「pattern electrode」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

After a side wall 8 is subsequently formed on the side surface of the memory gate electrode MG, a photoresist pattern PR2 is formed on the principal surface of the semiconductor substrate 1Sub.例文帳に追加

続いて、そのメモリゲート電極ＭＧの側面にサイドウォール８を形成した後、半導体基板１Ｓｕｂの主面上にフォトレジストパターンＰＲ２を形成する。 - 特許庁

To improve the flexibility of pattern design by using resistors with the same resistance value between any electrodes, in a multi-electrode type resistor for surface mounting.例文帳に追加

表面実装用多電極型抵抗器において、何れの電極間でも同一抵抗値の抵抗として使用できるようにし、パターン設計の自由度を拡大する。 - 特許庁

The electrode pattern is configured for transmitting power and signals utilized to drive the plurality of electrodes from at least one of the plurality of circuit board assemblies.例文帳に追加

電極パターンは、複数の回路ボードアセンブリのうち少なくとも一つから複数の電極を駆動することに用いられる電源と信号を伝達するように構成される。 - 特許庁

The ion guide is formed by forming electrode parts 11, 12 after a pattern on a flexible substrate 30, and fixing this substrate in a roll form by a cylindrical holding member 10.例文帳に追加

フレキシブル基板３０上に電極部１１、１２をパターン形成し、これを丸めて円筒形状の保持部材１０により固定することによりイオンガイドを形成する。 - 特許庁

The polysilicon film 12 is dry-etched using the resist pattern 14 and the patterned anti-reflection film 13A for the mask to form a gate electrode 12A composed of the polysilicon film 12.例文帳に追加

ポリシリコン膜１２に対して、レジストパターン１４及びパターン化された反射防止膜１３Ａをマスクにドライエッチングして、ポリシリコン膜１２からなるゲート電極１２Ａを形成する。 - 特許庁

Further, even when strain occurs in some degree in cylindricity or roundness of a gravure roll 1, variation of the surface roughness of the pattern of the internal electrode layer can be suppressed.例文帳に追加

また、グラビアロール１に円筒度や真円度による歪みなどが多少生じていたとしても、内部電極層のパターンの表面粗さのばらつきを抑制できる。 - 特許庁

The terminal electrode pattern and one or more layers of the floating electrodes are arranged on both ends of the laminated chip and their exposed parts constitute the external electrodes 30.例文帳に追加

積層体チップの両端部に端子電極パターンと１層以上の浮き電極パターンとを配列され、それらの露出部が外部電極３０となっている。 - 特許庁

The electrodes are formed by printing carbon ink on the surface of an urethane rubber or by coating peripheral part except an electrode pattern E in a carbon-coated conductive sheet 2 with an electrical insulating coat 3.例文帳に追加

ウレタンゴムの表面にカーボンインクを印刷したり、カーボンをコーティングした導電シート２の電極パターンＥ以外の周縁部を電気絶縁性被膜３で被覆する。 - 特許庁

When the glass supporting member 2 is peeled from the plastic film 4, the plastic film 4 shrinks but the dimension of the electrode pattern after the film shrank coincides with the normal dimension.例文帳に追加

プラスチックフィルム４からガラス支持部材２を剥離するとプラスチックフィルム４は収縮するが、その収縮後の電極パターンの寸法が正規寸法に一致する。 - 特許庁

The focusing device forms a voltage distribution 92 of the same voltage in the pattern electrode group so that the liquid crystal lens is put in the state without a lens effect.例文帳に追加

本発明の合焦点装置は、液晶レンズがレンズ効果を持たない状態とするために、パターン電極群に同一の電圧からなる電圧分布９２を形成する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the piezoelectric vibration chip, a plurality of piezoelectric substrates 12 are formed by etching a piezoelectric wafer 10, then an electrode pattern 24 is formed onto the piezoelectric substrates 12.例文帳に追加

圧電振動片の製造方法は、圧電ウエハ１０をエッチングして複数の圧電基板１２を形成し、これらの圧電基板１２に電極パターン２４を形成するものである。 - 特許庁

The nonvolatile memory comprises a tunnel insulation film pattern 116, a charge storage film, an upper insulation film and a control gate electrode 175 formed sequentially on a semiconductor substrate 100.例文帳に追加

この装置は、半導体基板１００の上部に順次に積層されたトンネル絶縁膜パターン１１６、電荷貯蔵膜、上部絶縁膜及び制御ゲート電極１７５を含む。 - 特許庁

Thereafter, the Schottky electrode 111 is formed on the Ga oxide film 109 and the resist pattern 106 and a metal layer 110 are removed and a protection film 113 is then formed.例文帳に追加

その後、Ｇａ酸化膜１０９上にショットキー電極１１１を形成し、レジストパターン１０６や金属層１１０を取り除いた後、保護膜１１３を形成する。 - 特許庁

To provide a transparent electrode of a carbon nanotube (CNT) pattern containing a net-like thin film of the CNT and showing excellent optical transmittance and electric conductivity, and its manufacturing method.例文帳に追加

ＣＮＴの網目状薄膜を含み、優れた光透過性及び電気伝導性を示すカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）パターンの透明電極、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, an electrostatic force is generated between the left right driving electret pattern 5a and the left right drive electrode 12a to shift the sheet member 1 for carrying out camera-shake correction.例文帳に追加

これにより、左右駆動用エレクトレットパターン５ａと左右駆動電極１２ａとの間に静電気力を発生させてシート状部材１を移動させ、ブレ補正を行う。 - 特許庁

In the semiconductor light emitting module 1, a semiconductor light emitting element 2 is loaded on a wiring board 22 so that a 1st electrode 2c is brought into contact with a wiring pattern 22a.例文帳に追加

半導体発光モジュール１では、配線パターン２２ａに第１の電極２ｃが接するように配線基板２２上に半導体発光素子２が搭載されている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a heterojunction bipolar transistor in which an emitter electrode pattern of submicron size with a high aspect ratio can be formed with good line width controllability.例文帳に追加

アスペクト比の高いサブミクロンサイズのエミッタ電極パタンを線幅制御性良く形成することを可能とするヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin electronic component mounting structure and a mounting method, wherein bonding between the terminal of an electronic component and the terminal electrode of a conductor pattern is improved in strength.例文帳に追加

電子部品の端子と導体パターンの端子電極部との接着強度を補強した薄型の電子部品の実装構造及び実装方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method in which an electrode broken part can be corrected by using a thin wire of about 10 μm and contamination of a periphery of a defect part is small.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺の汚染が小さなパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chip-type electronic component which can be fixed onto a pattern electrode formed on a wiring board, without using adhesives, and to provide a mounting structure of the chip-type electronic component which allows the manufacturing process to be simplified and exhibits high productivity.例文帳に追加

接着剤を用いることなく配線基板に形成されたパターン電極上に固定することができるチップ型電子部品を提供する。 - 特許庁

When the pattern of a thick resin film where a reflection type pixel electrode 62 is mounted is formed, photosensitive setting resin is applied for coating and then exposure operation is performed by using a mask pattern 8 which has punch parts 82 and translucent parts 81 at specific parts.例文帳に追加

反射型画素電極６２を載置する厚型樹脂膜５のパターンを形成するにあたり、感光性硬化樹脂をコーティングした後、抜き部８２と、半透過部８１とを所定個所に備えるマスクパターン８を用いて露光操作を行う。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a vertical transistor in a semiconductor device to prevent a cylindrical silicon pattern from collapsing due to a neck portion located at a bottom of the silicon pattern and to prevent a gate electrode from being etched due to misalignment in fabrication of the vertical transistor included in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置に含まれた垂直型トランジスタの製造時に円筒状シリコンパターンの下部の括れた部位により崩壊する現象、及び整列誤差によるゲート電極の食刻を防止することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

A semiconductor element 11 on a substrate 10 is covered with a first insulating resin 14, and the conductive pattern 15 of a package is connected to a second conductive pattern 21B through a buried electrode 25 provided in the contact hole 24 of the first insulating resin 14.例文帳に追加

基板１０の半導体素子１１は、第１の絶縁樹脂１４で覆われ、パッケージの導電パターン１５は、第１の絶縁樹脂１４のコンタクト孔２４に設けられた埋め込み電極２５を介して第２の導電パターン２１Ｂと接続される。 - 特許庁

Aperture parts (aperture patterns), having array pitches and sizes which are different from each other, are formed respectively in a first metal film pattern 14a, a first semiconductor film 17, a second metal film pattern 24a, a third insulating film 27 and the like positioned under a reflection electrode 33.例文帳に追加

反射電極３３の下方の第１の金属膜パターン１４ａ、第１の半導体膜１７、第２の金属膜パターン２４ａ及び第３の絶縁膜２７等に、それぞれ異なる配列ピッチ及び大きさで開口部（開口パターン）を形成する。 - 特許庁

As shown in the figure, the semiconductor device 50 related to one of the embodiments is equipped with a relay board 30 containing a first wiring pattern, and the first semiconductor element 10 containing an electrode 12 electrically connected to the first wiring pattern.例文帳に追加

図１に示すように、本実施の一の実施の形態に係る半導体装置５０は、第１の配線パターンを含む中継基板３０と、第１の配線パターンに電気的に接続する電極１２を含む第１の半導体素子１０と、を備える。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive paste which achieves high-definition pattern resolution by a photolithographic method, enables to form an electrode pattern having low resistance, and can suppress thickening of the paste due to a reaction of glass frit with an organic component.例文帳に追加

フォトリソグラフィ法により高精細のパターン解像度が得られ、かつ、低抵抗を有する電極パターンが形成でき、さらに、ガラスフリットと有機成分との反応によるペーストの増粘を抑制出来るような感光性導電ペーストが求められている。 - 特許庁

DRIE (Deep Reactive Ion Etching) is executed from the surface 153b side, the silicon substrate 153 is selectively removed by using the rough comb mask pattern 155 as a mask, and the silicon substrate 151 is selectively removed by using the comb electrode mask pattern 152a as a mask.例文帳に追加

面１５３ｂの側からＤＲＩＥをおこなって、粗櫛歯マスクパターン１５５をマスクにしてシリコン基板１５３を選択的に除去し、さらに櫛歯電極用マスクパターン１５２ａをマスクにしてシリコン基板１５１を選択的に除去する。 - 特許庁

Since the masking film layer 4 is fixed on the transparent substrate 1 with a binder layer 44, the deposited films of the organic EL film 22 and the back electrode 23 are not formed on the positions other than the pattern portion so as to afford a correct pattern.例文帳に追加

また、マスキングフィルム層４は粘着剤層４４によって透明基板１上に固定されているため、パターン以外の部位に有機ＥＬ膜２２及び背面電極２３の蒸着膜が形成されることがなく、正確なパターンとすることができる。 - 特許庁

Photogravur rolls 3a and 3b are installed above a path line of a carrier film 1, and platens 4a and 4b are installed below, thus forming a pattern of an internal electrode and a pattern of a step cancellation dielectric on the upper side of the carrier film 1.例文帳に追加

グラビア印刷ロール３ａ、３ｂを、キャリアフィルム１のパスラインよりも上側に設置し、圧胴４ａ，４ｂを下側に設置することにより、キャリアフィルム１の上側に内部電極用パターンおよび段差解消誘電体用パターンを形成する。 - 特許庁

A conductive paste is applied by screen-printing to a releasing surface 1a of a transfer film 1 where a mold releasing treatment is applied to its surface to provide a peeling strength of 250-1000 mN/25 mm, to form a land pattern (electrode pattern) 2 for mounting a chip component.例文帳に追加

離型処理を表面に施して剥離強度が２５０〜１０００ｍＮ／２５ｍｍである転写フィルム１の離型面１ａに、導電性ペーストをスクリーン印刷してチップ部品搭載用ランドパターン（電極パターン）２を形成する。 - 特許庁

Since a first insulating layer 50 is intervened between the lowermost first conductor pattern 58 and an electrode body 60 forming an external substrate connection pad 60P, it is hard to generate short-circuit between the first conductor pattern 58 and the pad 60P.例文帳に追加

最下層の第１導体パターン５８と外部基板接続用のパッド６０Ｐを形成する電極体６０との間に、第１絶縁層５０が介在しているので、第１導体パターン５８とパッド６０Ｐとの間で短絡が発生し難い。 - 特許庁

The eaves portion is formed as follows: a stacked-layer structure in which a conductive layer, an insulating layer and a semiconductor layer are stacked in this order is etched collectively to determine a pattern of a gate electrode; and a pattern of the semiconductor layer is formed while side-etching is performed.例文帳に追加

庇部は、導電層、絶縁層、半導体層が順次積層された積層構造を一括でエッチングしてゲート電極のパターンを確定した後、半導体層のパターンを形成するとともにサイドエッチングを行うことによって形成する。 - 特許庁

To easily remove the limit on the shifter width, prevent the narrowing of a gate wiring pattern, wire breaking and retraction, and distortion of a gate electrode pattern, and facilitate the shrinking processing of the device area, and improve the uniformity of the size of an extremely fine gate.例文帳に追加

シフタ幅の制限解消が容易になると共に、ゲート配線パターンの細り、断線及び後退の発生や、ゲート電極パターンの歪みを防止し、デバイス面積のシュリンク処理も容易となり、極微細ゲートの寸法均一性を向上させる。 - 特許庁

A driving pattern applying different voltages to pixel electrode rows adjacent across a source line of a TFT array is used, and a short circuit defect between adjacent pixel electrodes is detected by potential distribution of the pixel electrodes obtained by the driving pattern.例文帳に追加

ＴＦＴアレイのソースラインを挟んで隣接する画素電極列に異なる電圧を印加する駆動パターンを用い、この駆動パターンによって得られる画素電極の電位分布によって、隣接する画素電極間の短絡欠陥を検出する。 - 特許庁

A choke coil 40 is formed by alternately bending the lead frame 28 like zigzag, a capacitor 41 is formed of an electrode having a partially extended circuit pattern and a dielectric film 46, and a radiator plate 48 is formed by partially extending, bending, and raising the circuit pattern.例文帳に追加

チョークコイル４０をリードフレーム２８をジグザグ状に交互に曲げることにより、コンデンサ４１は回路パターンの一部を広くした電極と誘電体フィルム４６により、放熱板４８は回路パターンの一部を広げ、曲げ起こしてそれぞれつくる。 - 特許庁

In a display side casing 10 with waterproof specifications, a lower electrode film 120 having a matrixed electrode pattern is formed on the display surface of a display device 12, and an upper electrode film 130 grounded through a ground connection part 14 with an internal case 11 is formed on a face opposite to the display surface of the protection panel 13.例文帳に追加

防水仕様の表示側筐体１０内で、表示装置１２の表示面上に、マトリクス状の電極パターンを有する下側電極膜１２０を形成し、保護パネル１３の表示面と対向する面に、グランド接続部１４を介して内部ケース１１とグランドされた上側電極膜１３０を形成する。 - 特許庁

This electro-chemical machining electrode tool is constructed by an insulating thin film formed of deposition polymer resin or deposition resin uniformly provided on the surface of the electrode base material and a conductive pattern formed by removing a part of the insulating thin film to expose the surface of the electrode base material.例文帳に追加

電極基材の表面に均一に設けられた蒸着重合樹脂若しくは蒸着樹脂による絶縁薄膜と、当該絶縁薄膜の一部を除去して電極基材の表面を露出させることによって形成される導電パターンとから成ることを特徴とする電解加工用電極工具。 - 特許庁

An electrode layer 5 is formed by screen printing a thick-film electrode pattern of conductive paste, composed of glass powder containing no lead components, copper or silver-based metal powder, binder resin and organic solvent onto an insulating ceramic substrate 1, and then the electrode layer 5 is subjected to metal plating 6.例文帳に追加

鉛成分を含有しないガラス粉末、銅系または銀系の金属粉末、バインダー樹脂及び有機溶剤よりなる導体ペーストを絶縁性セラミック基板１に電極パターン厚膜スクリーン印刷して電極層５を形成し、該電極層５に金属メッキ６を施した電極基板の製造方法。 - 特許庁

To provide photosensitive conductive paste for simultaneous calcination without causing the ruggednesses of the surface of a dielectric layer or the twisting of an electrode, effective for simultaneously baking an electrode layer and a dielectric layer in the manufacturing of a rear-face plate of a PDP, and a manufacturing method of an electrode pattern using the same.例文帳に追加

本発明の目的は、ＰＤＰの背面板製造において、誘電体層表面の凹凸や、電極のよれの問題がなく、電極層と誘電体層とを同時に焼成し得るのに有効な同時焼成用感光性導電ペースト、およびそれを用いた電極パターンの製造方法を提供することである。 - 特許庁

The salient electrode 22 of a circuit board 20 having a semiconductor element 21, the salient electrode 32 of a circuit board 30 having a semiconductor element 31, and the salient electrode 42 of a circuit board 40 having a semiconductor 34, are electrically connected to a wiring pattern, which is not shown in figure, of a base board 10.例文帳に追加

ベース基板１０の図示しない配線パターンに、半導体素子２１を有する回路基板２０の突起電極２２と、半導体素子３１を有する回路基板３０の突起電極３２と、半導体素子３４を有する回路基板４０の突起電極４２とを電気的に接続するようにする。 - 特許庁

Further, the upper electrode sheet 11 and the lower electrode sheet 5 are adhered and integrated by a dot-pattern adhesion printed layer 15 made of a large number of small dots and capable of ventilating at a portion other than the embossing portion 9 so that the embossing portion 9 may be located at the outside direction of the lower contact electrode 3.例文帳に追加

また、前記エンボス部９が前記下部接点電極３の外方に位置するように、前記上部電極シート１１と前記下部電極シート５が、前記エンボス部９以外の部分で無数の小ドットからなる通気可能なドット模様粘着印刷層１５で粘着されて一体化されていることを特徴とする。 - 特許庁

A main electrode 30 of the laser oscillator 10 is formed in a rod pattern so as to extend in a longitudinal direction of a discharge tube 122 with a lamination structure obtained by laminating an electrode layer 310 composed of a conductive material (nickel, molybdenum, tungsten or the like) on a substrate 300 composed of a metal material (stainless steel or a brass) different from an electrode material.例文帳に追加

レーザ発振器１０の主電極３０は、放電管１２２の長手方向に延在するように棒状に形成されており、電極材と異なる金属材料（ステンレスまたは黄銅）よりなる基材３００に導電材（ニッケル、モリブデン、タングステンなど）よりなる電極層３１０を積層した積層構造になっている。 - 特許庁

A solid state image sensor comprises a dummy electrode and dummy bumps 8 disposed together with original electrode pads and bumps 116 on a semiconductor substrate 104 for constituting a solid state image sensing element 4 in such a manner that the dummy electrode pads are connected to a corresponding dummy wiring pattern 10 on the substrate 104 via the bumps 8.例文帳に追加

固体撮像素子４を構成する半導体基板１０４には、本来の電極パッドおよびバンプ１１６とともにダミー電極パッドおよびダミーバンプ８が配置され、ダミー電極パッドはダミーバンプ８を介して半導体基板１０４上の対応するダミー配線パターン１０に接続されている。 - 特許庁

An interdigital electrode 30 and a terminal electrode 31 are formed on one side of a piezoelectric substrate 29 and after the terminal electrode 31 of the piezoelectric substrate 29 and a conductor pattern of a base substrate 33 are connected via a bump 32, the piezoelectric substrate 29 is sealed to the base substrate 33 via a polyamide hot melt resin 35.例文帳に追加

圧電性基板２９の一方の面に櫛歯状電極３０及び端子電極３１を形成し、圧電性基板２９の端子電極３１とベース基板３３の導電パターンとをバンプ３２を介して接続した後、ポリアミド系のホットメルト樹脂３５を介して圧電性基板２９をベース基板３３に封止している。 - 特許庁

For example, when a TAB of a liquid crystal display device is connected to a terminal of each ITO electrode 2, only the terminal to be connected of the ITO electrode 2 formed on a glass substrate 1 of a liquid crystal panel is coated with the composition, and drying, exposure and development are then carried out to form the anisotropic electroconductive pattern 3 only on the electrode 2.例文帳に追加

例えば、液晶表示装置のＴＡＢとＩＴＯ端子の接続を行う場合、液晶パネルのガラス基板上１に形成された各ＩＴＯ電極２の接続される端部のみに上記組成物を塗布し、乾燥、露光、現像を行って異方性導電パターン３を電極上のみに形成する。 - 特許庁