| 意味 | 例文 |
pattern systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3674件
The method includes the step of preparing an object file management framework for establishing a standard interface between a vender-supplied pattern compiler and the module type test system, receiving a pattern source file, preparing a pattern object metafile on the basis of the pattern source file by using the object file management framework, and testing the device to be tested, through the test module by using the pattern object metafile.例文帳に追加
ベンダ供給パターンコンパイラとモジュール式試験システムとの間に標準インターフェースを確立するためのオブジェクトファイル管理フレームワークを作成すること、パターンソースファイルを受信すること、オブジェクトファイル管理フレームワークを用いて、パターンソースファイルに基づいてパターンオブジェクトメタファイルを作成すること、及びパターンオブジェクトメタファイルを用いて試験モジュールを通して被試験デバイスを試験する。 - 特許庁
This construction material design support system is provided with a surface pattern data file for storing an initial display unit DU being initial display region data in a surface pattern repetition unit CU, and configured to display a region expressing the characteristics of the surface pattern in the surface pattern repetition unit CU as the initial display unit DU at first at the time of selecting and displaying each surface pattern.例文帳に追加
表面柄繰返しユニットＣＵの中の初期表示領域データである初期表示ユニットＤＵを記憶する表面柄パターンデータファイルを備え、各表面柄パターンを選択して表示する際に、表面柄繰返しユニットＣＵの中のその表面柄の特徴をよく表す領域を初期表示ユニットＤＵとして最初に表示する建築材設計支援システム。 - 特許庁
The electron beam exposure system has a plurality of the electron beam exposure devices which deflect electronic beam, based on the control data and expose a pattern on an exposed object, and a data control means which sends the control data, corresponding to the exposed pattern to the electron beam exposure devices which sends pattern information, in response to the pattern information about the exposed pattern which is sent from the electron beam exposure devices.例文帳に追加
制御データに基づいて電子ビームを偏向し、被露光物体上にパターンを露光する複数の電子ビーム露光装置と、前記電子ビーム露光装置から送られてくる露光されるパターンに関するパターン情報に応じて、前記パターン情報を送出した電子ビーム露光装置に前記露光されるパターンに対応した前記制御データを送出するデータ制御手段とを有する。 - 特許庁
This calibration pattern unit for acquiring correction information for an imaging system by image pick-up by the imaging system is put on a plurality of planes or one or more of curved face(s) arranged three-dimensionally to provide a calibration pattern 5-2 or 5-3 formed with a prescribed pattern within a range having a shape substantially same to an object imaged by the imaging system.例文帳に追加
撮像系により撮像することによって当該撮像系の補正情報を取得するためのキャリブレーションパターンユニットを、三次元的に配置された複数の平面上または一つ以上の曲面上において、上記撮像系の撮像する対象物と概ね同形状を有する範囲に所定のパターンが形成されたキャリブレーションパターン５−２又は５−３を有するよう構成する。 - 特許庁
The calibration pattern unit for obtaining correction information of an imaging system 6 by imaging by the imaging system 6 is constituted of a calibration pattern 5-1 wherein known geometrical patterns are formed on a plurality of plane surfaces arranged in three dimensions, and a relative position attitude stationary part 7 which fixes relative position and attitude of the calibration pattern 5-1 and the imaging system 6.例文帳に追加
撮像系６により撮像することによって当該撮像系６の補正情報を取得するためのキャリブレーションパターンユニットを、三次元的に配置された複数の平面上に既知幾何学パターンが形成されたキャリブレーションパターン５−１と、このキャリブレーションパターン５−１と上記撮像系６の相対位置及び姿勢を固定する相対位置姿勢固定部７とにより構成する。 - 特許庁
The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which is so constituted that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加
本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁
The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which structure is so constructed that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam onto target portions on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加
本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁
A lithography apparatus of the present invention comprises: a lighting system which supplies projection beams; a structure for supporting a pattern forming device which is constituted so that the pattern forming device gives a section of a beam a pattern; a substrate table which retains a substrate; a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate; and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加
本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁
The system display information output means 13 includes a means which acquires the output destination information based on the failure pattern, and outputs the system display information displayed in the failed system monitoring board 30 to acquired system information output destination.例文帳に追加
系統表示情報出力手段１３は、故障パターンに基づいて出力先情報を取得して、故障した系統監視盤３０が表示していた系統表示情報を取得した系統情報出力先に出力する手段を含む。 - 特許庁
To provide a map deformation pattern-sharing device and method for sharing a map deformation pattern between a plurality of users in order to create a deformed map that suits users' needs; and to provide a device, a system, and a method for creating a deformed map using the map deformation pattern-sharing device and method.例文帳に追加
ユーザのニーズにあったデフォルメ地図を作成するために、複数のユーザで地図デフォルメパターンを共有する地図デフォルメパターン共有装置及び方法並びにその装置及び方法を用いたデフォルメ地図作成装置、システム及び方法を提供すること。 - 特許庁
To execute the acquisition of synchronization with improved performance even if patterns similar to a fixed pattern are present before and after utilizing the repetition fixed pattern in a preamble section and even if CNR is small, when using the repetition fixed pattern when synchronizing the receiver of a radio communication system.例文帳に追加
無線通信システムの受信機の同期獲得において、プリアンブル区間の繰返し固定パタンを利用する際に、その前後に固定パタンに類似したパタンが存在する場合やＣＮＲが小さい場合においても、性能良く同期獲得を実行可能にする。 - 特許庁
In the circuit pattern inspection system, when a semiconductor wafer having a plurality of chip areas (dies) having the same circuit pattern is inspected, a detection image for each chip area is displayed on a monitor, and a circuit pattern defect is inspected based on the detection image for each chip area.例文帳に追加
回路パターン検査装置では、同一の回路パターンを有する複数のチップ領域（ダイ）を有する半導体ウエハを検査するとき、チップ領域毎の検出用画像をモニタに表示し、チップ領域毎の検出用画像から、回路パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁
Scratch pattern data is stored previously in a flash ROM 40, when a user operates a scratch button, the main system controller 36 reads out selected pattern data, commands to the DSP signal processing part 44, and reads out data from the memory 46 with the selected scratch pattern.例文帳に追加
フラッシュＲＯＭ４０には予めスクラッチパターンデータが記憶され、ユーザがスクラッチボタンを操作すると、メインシステムコントローラ３６は選択されたパターンデータを読み出してＤＳＰ信号処理部４４に指令し、選択されたスクラッチパターンでデータをメモリ４６から読み出す。 - 特許庁
When the rotation of respective reels of the variable display system stops by an operation or the like by a game player, a stopper pattern command which indicates the kind of the applicable reel and the pattern number of a pattern which stops on the lower stage is transmitted from the game control means to the production control means.例文帳に追加
遊技者の操作などによって可変表示装置の各リールの回転が停止すると、当該リールの種別と下段に停止した図柄の図柄番号とを示す停止図柄コマンドが遊技制御手段から演出制御手段へと送られる。 - 特許庁
The system for supporting design of a business process comprises a business process storage means for storing business process data; a task complementary pattern storage means for storing task complementary pattern data; and a task complementation means for updating the business process data using the task complementary pattern data.例文帳に追加
業務プロセスの設計を支援するシステムであって、業務プロセスデータを記憶する業務プロセス記憶手段と、タスク補完パターンデータを記憶するタスク補完パターン記憶手段と、タスク補完パターンデータを用いて業務プロセスデータを更新するタスク補完手段を備える。 - 特許庁
The substrate is for the purpose of forming a color filter and has an organic molecular film pattern, and this organic molecular film pattern has a function by which a color filter layer 15 is selectively formed, based on this pattern when supplying a color filter material by the ink discharge system.例文帳に追加
カラーフィルターを形成するための基板であって、有機分子膜パターンを有し、この有機分子膜パターンは、インク吐出法によりカラーフィルターの材料を供給した際に、このパターンに基づいてカラーフィルター層１５が選択的に形成される機能を有する。 - 特許庁
To solve such a problem that thickness distribution of a plated film generates in a flowing direction of a substrate, especially in edges on forming a wiring pattern 8, in an isolated pattern, and in a pattern of a small area, when electroplating a film substrate 4 having flexibility in a reel to reel system.例文帳に追加
可撓性を持つフィルム基材４にリールトゥリール方式で電気めっきを施す場合、基材の流れ方向のめっき膜厚ばらつき、特に配線パターン８形成時端、孤立したパターン、面積の小さいパターン等でにめっき膜厚ばらつきが発生する、 - 特許庁
A code pattern reading system 30 photographs a code pattern recording medium 1 that is provided with a rewritable information display area 2 and on which a plurality of code patterns 3 are recorded with a camera 311 accompanying an image pickup unit 31, and extracts an image 43 of a code pattern with a distinguishing unit 32.例文帳に追加
コードパターン読取システム３０は、書換え可能な情報表示領域２を備え複数のコードパターン３が記録されたコードパターン記録媒体１を、撮像部３１に付帯するカメラ３１１で撮像し、判別部３２でコードパターンの画像４３を抽出する。 - 特許庁
This exposure apparatus 14 receives Gerber data 36 of a wiring pattern to be transferred by exposure onto an exposure object from a CAD/CAM system 12.例文帳に追加
露光装置１４は、被露光物に露光すべき配線パターンのガーバーデータ３６をＣＡＤ／ＣＡＭシステム１２から入力する。 - 特許庁
Then, a flare value of a projection optical system included in an exposure device is calculated using pattern mean density of the mask patterns after correcting.例文帳に追加
そして、露光装置が備える投影光学系のフレア値を、前記補正後マスクパターンのパターン平均密度を用いて算出する。 - 特許庁
This projection optical system projects the image of a pattern formed on a 1st surface (M) to a 2nd surface (P) at substantially unmagnified power.例文帳に追加
第１面（Ｍ）に形成されたパターンの像を第２面（Ｐ）上へ実質的に等倍の倍率で投影する投影光学系。 - 特許庁
The dynamic mask module 100 has a microcomputer system 110, a mask pattern producing device 120, and a light source 130.例文帳に追加
マイクロコンピュータシステム１１０、マスクパターン生成器１２０、および光源１３０を備えるダイナミックマスクモジュール１００が説明される。 - 特許庁
IMAGE FORMING APPARATUS, TRANSFER POSITION DETERMINING METHOD OF TRANSFER POSITION DISPLACEMENT AMOUNT DETECTION PATTERN THEREOF, MANUFACTURING METHOD OF IMAGE FORMING APPARATUS, AND IMAGE FORMING SYSTEM例文帳に追加
画像形成装置、その転写位置ずれ量検出用パターンの転写位置決定方法、製造方法及び画像形成システム - 特許庁
This system is provided with an RTL simulation method and a pattern preparing means for calculating the working rate of a gate and a net list simulation method.例文帳に追加
本発明はＲＴＬシミュレーション手段とゲートの動作率算出用パタン作成手段とネットリストシミュレーション手段を含む。 - 特許庁
To sufficiently utilize an idea wherein one pattern is constituted of a plurality of patterns as a guided out display result of a variable display system.例文帳に追加
複数の図柄で１つの図形を構成するという工夫を可変表示装置の導出表示結果として十分に生かす。 - 特許庁
In the present projection system, the pattern surface on the reticle is lightened so that a projected image that focuses on an image-forming surface can be obtained.例文帳に追加
本発明の投影システムでは、結像面に集束した投影像が得られるようにレチクル上のパターン面を照明する。 - 特許庁
To provide a method, a system and a computer readable record medium for refining a web document using text pattern extraction.例文帳に追加
テキストパターン抽出を用いてＷｅｂ文書をリファインするための方法、システム及びコンピュータで読取可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁
To provide an element formation system capable of precisely and easily forming an element in specified pattern on a discharged medium.例文帳に追加
被吐出媒体上に所定パターンの素子を精度良くかつ容易に形成することができる素子形成システムを提供する。 - 特許庁
The thickness of the resist film is transmitted to the host computer 3 and, further, transferred to the pattern exposure system (steps S105-S201).例文帳に追加
このレジスト膜の膜厚は、ホストコンピュータ３に送信され、さらに、パターン露光装置に転送される（ステップＳ１０５〜Ｓ２０１）。 - 特許庁
A pattern image on the reticle 5 is focused on the surface of wafer 7 with a projection optical system 6.例文帳に追加
レチクル５上のパターンを透過した光は、投影光学系６によって、レチクル５上のパターンの像をウエハ７面に結像する。 - 特許庁
To provide a multi-charged particle writing system capable of measuring a current of each electron beam accurately and capable of exposing a desired pattern.例文帳に追加
各電子ビームの電流を正確に測定でき、所望パターンを露光できるマルチ荷電粒子線描画装置を提供する。 - 特許庁
To prevent contamination due to a metal foreign substance and an organic substance of a wafer pattern surface caused by dust generated from a wafer transport system of a length measurement device.例文帳に追加
測長装置のウェハ搬送系からの発塵によるウェハパターン面の金属異物および有機物汚染を防止する。 - 特許庁
A pattern of irregularly spaced grooves is formed on the grating face of the diffraction grating 1 by a laser interference system for holographic exposure.例文帳に追加
回折格子１の格子面にはホログラフィック露光用のレーザー干渉系を用いて不等間隔の溝パターンが形成される。 - 特許庁
The control part 101 limits the aspect system of the intersection IS to the pattern 1 or 3 when detecting the entry signal.例文帳に追加
制御部１０１は、流入信号を検出した場合に、交差点ＩＳの現示方式をパターン１又は３に限定する。 - 特許庁
To provide an overlay measurement system for producing an overlay compensation value by measuring an overlay pattern, and an overlay measurement method therefor.例文帳に追加
オーバーレイパターンを計測してオーバーレイ補正値を生成するオーバーレイ計測装置及びそのオーバーレイ計測方法を提供する。 - 特許庁
The apparatus for projecting a pattern on a substrate 30 from a mask 10 has a radiation source 2 and a projection optical system 12.例文帳に追加
マスク１０からパターンを基板３０上に投影するための装置は、放射線源２と、投影光学系１２と有する。 - 特許庁
To provide a new personal authentication method and personal authentication system using a vein pattern.例文帳に追加
本発明は、静脈パターンを利用した新規な個人認証方法及び個人認証システムを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a system and a method for detecting color-to-color process direction misregistration errors using a color registration pattern.例文帳に追加
色位置合わせ模様を利用して色対色の処理方向の位置ずれエラーを検出するシステム及び方法が提供される。 - 特許庁
In one encoding system, a resource allocation bit pattern is transmitted to all users together with a resource ID for each user.例文帳に追加
一のエンコード方式においては、リソース割当ビットパターンは、各ユーザに対するリソースＩＤとともに、すべてのユーザに伝送される。 - 特許庁
To provide an improved pattern database generating method for a model-base control system using a target value search.例文帳に追加
目標値探索を用いるモデルベース制御システムのための改良されたパターンデータベース生成方法を提供することである。 - 特許庁
The exposure apparatus exposes a substrate by projecting an image of a pattern on the substrate through a projection optical system and liquid.例文帳に追加
露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、基板を露光する。 - 特許庁
The voice recognition system which is in a voice recognition mode records user's utterance, and a first voice pattern is created from this utterance.例文帳に追加
音声認識システムは音声認識モードにあり、ユーザの発話を記録し、この発話から第１の音声パターンを生成する。 - 特許庁
To make a drawing pattern highly accurate and to improve the throughput of a batch transfer system of electron-beam direct drawing technology.例文帳に追加
電子線直接描画技術の一括転写方式における描画パターンの高精度化およびスループットの向上を図る。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING INK JET SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING SURFACE ACOUSTIC WAVE ELEMENT PIECE, AND SURFACE ACOUSTIC WAVE DEVICE例文帳に追加
インクジェット方式を使用したレジストパターンの形成方法、弾性表面波素子片の製造方法および弾性表面波デバイス - 特許庁
TRANSMITTER-RECEIVER APPARATUS FOR FAST FREQUENCY HOPPING BY CYCLIC FREQUENCY PATTERN IN ORTHOGONAL FREQUENCY DIVISION MULTIPLE CONNECTION SYSTEM例文帳に追加
直交周波数分割多重接続システムで循環周波数パターンによる高速周波数ホッピングのための送受信装置 - 特許庁
To obtain a system for producing a copying inhibition document having a pattern for preventing a copying from being executed by a person other than a copyright holder.例文帳に追加
著作権者以外の者がコピーすることを防止するパターンを有するコピー禁止ドキュメントを作成するシステムを得る。 - 特許庁
Moreover, the computer 30 identifies color arrangement of the test pattern for each input system, thereby performing more accurate adjustment.例文帳に追加
さらに、入力系統ごとにテストパターンの色配置をコンピュータ２０が識別するため、より正確な調整を行うことができる。 - 特許庁
A projection system PL projection exposes the image of a prescribed pattern formed on a reticle R on a photosensitive substrate W.例文帳に追加
レチクル（Ｒ）に形成された所定パターンの像を感光性基板（Ｗ）に投影露光するための投影系（ＰＬ）を提供する。 - 特許庁
The holes 53 and the patterns 54 prevent the noise from superimposing from the detection system wiring pattern onto the detection signal.例文帳に追加
これらの孔部５３およびパターン５４により、検出系配線パターンから検出信号へのノイズの重畳が抑制される。 - 特許庁
A system controller 104 detects an area where patterns match between images based on a plurality of pieces of image data by pattern matching.例文帳に追加
システムコントローラ１０４は、複数の画像データに基づく画像間でパターンが一致する領域をパターンマッチングにより検出する。 - 特許庁
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