「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(112ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID, METHOD FOR FORMING COATED FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

塗布液の塗布方法、塗膜の形成方法、ならびにそれを利用したパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

The device for providing a pattern for calibration includes: a hologram 1 on which the pattern for calibration composed of a plurality of feature points arranged with a depth is recorded as a three-dimensional image and which is installed so that the recorded pattern for calibration is imaged by the imaging apparatus 3; and an illumination 2 irradiating the hologram 1 with predetermined illumination light, so that the pattern for calibration is reproduced.例文帳に追加

奥行きをもって配置された複数の特徴点からなる校正用パターンが三次元像として記録され、記録された校正用パターンを撮像装置３により撮像可能に設置されるホログラム１と、ホログラム１に対して、校正用パターンを再生可能に所定の照明光を照射する照明２とを備えた。 - 特許庁

It also includes a step for etching the work with the resist pattern as a mask, a step for radiating the light of photosensitizing wavelength band for the photosensitizer to the resist pattern through the photomask, a step for etching the work with the resist pattern as the mask, and a step for removing the resist pattern on the work.例文帳に追加

また、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパターンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

In a game machine such as a Pachinko machine or an arrange ball machine, the pattern fluctuation to perform fluctuation by using a plurality of patterns for lottery display can be displayed on a display part, and an alarm part is provided for alarming about the continuation of pattern fluctuation when a state of not recognizing switching from a certain pattern for lottery display to the next pattern for lottery display occurs during the pattern fluctuation.例文帳に追加

パチンコ機やアレンジボール機等の遊技機に関し、複数個の抽選表示用図柄を用いて変動を行う図柄変動を表示部で表示可能に構成するとともに、ある抽選表示用図柄から次の抽選表示用図柄に切り替わることを認識できない状態が図柄変動中に発生すると図柄変動の継続中を報知する報知部を備える。 - 特許庁

To provide a processing liquid for forming a pattern due to a chemically amplified resist composition superior in in-plane uniformity (CDU) and defect performance of a resist pattern and in addition, for forming the resist pattern reducing an amount of use of the processing liquid in order to stably form a highly precise fine pattern for manufacturing highly integrated and highly precise electronic device, and to provide a method for forming the pattern using it.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、レジストパターンの面内均一性（ＣＤＵ）及び欠陥性能に優れ、また処理液の使用量を低減できるレジストパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The TMR element manufacturing method is provided with: a resist pattern formation process for forming a resist pattern on a generated TMR film; a first ion milling process for performing the ion milling using the resist pattern as a mask; a slimming process for slimming the resist pattern; and a second ion milling process for performing the ion milling of the TMR film again using the slimmed resist pattern as the mask.例文帳に追加

本発明のＴＭＲ素子製造方法は、生成したＴＭＲ膜上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、レジストパターンをマスクとしてＴＭＲ膜をイオンミリングする第１イオンミリング工程と、レジストパターンのスリミングを行うスリミング工程と、スリミングされたレジストパターンをマスクとしてＴＭＲ膜を再びイオンミリングする第２イオンミリング工程と、を備えるよう構成する。 - 特許庁

This medical treatment equipment connected with a respiration mask worn by the patient has a respiration pattern detection means for detecting a respiration pattern for informing different from usual respiration pattern and a communication means for informing a remote medical treatment management server through a communication network when the respiration pattern detection means detects the respiration pattern for informing.例文帳に追加

本発明は，患者が装着する呼吸マスクが接続された医療機器において，通常の呼吸パターンと異なる通報用呼吸パターンを検出する呼吸パターン検出手段と，呼吸パターン検出手段が通報用呼吸パターンを検出した時に，遠隔の医療管理サーバに通信回線を介して通報する通信手段とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The system for supporting design of a business process comprises a business process storage means for storing business process data; a task complementary pattern storage means for storing task complementary pattern data; and a task complementation means for updating the business process data using the task complementary pattern data.例文帳に追加

業務プロセスの設計を支援するシステムであって、業務プロセスデータを記憶する業務プロセス記憶手段と、タスク補完パターンデータを記憶するタスク補完パターン記憶手段と、タスク補完パターンデータを用いて業務プロセスデータを更新するタスク補完手段を備える。 - 特許庁

To provide a method for generating an optimum arrangement pattern of a flow passage to be formed on a micro reactor chip, an apparatus for generating a flow pattern, a computer program for realizing a computer as the apparatus for generating the flow passage pattern, and a recording medium with the computer program recorded thereon.例文帳に追加

マイクロリアクターチップ上に形成される流路の最適な配置パターンを生成する方法、流路パターン生成装置、コンピュータを該流路パターン生成装置として実現するためのコンピュータプログラム及び該コンピュータプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

DEVICE FOR EVALUATION OF MASK PATTERN SHAPE, METHOD FOR EVALUATION OF SHAPE AND RECORDING MEDIUM IN WHICH PROGRAM FOR EVALUATION OF SHAPE IS RECORDED例文帳に追加

マスクパターン形状評価装置および形状評価方法並びに形状評価プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

METHOD OF FORMING MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE AND PROGRAM FOR PROCESSING PATTERN DATA FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

荷電粒子線露光用マスクの形成方法および荷電粒子線用マスクを形成するためのパターンデータの処理プログラム - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

パターンの形成方法、デバイスの製造方法、デバイス、アクティブマトリクス基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING SAME AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性エレメント、感光性エレメントの製造法、これを用いたレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK INTERMEDIATE, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスク中間体及びパターンの転写方法 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING PATTERN OF INTEGRATED CIRCUIT, METHOD FOR FORMING EXPOSURE MASK, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

集積回路のパターン設計方法、露光マスクの作成方法、露光マスク、および集積回路装置の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性エレメント、感光性エレメントの製造法、これを用いたレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND PHOTOMASK例文帳に追加

パターン形成方法、薄膜トランジスタ基板の製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びにフォトマスク - 特許庁

To provide an exposing device for manufacturing an optical film by performing exposure to a pattern for, for example, photoalignment.例文帳に追加

例えば、フォトアライメントのためのパターンを露光することによって光学フィルムを製造するための露光装置を提供する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SYSTEM LCD, METHOD FOR PREPARING THE POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物、該ポジ型ホトレジスト組成物の調製方法及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER HAVING TEST PATTERN, METHOD FOR INSPECTING SEMICONDUCTOR WAFER, METHOD FOR MANAGING MANUFACTURING PROCESS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

テストパターンを有する半導体ウェハ、半導体ウェハの検査方法、製造プロセス管理方法及び半導体の製造方法 - 特許庁

RESIN FOR FORMING UPPER-LAYER ANTIREFLECTION FILM, COMPOSITION FOR FORMING UPPER-LAYER ANTIREFLECTION FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

上層反射防止膜形成用樹脂及び上層反射防止膜形成用組成物並びにレジストパターン形成方法 - 特許庁

MASK PATTEN FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING FINE PATTERN例文帳に追加

半導体素子製造用のマスクパターンとその形成方法、及び微細パターンを有する半導体素子の製造方法 - 特許庁

EPOXY RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE FILM, METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYERED WIRING BOARD例文帳に追加

エポキシ樹脂組成物、導電膜形成方法、導電性パターン形成方法、及び多層配線板の製造方法 - 特許庁

The traditional Japanese folding fan used for this performance is called Kami ogi (fan of a sacred god) built with shirobone bones (white colored bones of a fan, which is used for the role of a god or an old man, without putting a Noh mask on) and its face decorated with tsuma-beni (red cloud pattern, used for the role of a young and flamboyant characters). 例文帳に追加

使用する扇は神扇（かみおうぎ）と言われ、白骨に妻紅。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method for making a change in height for each exposed portion or for rounding surface corners of a convex pattern.例文帳に追加

露光部毎に高さ変化を与え、又は凸模様の上面隅部に丸みを与えることができる製法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MINUTE PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING MASTER DISK FOR OPTICAL MEMORY DEVICE, MASTER DISK FOR OPTICAL MEMORY DEVICE, STAMPER FOR OPTICAL MEMORY DEVICE, AND OPTICAL MEMORY DEVICE例文帳に追加

微細パターンの形成方法及び光メモリ素子用原盤の製造方法、並びに光メモリ素子用原盤、光メモリ素子用スタンパ及び光メモリ素子 - 特許庁

No lane pattern is displayed when the lane pattern of a guide intersection coincides with a predetermined reference pattern because a driver can makes a decision using common sense, otherwise a lane pattern is displayed for the driver.例文帳に追加

案内交差点の車線パターンが所定の基準パターンに一致する場合には、運転者は常識で判断できるとして車線パターンの表示を行わず、基準パターンに一致しない場合には車線パターンを表示し、運転者に提示する。 - 特許庁

Thus, since the name related to the embroidery pattern can be displayed in the folder for preserving the embroidery pattern data, even without opening and confirming the embroidery pattern data, it can be judged whether the pattern is desired or not.例文帳に追加

このような構成では、刺繍模様データが保存されるホルダーに刺繍模様に関連した名前を表示させることができるので、刺繍模様データを開いて確認しなくても所望の模様であるかを確認することができる。 - 特許庁

Then, when the power is restored, the CPU for the main control reads the pattern tables TP1-TP5 included in the backup information, and determines a variation pattern on the basis of the pattern tables TP1-TP5 when executing a pattern variation game.例文帳に追加

そして、主制御用ＣＰＵは、復電した際、バックアップ情報に含まれるパターンテーブルＴＰ１〜ＴＰ５を読み出し、図柄変動ゲームを実行する際、当該パターンテーブルＴＰ１〜ＴＰ５に基づき、変動パターンを決定するようにした。 - 特許庁

When performing signal processing for the image signals obtained from the pixels arranged in the check pattern, the image signals in the check pattern are converted into a square pattern after the signal processing of a filter coefficient is carried out by using a filter arranged in the check pattern.例文帳に追加

市松配列された画素から得られる画像信号を信号処理する場合、フィルタ係数が市松配列されたフィルタを用いて信号処理した後に、市松配列の画像信号を正方配列に変換する。 - 特許庁

The pressing direction detecting sensor comprises an approximately circular resistance film pattern 14, a first electrode pattern 13, and a conductive member 12 for electrically connecting the resistance film pattern to the first electrode pattern, when pressed.例文帳に追加

本発明の方圧方向検出センサは、略環状の抵抗膜パターン（１４）と、第１の電極パターン（１３）と、押圧されると前記抵抗膜パターンと前記第１の電極パターンとを電気的に接続する導電部材（１２）とを有する。 - 特許庁

To coat individual building panels with an uneven pattern by employing a coating pattern suitable for the uneven pattern with an excellent productivity, which panels are made by cutting a long sized panel with the uneven pattern at desired positions in the longitudinal direction.例文帳に追加

凹凸パターンを施した長尺パネルの長手方向の任意位置で切断してなる各建築パネルに対し、上記凹凸パターンに対応した塗装パターンで塗装を行う塗装手段を用い、生産性良く塗装可能にする。 - 特許庁

To provide a technology for accurately detecting the position of each pattern in a repeated pattern, even in an image of an object including fluctuation in a repeated pattern cycle or an object including disturbance unrelated to the repeated pattern.例文帳に追加

繰り返しパターンの周期に揺らぎを含む物体や、繰り返しパターンに無関係な外乱を含む物体の画像であっても、当該繰り返しパターンにおける個々のパターンの位置を正確に検出できるようにした技術を提供する。 - 特許庁

The master glass includes a first conductive pattern formed so as to respond to a vapor-depositing pattern required for an electronic element substrate and a second conductive pattern electrically connecting the first conductive pattern.例文帳に追加

本発明のマスターグラスは、電子素子用基板に要求される蒸着パターンに対応するように形成された第１導電性パターンと、前記第１導電性パターンをいずれも電気的に連結する第２導電性パターンと、を含む。 - 特許庁

A character for comparison which should be compared with the binary pattern is coded to generate a standard pattern having standardized-width bars and spaces, and corresponding places of the binary pattern and standard pattern are outputted in parallel.例文帳に追加

また該２値化パターンと比較すべく比較用のキャラクタをコード化し、バー及びスペースが規格通りの幅である標準パターンを生成して、２値化パターン及び標準パターンの夫々対応する箇所を並列させて出力する。 - 特許庁

To provide method and programs for pattern displacement analysis, pattern correction, and stencil mask manufacture which can quickly and accurately correct the position of a pattern aperture by quickly and accurately analyzing the displacement of the pattern aperture.例文帳に追加

パターン開口の変位を高速かつ精度良く解析することにより、パターン開口の位置を高速かつ精度良く補正することができるパターン変位解析方法、パターン補正方法、ステンシルマスクの製造方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

A correction pattern comprising lines parallel to the moving direction is formed on the scale in addition to a slanting pattern for moving position detection, and the position detected by detection of the slanting pattern is corrected by using information acquired by detection of the correction pattern.例文帳に追加

移動位置検知用の傾斜パターンに加えて移動方向に平行な線からなる補正パターンをスケール上に形成し、傾斜パターンの検知により検知された位置を補正パターンの検知により得られた情報を用いて補正する。 - 特許庁

Further, development video moving image data for starting variable display from the pattern of the same kind as the tentatively stop-displayed center pattern and performing stop display at the kind of the pattern specified by (information relating to) the final stop pattern are displayed (S1304, S1306, S1309, S1311).例文帳に追加

さらに、一旦停止表示された中図柄と同種の図柄から変動表示を開始し最終停止図柄（に関する情報）で指定された図柄の種類で停止表示を行う発展映像動画データを表示させる（Ｓ１３０４，Ｓ１３０６，Ｓ１３０９，Ｓ１３１１）。 - 特許庁

To provide a composition for nano imprint excellent in pattern formability and mold releasability, can form a good pattern, and give a pattern after the etching that is small in line edge roughness, and to provide a pattern and a patterning method using this.例文帳に追加

パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

At heat treatment on the resist pattern for adjusting the dimension of the pattern after the pattern has been formed by lithography, heat treatment is performed at a temperature T1(°C), which falls within the range of T2(°C) to T+4°C (where T2 is the softening temperature of the resist forming the pattern).例文帳に追加

リソグラフィによりレジストパターンを形成した後、パターン寸法を調整するために加熱処理を行う場合に、レジストの軟化温度Ｔ_2 （℃）に対し、Ｔ_2 ≦Ｔ_1 ≦Ｔ_2 ＋４℃の範囲内の温度Ｔ_1 （℃）で加熱処理を行う。 - 特許庁

A dither pattern selection unit 312 is provided in a ROM 304 and selects a dither pattern most suitable for a screen pattern among a plurality of dither patterns and a dither processing unit 313 carries out a dither process of designated colors with the dither pattern to generate color data.例文帳に追加

ディザパターン選択部３１２はＲＯＭ３０４に格納され、複数のディザパターンの中から網掛けパターンに最適なディザパターンを選択し、ディザ処理部３１３は指定された色をディザパターンによりディザ処理しカラーデータを生成する。 - 特許庁

An adjustment pattern is formed so that dot pattern formation conditions for forming the digital pen dot pattern are changed to be in conformity with the change of the environmental conditions, and the light reflection property of the formed adjustment pattern is detected.例文帳に追加

デジタルペン用のドットパターンを形成するためのドットパターン形成条件を環境条件の変化に適合するように変更するために、調整パターンを形成し、形成された調整パターンの光反射特性を検出する。 - 特許庁

Pixels adopting the value from the latent image threshold pattern are then included in the latent image portion, pixels adopting the value from the background threshold pattern are included in the background portion and for pixels belonging to the inside of the same latent image threshold pattern, the value is adopted from the same pattern.例文帳に追加

そして、潜像閾値パターンから値が採用された画素は、潜像部に含まれ、背景閾値パターンから値が採用された画素は、背景部に含まれ、同一の潜像閾値パターン内部に属する画素では同じパターンから値を採用する。 - 特許庁

Conductor layers 8 penetrating the metallic board 1 through the openings 2 and connecting the wiring pattern layer 4 and the wiring pattern layer 6 are formed for electrically connecting each wiring pattern layer, and electrical conductions with each wiring pattern layer are obtained.例文帳に追加

また、各配線パターン層を電気的に接続させるため、開口部２を介して金属基板１を貫通し、配線パターン層４と配線パターン層６とを接続する導体層８が形成され、各配線パターン層との導通が得られる。 - 特許庁