using a composition for a photoresist coating, by coating the already formed photoresist pattern with the composition for the photoresist coating containing a water soluble polymer and an aqueous solvent, sizes of a photoresist contact hole and a space are effectively reduced.例文帳に追加

フォトレジストコーティング用組成物を用いた微細パターン形成方法において、水溶性重合体と水性溶媒を含むフォトレジストコーティング用組成物を既に形成されたフォトレジストパターン上にコーティングさせることにより、フォトレジストコンタクトホールや余白の大きさを効果的に低減する。 - 特許庁

The chromium wiring is formed by carrying an object having the resist pattern on a chromium layer formed on a substrate in a chromium wet-etching section 23 and wet-etching the chromium layer with a mixed acid containing secondary ammonium cerium nitrate and perchloric acid by using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

基板上に成膜されたクロム層上にレジストパターンが形成された対象物をクロムウェットエッチング部２３内に搬入し、硝酸セリウム第２アンモンと過塩素酸を含有する混酸を用い、レジストパターンをマスクとしてクロム層をウェットエッチングすることにより、クロム配線を形成する。 - 特許庁

To provide a copolymer which is suppressed in pattern defects such as water mark and in abnormality of sensitivity or pattern shape due to elution of additives such as a radiation-sensitive acid generator and which gives surface characteristics preferable to immersion lithography, and a composition containing the copolymer.例文帳に追加

ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing the susceptor includes: forming a recessed pattern on a surface of a substrate to be processed; applying SiC paste containing SiC powder and a sintering agent to embed the recessed pattern; laminating a SiC substrate on the SiC paste; and firing the SiC paste to form a projecting part on the surface of the SiC substrate.例文帳に追加

本発明のサセプタの製造方法は、加工基板表面に凹パターンを形成し、凹パターンを埋め込むように、ＳｉＣ粉末と焼結助剤を含むＳｉＣペーストを塗布し、ＳｉＣペースト上にＳｉＣ基板を積層し、ＳｉＣペーストを焼成し、ＳｉＣ基板表面に凸部を形成する。 - 特許庁

To provide a photoluminescent pattern coating film forming method and a coated product having reproducibility as a pattern by positively giving mica ununiformity caused by the difference of hue and the difference of lightness by Hunter's color difference formula between a color base coating film and a mica pigment-containing photoluminescent clear coating film.例文帳に追加

カラーベース塗膜とマイカ顔料含有光輝性クリヤー塗膜との色相差、ハンターの色差式における明度指数差に起因するマイカムラを積極的に発現させ、模様として再現性のある光輝性模様塗膜形成方法および塗装物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of enhancing coating uniformity by reducing blots in coating; extremely improving a pattern shape by containing a cosolvent with a specific structure so that reverse taper in vacuum drying is prevented; and also preventing a problem of pattern width nonuniformity from being posed.例文帳に追加

塗布時の染みを減らし、塗布均一性を向上させ、真空乾燥時に逆テーパ状とならないように特定構造の共溶媒を含んで、パターン形状を著しく改善するだけでなく、パターン幅の不均一問題を発生しないフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method for forming a fine pattern for suppressing the film thickness of a crosslinked film and causing no development defect is carried out by using a fine pattern forming material which comprises a water-soluble resin, a water-soluble crosslinking agent and a solvent comprising water or a mixture solution of water and a water-soluble organic solvent, and using an amine compound-containing developing solution.例文帳に追加

水溶性樹脂、水溶性架橋剤、および、水または水と水溶性有機溶媒との混合液からなる溶媒を含有する微細パターン形成材料とアミン化合物含有現像液を用いて、架橋膜膜厚を抑えた、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing a phenolic resin, which can function as an alternative material for a polyimide resin and a polybenzoxazole resin, and to provide a method for producing a cured relief pattern using the photosensitive resin composition, a semiconductor device comprising the cured relief pattern, and a novel phenolic resin.例文帳に追加

ポリイミド樹脂及びポリベンゾオキサゾール樹脂の代替材料となり得るフェノール樹脂を含有する感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置、及び新規のフェノール樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern for adjusting a recording position by which deviation of the recording position can be accurately corrected even under a condition containing inclination of a recording head, a method for adjusting an image recording position, an apparatus for forming the pattern for adjusting the recording position and an image recording apparatus.例文帳に追加

記録ヘッドの傾きを含んだ状態でも記録位置ずれを正確に補正することが可能な記録位置調整用パターンの形成方法、画像記録位置調整方法、記録位置調整用パターン形成装置及び画像記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To efficiently and inexpensively form a good conductive pattern having excellent adhesiveness to a transparent substrate by using ultraviolet curing resin paste at the time of manufacturing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, by forming the conductive pattern by forming a plated layer formed by electroless plating on a resin pattern formed by printing resin paste containing an electroless plating catalyst on the transparent substrate in a pattern and curing the paste.例文帳に追加

透明基板上に無電解めっき触媒を含む樹脂ペーストをパターン印刷し、これを硬化させて形成された樹脂パターン上に、無電解めっきによりめっき層を形成して導電性パターンを形成することにより電磁波シールド性光透過窓材を製造するに当たり、紫外線硬化型樹脂ペーストを用いて、透明基材への密着性に優れた良好な導電性パターンを精度良く、効率的かつ低コストに形成する。 - 特許庁

To suppress occurrence of side etching of a film containing silicon when a recess is formed in a silicon layer by performing plasma etching of a substrate, on which a resist mask, a film containing silicon and a silicon layer are laminated in this order from the upper side, through a pattern of the resist mask.例文帳に追加

レジストマスク、シリコンを含む膜及びシリコン層が上方側からこの順番で積層された基板に対して、レジストマスクのパターンを介してプラズマエッチング処理を行ってシリコン層に凹部を形成するにあたり、前記シリコンを含む膜のサイドエッチングの発生を抑えること。 - 特許庁

A decorative sheet or decorative material has a printed pattern layer using a printing ink composition, a primer layer containing a resin having a double bond and containing a resin having an elongation of dried film after curing by UV ray of 50% or more and an energy beam curing type topcoat formed on a substrate in this order.例文帳に追加

基材上に、インキ組成物による印刷模様層、その上面に２重結合を有し且つＵＶ硬化後の乾燥皮膜の伸び率が５０％以上の樹脂を含有するプライマー層、その上面にエネルギー硬化型トップコート層が形成されている化粧紙。 - 特許庁

A semiconductor device 1 comprises: a heat dissipating member 10; a wiring layer 20, formed on the heat dissipating member 10, including a circuit pattern 21 and an insulating layer 22 containing resin; and semiconductor elements 30 and 40, mounted on the wiring layer 20, containing electronic elements and sealing resin for sealing the electronic elements.例文帳に追加

半導体装置１は、放熱部材１０と、放熱部材１０上に形成され、回路パターン２１と、樹脂を含む絶縁層２２とを含む配線層２０と、配線層２０上に実装され、電子素子とそれを封止する封止樹脂とを含む半導体素子３０，４０とを有している。 - 特許庁

The wet etching system includes: an exposure means for exposing a copper-containing material having a surface on which a pattern of a positive type photosensitive resist has been formed, to light; and a wet etching means for wet-etching the copper-containing material exposed to light by the exposure means.例文帳に追加

本発明は、ポジ型感光性レジストのパターンが表面に形成された銅含有材料を露光する露光手段と、前記露光手段により露光された銅含有材料をウエットエッチングするウエットエッチング手段とを有することを特徴とするウエットエッチングシステムである。 - 特許庁

The manufacturing method of the plasma display panel is provided, where the calcining treatment is carried out after a laminated layer of a non-photosensitive inorganic powder containing resin layer and of a photosensitive inorganic powder containing resin layer is formed on a substrate, and exposure/development processing of the photosensitive inorganic powder resin layer is carried out to form a pattern.例文帳に追加

基板上に非感光性の無機粉体含有樹脂層と感光性の無機粉体含有樹脂層との積層を形成し、感光性の無機粉体樹脂層を露光・現像処理して、パターンを形成したのち、焼成処理を行うプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for producing a conductive wiring pattern comprises the steps of: applying a photosensitive conductive paste composed of both an inorganic powder containing a conductive filler and an organic component containing a photosensitive conductive component onto a substrate; exposing the applied photosensitive conductive paste via a photomask; and thereafter performing press processing and development in this order.例文帳に追加

基板上に、導電性フィラーを含む無機粉末および感光性有機成分を含む有機成分からなる感光性導電ペーストを塗布し、フォトマスクを介して露光した後に、プレス加工を施し、その後現像することを特徴とする導電配線パターンの製造方法。 - 特許庁

The chemically embossed foamed decorative material is obtained by at least applying a pattern to the surface of a molded article, which comprises a foamable resin composition containing a halogen-free resin, a foaming agent and a metal compound foaming accelerator but not a liquid component, by ink containing a foaming inhibitor.例文帳に追加

非ハロゲン樹脂、発泡剤および金属化合物発泡促進剤を含有し、かつ液状成分は含有しない発泡性樹脂組成物からなる成形品の表面に、発泡抑制剤含有インキで少なくとも部分的に模様を付与し、加熱発泡したケミカルエンボス発泡装飾材。 - 特許庁

The multilayer wiring board is constructed by stacking a board provided with wiring layers on an insulating base material containing a polybutadiene or a polyisoprene and a conductive layer provided with a circuit pattern through an insulating resin layer, formed by impregnating a thermosetting resin containing an epoxy resin, into a sheet-like base material.例文帳に追加

ポリブタジエンまたはポリイソプレンを含む絶縁基材の両面に配線層を備えた基板と、回路パターンの設けられた導電層とを、シート状基材にエポキシ樹脂を含有する熱硬化性樹脂を含浸させた絶縁樹脂層を介して積層した構成の多層配線板とする。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device, having a structure for connecting a plug or a line onto a metal pattern embedded in an insulation film containing fluorine, in which good connection is kept between a metal film filling the trench in the insulation film containing fluorine and other metal films which are connected therewith.例文帳に追加

フッ素含有絶縁膜に埋め込まれた金属パターンの上にプラグ又は配線を接続する構造を有する半導体装置に関し、フッ素含有絶縁膜の溝に埋め込まれた金属膜とこれに接続される別の金属膜との接続を良好に保つこと。 - 特許庁

To reduce differences in dimension due to difference in pattern density on the surface by using a mixed gas, in which reducing gas is added to reactive etching gas consisting of oxygen containing gas and halogen containing gas in dry etching process of a metal thin film.例文帳に追加

微細なパターンを形成する手段としてのドライエッチングにおいて、面内のパターンの疎密の違いに起因する寸法差を小さくするドライエッチング方法、この方法を利用して得たフォトマスクおよびその作製方法、ならびにこのフォトマスクを用いて得た半導体回路およびその製作方法の開発。 - 特許庁

The pattern formed body includes a photocatalyst containing layer on a substrate, a patterned metal layer which can have a metal oxide coating, above the photocatalyst containing layer, and a water-repellent thin film layer formed above the metal layer.例文帳に追加

本発明は、基材上に、光触媒含有層と、前記光触媒含有層の上層においてパターン化された、金属酸化物被膜を有していてもよい金属層と、前記金属層の上層に形成された撥水性薄膜層と、を有するパターン形成体を提供する。 - 特許庁

A mold release layer 3 containing a matting agent is formed all over a base sheet 2, a mask layer 4 containing an active energy beam curable resin is formed partially and cured by the active energy beam and an exfoliation layer 5 and a pattern layer 6 are formed as transfer layers 8.例文帳に追加

基体シート２上にマット剤を含有する離型層３を全面的に形成し、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有するマスク層４を部分的に形成した後に活性エネルギー線で硬化させ、次いで転写層８として剥離層５と図柄層６とを形成する。 - 特許庁

A conductor pattern forming ink, containing metal particles and dispersion medium wherein the metal particles are dispersed, is discharged by the droplet discharge method to form the conductor pattern precursor, which has a pad film acting as a pad after the precursor becomes the conductor pattern, and in the pad film, the thickness of the center is thicker than that of the periphery.例文帳に追加

本発明の導体パターン形成用インクは、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して形成される導体パターン前駆体であって、導体パターンとしたときにパッドとなるパッド膜を有し、パッド膜は、その中央部の厚さがその周縁部の厚さより大きいものであることを特徴とする。 - 特許庁

The coating forming agent used to form a fine pattern by coating the top of a substrate having a photoresist pattern and narrowing the spacing of the photoresist pattern by its heat-shrinking action comprises a water-soluble polymer containing at least (meth)acrylamide as a constituent monomer.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間隔を狭小せしめて微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、少なくとも（メタ）アクリルアミドを構成モノマーとして含む水溶性ポリマーを含有することを特徴とするパターン微細化用被覆形成剤、および該被覆形成剤を用いた微細パターンの形成方法。 - 特許庁

The magnetic recording medium includes a substrate, an intermediate layer adjacent to the substrate, and a pattern formation layer adjacent to the intermediate layer and having a fine protruding and recessing pattern on its surface, wherein the intermediate layer is composed of an adhesive containing an ultraviolet ray transmitting silicone resin, and its elastic coefficient is smaller than that of the substrate and is smaller than that of the pattern formation layer.例文帳に追加

基材と、上記基材に隣接する中間層と、上記中間層に隣接し、表面に微細な凹凸パターンを有するパターン形成層とを備え、上記中間層が紫外線透過性のシリコーン樹脂を含有する接着剤からなり、その弾性率が、上記基材の弾性率よりも小さく、かつ、上記パターン形成層の弾性率よりも小さい。 - 特許庁

A base pattern is formed by using a base pattern forming material for absorbing an electrode/wiring material which is a aqueous solution containing a water-soluble metal compound comprising a water-soluble photosensitive resin component, rhodium, bismuth, ruthenium, vanadium, chromium, tin, copper or silicon, and an electrode and wiring are formed by absorbing an organic metal compound into the base pattern and by sintering the same.例文帳に追加

水溶性の感光性樹脂成分と、ロジウム、ビスマス、ルテニウム、バナジウム、クロム、錫、鉛またはケイ素を含む水溶性の金属化合物とを含有する水系溶液である電極・配線材料吸収用下地パターン形成材料を用いて下地パターンを形成し、該下地パターンに有機金属化合物を吸収させてから焼成することで電極・配線を形成する。 - 特許庁

A matching unit 70 includes: a matching part 76 which selects a pattern corresponding to data to be compared, based on rules defining a correspondence among patterns of data described in markup language; and a variable managing part 74 which assigns data to be compared located at a position corresponding to the location of a variable in a selected pattern to the variable when a pattern containing the variable is selected.例文帳に追加

マッチングユニット７０は、マークアップ言語により記述されたデータのパターン間の対応関係を定義した規則に基づいて、比較元のデータに合致するパターンを選択するマッチング部７６と、変数を含むパターンが選択されたとき、選択されたパターンにおける変数の位置と対応する位置にある比較元のデータを変数に代入する変数管理部７４を含む。 - 特許庁