「patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

A proof mass for flexure type, magnetic and capacitance circuit accelerometer includes one or more protruding pads integrally formed on a fused silica paddle, such as being etched or patterned on the fused silica paddle.例文帳に追加

フレクチャタイプの磁気および容量回路加速度計用のプルーフマスは、溶融シリカパドル上にエッチングまたはパターニングされるなど、溶融シリカパドル上に一体的に形成された１つまたは複数の隆起パッドを含む。 - 特許庁

Consequently, the wasteful time of irradiating the portions to be removed by patterning with the laser beams can be eliminated and the crystallinity of the patterned semiconductor film can be improved further.例文帳に追加

上記構成により、半導体膜のうち、パターニングにより除去される部分に無駄にレーザー光を照射する時間を省くことができ、パターニング後に得られる半導体膜の結晶性をより高めることができる。 - 特許庁

An excimer laser or ultraviolet exposure resist or an electron beam resist is applied over a surface, exposure and development using ultraviolet light or electron beams are performed to form a patterned unit resist (a).例文帳に追加

（ａ）面上に、エキシマレーザ用もしくは紫外線露光用のレジストまたは電子ビーム用レジストを塗布し、紫外領域の光または電子ビームによる露光及び現像を行って、パターニングされた単位レジストを形成する。 - 特許庁

A contactless IC card comprises a patterned antenna 112 formed on an antenna wiring board 111, and an IC chip 101 mounted on the antenna wiring board 111 as electrically connected to the antenna 112.例文帳に追加

非接触ＩＣカードは、アンテナ配線基板１１１上に形成されたパターン状のアンテナ１１２と、アンテナ１１２に電気的に接続されアンテナ配線基板１１１上に実装されたＩＣチップ１０１を具備している。 - 特許庁

Concretely, treatment is performed wherein a patterned substrate is immersed in a cation based surfactant, and acid treatment is performed furthermore, so that potential difference is formed between a photopolymer portion and a substrate portion, and non-electrolytic plating is performed.例文帳に追加

具体的には、派ターニングのなされた基板をカチオン系界面活性剤に浸漬する処理を施し、さらに酸処理することによって感光性樹脂部と基板部との間に電位差を形成し、無電解メッキに供する。 - 特許庁

In this biosensor comprising a substrate coated with a hydrophobic polymer compound, at least two or more kinds of surfaces are patterned by an ink jet print on a domain coated with the hydrophobic polymer compound.例文帳に追加

疎水性高分子化合物でコーティングした基板から成り、疎水性高分子化合物でコーティングされた領域上にインクジェットプリントにより少なくとも２種類以上の表面がパターニングされている、バイオセンサー。 - 特許庁

An indium tin oxide (ITO) is patterned (step S1) on a substrate by making a liquid or a fluid containing the indium tin oxide discharged at a requested position on the substrate from an inkjet head of a drop discharge device.例文帳に追加

液滴吐出装置のインクジェットヘッドから基板上の所望位置に、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を含む液体または流動体を吐出させることで、インジウム錫酸化物を基板上にパターニングする（ステップＳ１）。 - 特許庁

The character of the design is basically taken from Kacho-Fugetsu (beauty of nature: flower, birds, wind and moon, common Japanese motifs for art) and uses yusoku-monyo as juxtaposition pattern, or the kosode is patterned with embroidery and dyes all over the kimono, and has a similar atmosphere with Kanbun kosode. 例文帳に追加

柄行きは「花鳥風月」を基調としており、有職文様を飛び柄で入れたり、着物全体をつかって刺繍や染めで文様が入っており、寛文小袖に似た雰囲気がある…などの特徴があった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Officially, men wear black nagagi (full-length garments) with five family crests and striped hakama, and women wear black or color tomesode (formal dress patterned only below the waistline, as worn by a married woman) with family crests and machi hakama, following the code for traditional Japanese clothing; but there are no rules and often different clothing is worn. 例文帳に追加

正式には和服の慣例に準じ、男性は黒の5つ紋付の長着に縞袴、女性は紋付の黒または色留袖に襠袴だが、規定は無くそれ以外が着用されることも多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a long film for pattern formation that is low in moisture content fluctuations and can form highly accurate patterns, and a patterned long film that is low in moisture content fluctuations after pattern formation and permits highly accurate subsequent machining.例文帳に追加

含水率のバラツキが小さく、高精度のパターン形成が可能なパターン形成用の長尺フィルムと、パターン形成後の含水率のバラツキが小さく、高い精度での後加工が可能なパターン付き長尺フィルムとを提供する。 - 特許庁

Further, by making protruded parts 100a of the rugged structure 100 a mask, the conductive layer 2 is etched and patterned and, thereby, a conductive member 12 arranged in a striped pattern is formed on the substrate 11A.例文帳に追加

そして、凹凸構造体１００の凸部分１００ａをマスクにして、導電層２をエッチングし、導電層２をパターニングすることで、基板１１Ａ上に縞状に配置される導電部材１２を形成する。 - 特許庁

A resist layer 14 patterned on a surface of the insulating layer 12 is formed (1), and the insulating film 12 as well as an upper layer 6 of a non insulating silicon are anisotropically ectched along the pattern to form a trench reaching an interlayer 4 (2).例文帳に追加

絶縁膜１２の表面にパターニングされたレジスト層１４を形成し（１）、そのパターンに沿って絶縁膜１２と非絶縁性のシリコンの上層６を異方性エッチングし、中間層４に至るトレンチを形成する（２）。 - 特許庁

A thin film layer such as a luminescent layer of the electroluminescent element is patterned by discharging a liquid material on a substrate 1 while scanning a nozzle part 2 as shown by an arrow by a coating applicator having the nozzle part 2.例文帳に追加

ノズル部２を備えた塗布装置により、ノズル部２を矢印で示すように走査しながら基板１上に液状材料を吐出することで、電界発光素子の発光層等の薄膜層をパターニングする。 - 特許庁

To provide a patterned optical waveguide which is composed of a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, either one of layers of which is formed with a silica-based compound, and has an excellent polarized wave dependability.例文帳に追加

、下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか１層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって偏波依存性に優れた光導波路に関する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a patterned magnetic recording medium by which only a necessary part can be highly accurately machined in a dry etching process when forming a rugged pattern of an interlayer.例文帳に追加

本発明の目的は、中間層の凹凸パターン形成時のドライエッチングプロセスにおいて、必要部位のみを高精度に加工することができる、パターンドメディア型の磁気記録媒体の製造方法を提供することである。 - 特許庁

A release layer for controlling the position of a boundary defect formed during film growing is formed and patterned on the base substrate (step 1020), and the low defect density film is grown on the release layer (step 1060).例文帳に追加

膜成長の間に形成される境界欠陥の位置を制御するためのリリース層をベース基板に生成且つパターニングし（ステップ１０２０）、リリース層上に低欠陥密度膜を成長させる（ステップ１０６０）。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING AND METHOD OF INSPECTING BASE MATERIAL FOR PRINTED WIRING BOARD HAVING MULTIPLE DEVELOPMENT PATTERNS FORMED, METHOD OF MANUFACTURING AND METHOD OF INSPECTING MULTIPLE-PATTERNED PRINTED WIRING BOARD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

多面付け現像パターン形成済プリント配線板用基材の製造方法および検査方法、多面付けプリント配線板の製造方法および検査方法、半導体装置の製造方法、ならびに露光マスク - 特許庁

The patterned spacer layer defines a channel between the first and second insulating layers that has a sample-receiving chamber, a first port proximate the platform portion and a second port at an outer edge of the analyte test strip.例文帳に追加

型どられたスペーサーは、サンプル受容チャンバと、プラットフォーム部に近接する第１のポートと、検体試験片の外側縁に第２のポートとを有する第１の絶縁層と第２の絶縁層との間のチャネルを規定する。 - 特許庁

To provide an aqueous multi-colored pattern coating suitable for forming a multi-color-patterned coated film excellent in following property to an undercoat and soil resistance, and without damaging designing property, texture and clarity as the multi-colored pattern coating.例文帳に追加

多彩模様塗料としての意匠性、質感、鮮映性を損なうことなく下地への追随性と耐汚染性に優れた多彩模様塗膜を形成するのに適する水性多彩模様塗料を提供する。 - 特許庁

The amorphous conductive film on the metal conductive film is subjected to plasma treatment in a CF_4/O_2 gas atmosphere so as to make the amorphous conductive film easily etched, and then the layered film is patterned by using the etching liquid.例文帳に追加

金属導電膜上の非晶質導電膜に対し、ＣＦ_4 ／Ｏ_2 ガス雰囲気中でプラズマ処理を行って該非晶質導電膜をエッチングされやすくし、しかる後、エッチング液を用いて積層膜をパターニングする。 - 特許庁

To provide a method for use in manufacturing a device (CCD or CMOS image sensors) in which a substrate covered in a layer of colored radiation sensitive material has a patterned beam of radiation projected onto it.例文帳に追加

着色した放射線感光材料の層内に覆われた基板が、自身上に投影された放射線のパターン形成ビームを有するＣＣＤまたはＣＭＯＳイメージセンサの製造に使用する方法を提供する。 - 特許庁

The optical selectively reflecting layer, the patterned layer, the holographed layer and the reflecting layer are permeable to visible light and, at the same time, the reflecting layer has a refractive index, which is different from that of the holographed layer, to the visible light.例文帳に追加

前記光選択反射層、パターン層、ホログラム形成層および反射層は、可視光に対して透過性を有し、かつ、前記反射層は、可視光に対して前記ホログラム形成層とは異なる屈折率を有する。 - 特許庁

To provide an apparatus, method and system for fabricating patterned media imprint by which a data storage capability is improved while suppressing the increase of cost, an accurate data position control is maintained, and the resolution of media data is enhanced.例文帳に追加

コストを抑えながら、メディアのデータ記憶能力を向上させ、正確なデータ位置制御を維持し、かつメディア・データの解像度を向上させるパターンド・メディア・インプリント・マスタを作製する装置、システム、および方法を提供する。 - 特許庁

Then a resist 15 is patterned, and the wiring material lamination layer 12 is anisotropically etched, by utilizing a resist pattern containing a hard mask HM of the first and second insulating films 13 and 14, to form a wiring pattern 12 (Fig. 1 (b)).例文帳に追加

次に、レジスト１５をパターニングし、第１、第２絶縁膜１３，１４のハードマスクＨＭを含むレジストパターンに従って配線材料積層１２が異方性エッチングされ配線パターン１２が形成される（図１（ｂ））。 - 特許庁

By etching the laminated layer using the plug consisting of the third metal film 111 and the first patterned interlayer insulating film 107 as a mask, a metal wiring composed of the laminated layer is formed.例文帳に追加

前記積層膜に対して、第３の金属膜１１１からなるプラグ及びパターン化された第１の層間絶縁膜１０７をマスクにしてエッチングを行なって、前記積層膜からなる金属配線を形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a patterned retardation control functional layer by applying a photosensitive composition containing a polymerizable liquid crystal on a substrate, exposing the composition through a mask, developing an uncured portion of the photosensitive composition coating layer with an organic solvent and rinsing, wherein no residue of the photosensitive composition is produced on the substrate and an optimally patterned retardation control functional layer can be formed.例文帳に追加

重合性液晶を含む感光性組成物を基材に塗布した後、マスクを用いて露光し、感光性組成物塗布層の未硬化部分を有機溶媒で現像し、リンスしてパターン化された位相差制御機能層を形成する方法において、基材に上に感光性組成物の残渣を発生させることがなく、最適にパターン化された位相差制御機能層を形成することができるパターン化位相差制御機能層の形成方法を提供する。 - 特許庁

For the manufacturing method of the organic EL display element comprising a positive electrode, a negative electrode and at least one layer of patterned organic layer laid between those electrodes, the organic layer is flattened and a patterning error is corrected after forming the patterned organic layer by coating a solvent capable of dissolving the organic layer on the organic layer by spray coating and redissolving the organic layer.例文帳に追加

陽極と陰極とを有し、これらの電極の間に挟まれた少なくとも１層の有機層を有し、かつこの有機層がパターニングされている有機ＥＬ表示素子の製造方法であって、パターニングされている有機層を形成した後、前記有機層が可溶な溶媒を、前記有機層にスプレーコーティングにより塗布し、前記有機層を再溶解させて、前記有機層の平坦化およびパターニングエラーの補正を行う有機ＥＬ表示素子の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor devices related to the present invention has processes of: forming a conductive membrane on a semiconductor substrate; forming a sacrificial membrane on the conductive membrane; patterning the sacrificial membrane; forming a side wall on the side of the patterned sacrificial membrane; removing the patterned sacrificial membrane; and patterning the conductive membrane by using the side wall as a mask and form wiring.例文帳に追加

半導体基板上に導電性膜を形成する工程と、前記導電性膜上に犠牲膜を形成する工程と、前記犠牲膜をパターニングする工程と、パターニングされた前記犠牲膜の側面に、サイドウォールを形成する工程と、パターニングされた前記犠牲膜を除去する工程と、前記サイドウォールをマスクとして用いて前記導電性膜をパターニングして、配線を形成する工程とを有する方法により、半導体装置を製造する。 - 特許庁

This manufacturing method of a patterned passivation film for preventing deterioration of an organic EL element caused by permeation of moisture from an ambient environment includes processes of: forming a patterned film for lift-off on the organic EL element; forming the passivation film after that; and separating the film for lift-off along with a part of the passivation film present on top of it.例文帳に追加

周囲環境から水分の浸透による有機ＥＬ素子の劣化を防止するためのパターンニングされたパッシベーション膜の製造方法であって、上記有機ＥＬ素子にパターニングされたリフトオフ用フィルムを形成する工程と、その後のパッシベーション膜を形成する工程と、上記リフトオフ用フィルムをその上に存在する上記パッシベーション膜の一部とともに剥離する工程と、を含んでなるパターニングされたパッシベーション膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a first step of the method for fabricating the structural body to support a rocking body in a torsionally vibrating manner with respect to a substrate 120, the single crystal substrate 120 and a member having a patterned mask layer provided on a face side and a back side of the substrate are prepared.例文帳に追加

揺動体が基板120に対してねじり振動可能に支持される構造体の製造方法の第1の工程で、単結晶基板120と、この表面及び裏面に設けられるパターニングされたマスク層150を有する部材を用意する。 - 特許庁

This surface sheet is equipped with a base material, a first film layer which is formed on the base material and has an antibacterial property, and a second film layer which is formed on the first film layer and has rigidity and an unevenness being patterned.例文帳に追加

基材と、該基材上に形成され、抗菌性を有する第一の皮膜層と、該第一の皮膜層上に形成され、硬質性を有し、パターン化された凹凸を有する第二の皮膜層と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

Semiconductor multi-layer films constituted of n-InGaAsP light absorption layers 101 or n-InGaAs light receiving layers 103 or the like are epitaxially grown on an n-InP substrate 100, and an SiN film is deposited and patterned.例文帳に追加

ｎ−ＩｎＰ基板１００上にｎ−ＩｎＧａＡｓＰ光吸収層１０１やｎ−ＩｎＧａＡｓ受光層１０３等からなる半導体多層膜を順次エピタキシャル成長した後、ＳｉＮ膜を堆積し、パターニングを行う。 - 特許庁

As one of knitting methods, a jacquard reed capable of displacing the connecting threads at an optional timing within one knitted course and a combination of forming stitches and inlay knitting are employed to enable the patterned three-dimensional fabric to be efficiently knitted.例文帳に追加

そして、編成方法の一つとしては、連結糸を１編みコース内において任意タイミングで変位可能なジャカード筬を用い、編目形成と挿入編成を組み合わせることで柄入り立体成形物を効率的に編成できる。 - 特許庁

A mask film 30 is arranged on the surface of a gate electrode material 29 constituting the second gate electrode 28 that the LMOS 20 has, and then is patterned so that the mask 30 is left in a region where the second gate electrode 28 is scheduled to be formed.例文帳に追加

ＬＤＭＯＳ２０に備えられる第２ゲート電極２８を構成するゲート電極材料２９の表面にマスク膜３０を配置し、マスク膜３０を第２ゲート電極２８の形成予定領域に残すようにパターニングする。 - 特許庁

The present invention relates to an alignment mark and a forming method thereof, wherein a plating electricity feeding film 13 is formed on a surface of a substrate 12, and a photoresist pattern is formed on the plating electricity feeding film 13 and then patterned by electric plating.例文帳に追加

基板１２の表面にメッキ給電用膜１３を形成し、次いで当該メッキ給電用膜１３にフォトレジストパターンを形成して、その後電気メッキによりパターン形成されるアライメントマーク及びその作成方法である。 - 特許庁

The laminated film is patterned to form a laminate LB including a floating gate FG comprising the first silicon layer S1p, a gate insulating film GI comprising the insulating layer IL and a control gate CG comprising the second silicon layer S2a.例文帳に追加

この積層膜がパターニングされて、第１シリコン層Ｓ１ｐを有するフローティングゲートＦＧと、絶縁層ＩＬを有するゲート間絶縁膜ＧＩと、第２シリコン層Ｓ２ａを有するコントロールゲートＣＧとを含む積層体ＬＢが形成される。 - 特許庁

To provide an antenna pattern in which a patterned metal-particle sintered film is formed on a substrate and a surface resistance of the metal-particle sintered film is small and a smoothness of the surface is high, and to provide a manufacturing method for the pattern.例文帳に追加

基材上に、パターン状の金属微粒子焼結膜を形成してなり、金属微粒子焼結膜の表面抵抗が小さく、かつ該表面の平滑性の高いアンテナパターン及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The folding box 1 includes a foldable box 2, a surface-type display 3 which is provided on any one surface constituting the box 2 with its light-emission area being patterned, and a power supply 4 for supplying power to the display 3.例文帳に追加

折り畳みボックス１は、折り畳み可能なボックス部２と、ボックス部２を構成するいずれかの面に設けられ、発光領域がパターニングされた面状の表示部３と、表示部３に電力を供給する電源部４とを備えている。 - 特許庁

To provide: a substrate structure which can be excellently patterned by suppressing unevenness in resist film thickness nearby a substrate peripheral edge; a method of forming a coating film using the substrate structure; and a method of manufacturing a panel substrate.例文帳に追加

基板周縁部付近におけるレジスト膜厚の不均一を抑制して、良好なパターニングを行うことができる基板構造及びその基板構造を用いた塗布膜の成膜方法並びにパネル基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a transparent conductive substrate, by which there can be easily produced a transparent conductive substrate having good conductivity and transparency and including a titanium oxide-based transparent conductive film patterned into a desired shape.例文帳に追加

良好な導電性と透明性を有し、所望の形状にパターニングされた酸化チタン系透明導電性膜を備えた透明導電性基板を容易に得ることができる透明導電性基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Carbon gas is generated from carbon deposits attached on the inner wall of the etching chamber when the substrate is etched, and carbon gas is deposited on the side walls of the patterned organic material layer 2 to serve as a side wall protective film.例文帳に追加

エッチングチャンバ１０の内部に付着させた炭素系堆積物から、基板のエッチング処理時にカーボン系のガスを生じさせ、これをパターニングした有機材料層２の側壁に堆積させながら側壁保護膜として機能させる。 - 特許庁

The patterned leather comprises a leather exhibiting a tensile elongation at break of 35-180% in accordance with JIS K 6550 and having, formed thereon, a pattern by an ultraviolet-cured film having a scratch hardness (by the pencil method) of 3B to H in accordance with JIS K 5600.例文帳に追加

ＪＩＳ Ｋ ６５５０による引張り切断伸びが３５〜１８０％である皮革上に、ＪＩＳ Ｋ ５６００による引っ掻き硬度（鉛筆法）が３Ｂ〜Ｈの紫外線硬化膜による模様が形成されている模様形成皮革である。 - 特許庁

To provide a rugged pattern forming method in a nano inprint processing method useful for forming an electronic device, an optical component, a recording medium and the like, and capable of manufacturing such finely patterned products at low cost and high speed.例文帳に追加

電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a printer and a printing method using that printer in which color printing can be carried out on a patterned sheet with a color balance similar to that when color printing is carried out using a white sheet.例文帳に追加

柄模様の用紙に対してカラー印刷を行う際に、白色の用紙を用いてカラー印刷を行う場合と同様な色バランスで印刷することができる印刷装置及びその印刷装置を使用した印刷方法を提供すること。 - 特許庁

Dry etching is performed to the P-type second clad layer 20 by using a first insulating pattern 22B as a mask, and the P-type second clad layer is patterned in a ridge form to which the first insulating pattern 22B is transferred.例文帳に追加

続いて、第１の絶縁性パターン２２Ｂをマスクとして、ｐ型第２クラッド層２０に対して、ドライエッチングを行なうことにより、ｐ型第２クラッド層を、第１の絶縁性パターン２２Ｂが転写されたリッジ形状にパターニングする。 - 特許庁