| 例文 |
process baseの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2777件
Thin plated layers 7 are formed on base layers 6 derived from conductive metallic foils 9 and the inner wall face of a hole 10 by the first plating process to be executed after a desmear process.例文帳に追加
デスミア工程後になされる第1のめっき工程にて、導電性金属箔9に由来する下地層6及び孔10の内壁面に薄付けめっき層7を形成する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a solid electrolyte film, without generating wrinkles in a process of washing a film peeled off a base material and a process of drying.例文帳に追加
基材から剥離したフィルムを水洗する工程および乾燥させる工程において、皺を生じさせることなく固体電解質フィルムを製造することができる方法を提供する。 - 特許庁
Thus, the open type semitransmissive reflection base plate (3) is available without the positioning process of the microlens array (31) and the fine hole (34), an etching process for forming the fine hole (34) or the like.例文帳に追加
それにより、マイクロレンズアレイ(31)と微小孔(34)との位置合わせや、微小孔(34)を形成するエッチングプロセス等を必要としないで、開口型の半透過反射基板(3)を得ることができる。 - 特許庁
The method for manufacturing the electroconductive material includes a Sn-layer forming process for forming at least a Sn-layer on a base material and a wet blasting treatment process for subjecting the Sn-layer to a wet blasting treatment.例文帳に追加
素材上に少なくともSn層を形成するSn層形成工程と、前記Sn層をウエットブラスト処理するウエットブラスト処理工程とを含む導電材の製造方法である。 - 特許庁
To provide a ceramic heater hardly causing trouble such as generation of a gap in an interfacial surface between an insulating base body and a heat generation resistor in a manufacturing process or a usage process.例文帳に追加
製造過程や使用過程で、絶縁基体と発熱抵抗体との界面で隙間が生じる等の不具合が起こりにくいセラミックヒータ及びこれを用いたグロープラグを提供すること。 - 特許庁
In the vicinity of a process window being used, mutual relation of all control parameters and the signals of process monitors is measured initially or periodically and held in a recording unit 20 as a data base.例文帳に追加
使用するプロセスウインドウの近傍において、全ての制御パラメータやプロセスモニタの信号の相互関係を、初期あるいは定期的に測定し、データベースとして収録装置20に保持しておく。 - 特許庁
In addition, (4) a fourth process of producing the α-methyl-1,3-benzenedioxol-5-propanal by reacting 1-alkylcarbonyloxy-2-methyl-3-(3,4-methylenedioxyphenyl)propene obtained in the third process with an alcohol in the presence of a base.例文帳に追加
(4)第3工程を経て得られた1-アルキルカルボニルオキシ-2-メチル-3-(3,4-メチレンジオキシフェニル)プロペンとアルコールを塩基の存在下で反応させα-メチル-1,3-ベンゼンジオキソール-5-プロパナールを製造する第4工程。 - 特許庁
To avoid a problem that a yield is lowered due to cracks at a cutting surface, the littering of debris or the like in a process of cutting a base plate, in case a multiple pattern process is adopted.例文帳に追加
多面取りプロセスを採用した場合、基板を切断する工程において、切断面での欠け、破片飛散等により歩留まりを低下させてしまうという課題を回避する。 - 特許庁
A method for manufacturing a semiconductor device includes a process of manufacturing a thickened resist pattern by forming a resist pattern on a base layer and then coating the resist pattern surface with the thickening material to thicken the resist pattern and a process of patterning the base layer by etching the base layer by using the thickened resist pattern.例文帳に追加
下地層上にレジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該レジストパターンを厚肉化し厚肉化レジストパターンを製造する工程と、該厚肉化レジストパターンを用いてエッチングすることにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁
The process of enhancing the adhesive power of a thermoplastic fluoroelastomer composition to a base material and a manufacturing process of a composite material comprises the steps of: applying a partially cured dynamically vulcanized rubber of a fluoroelastomer and a thermoplastic material on a base material; and curing the partially cured dynamically vulcanized rubber while attaching to the base material.例文帳に追加
熱可塑性フルオロエラストマー組成物の基材への接着力を高める方法、及び複合品の製造方法は、フルオロエラストマーと熱可塑性材料との部分的に硬化した動的加硫ゴムを基材上に塗布する工程、及び部分的に硬化した動的加硫ゴムを基材と接触させながら硬化させる工程を含む。 - 特許庁
A mobile communication method according to the present invention includes a process in which a radio base station eNB #1 notifies a radio base station eNB #2 of a subject mobile station UE and a MDT policy, and a process in which the radio base station eNB #2 instructs the subject mobile station UE to perform a MDT based on the MDT policy.例文帳に追加
本発明に係る移動通信方法は、無線基地局eNB#1が、無線基地局eNB#2に対して、対象移動局UE及び「MDT policyを通知する工程と、無線基地局eNB#2が、対象移動局UEに対して、かかる「MDT policy」に基づいて「MDT」を行うように指示する工程とを有する。 - 特許庁
The method for forming the film includes a process (1) for fixing a reinforcing material to the surface of a base material and a process (2) for forming a film on the base material by packing/applying a solventless two-component polyurea curable resin (A) from the surface of the base material to embed the reinforcing material.例文帳に追加
基材表面に補強材を固定する工程(1)、上記基材表面から上記補強材を包埋するように無溶剤系2液ポリウレア硬化型樹脂(A)を充填塗布して、上記基材上に膜状体を形成する工程(2)を含んでいることを特徴とする膜状体の形成方法。 - 特許庁
By introducing a process of connecting the semiconductor element 1 and a base material 2 to each other, while applying acceleration to the base material 2, a connection layer 7, and the semiconductor element 1 in a direction along a connection surface between the semiconductor element and base material, a gas can be efficiently dissipated to the outside of the connection layer in the process of connection.例文帳に追加
半導体素子1と基材2との接続面に沿った方向に加速度を、基材2、接続層7および半導体素子1に対して加えながら接続を行なうという工程を導入することにより、接続の過程でガスを効率よく接続層の外部に放散することができる。 - 特許庁
This ability and attitude evaluation system is provided with a basic data preparation means for preparing a basic data base based on result evaluation data, process data on a process leading to the result, and other data and a ability and attitude calculation means for calculating personal ability and attitude based on the basic data base prepared by the basic data base preparation means.例文帳に追加
結果評価データ、結果に至るプロセスに関するプロセスデータ、その他のデータに基づいて基礎データベースを作成する基礎データベース作成手段と、基礎データベース作成手段によって作成された基礎データベースに基づいて個人の能力・態度を算出する能力・態度算出手段とを具備したもの。 - 特許庁
Alternatively, at least a process where a coating layer including a metallic layer formed by electroless plating is formed on the surface of a mold provided on a base material, and a process where a part of the coating film is removed are performed, so as to form a structure on the base material, and the base material and the structure are separated.例文帳に追加
または、少なくとも、基材上に設けられた鋳型の表面に、無電解めっきにより形成される金属層を含む被覆膜を形成する工程と、前記被覆膜の一部を除去する工程とを行うことにより前記基材上に構造体を形成し、前記基材と前記構造体とを分離する。 - 特許庁
This method is provided with a process adhering raw material solution on surfaces of the long base material 9 by dipping the long base material 9 in the raw material solution 10 for oxide superconductive body having metal organic compound dissolved in a solvent and a process removing surplus raw material solution adhering on the surfaces of the long base material 9.例文帳に追加
金属有機化合物を溶媒に溶かした酸化物超電導体の原料溶液10に長尺の基材9を浸すことにより、長尺の基材9表面に原料溶液を付着させる工程と、長尺の基材9の表面に付着した余剰の原料溶液を除去する工程とを備える。 - 特許庁
The manufacturing method of a semiconductor device having the gate insulation film comprises a base film forming process of forming the base film 1004 on a semiconductor substrate 1001, a heating process of controlling pressure and heating the semiconductor substrate on which the base film 1004 is formed in a non-oxidizing gas atmosphere, and a gate insulation film forming process of forming the high dielectric constant insulation film 1005 on the heated base film 1004.例文帳に追加
ゲート絶縁膜を有する半導体装置の製造方法において、半導体基板1001上に下地膜1004を形成する下地膜形成工程と、下地膜1004を形成した半導体基板を非酸化性のガス雰囲気中で、圧力を制御して加熱する加熱工程と、上記加熱した下地膜1004の上に高誘電率ゲート絶縁膜1005を形成するゲート絶縁膜形成工程とを備える。 - 特許庁
High adhesive strength can be obtained without applying surface treatment process such as liquid chemical treatment on metal base material by using the adhesive for adhering wet type friction material and the metal base material.例文帳に追加
この接着剤を、湿式摩擦材と金属基材の接着に用いることにより、金属基材に薬液処理等の表面処理工程を施さなくても高い接着強度が得られる。 - 特許庁
A base plate 20 made of a base material of stainless steel formed by press working is polished by an abrasive mainly composed of Fe_2O_3 in a polishing process and is deburred.例文帳に追加
プレス加工によって成形されたステンレス鋼製の母材からなるベースプレート20は、研磨工程において、Fe_2O_3を主成分とする研磨材によって研磨され、バリが除去される。 - 特許庁
The terminal control section 100 then periodically executes a peripheral base station measuring process P, controls the 1x receiving signal processing section 120a, and searches for a peripheral base station corresponding to the 1x system.例文帳に追加
そして、端末制御部100は、定期的に周辺基地局測定プロセスPを実行し、1x受信信号処理部120aを制御して、1x方式に対応する周辺基地局を探索する。 - 特許庁
The invention relates to the method for treating base for shock absorbing material comprising a process contacting the adhesive base for shock absorbing material with a gas containing fluorine gas to obtain the shock absorbing material with reduced or removed adhesion.例文帳に追加
粘着性を有する緩衝材用基材に、フッ素ガスを含有する処理ガスを接触させることにより、上記粘着性が減少ないし除去された緩衝材を得る。 - 特許庁
The function for positioning an anchor bolt is imparted to this base isolation rubber plate used when constructing the base isolation structure to simplify a process when constructing the wooden building.例文帳に追加
免震構造構築の際に使用される免震ゴム板にアンカーボルト位置決めのための機能を持たせることにより、木造建築物を構築する際の工程を簡易なものとする。 - 特許庁
This manufacturing method for the intermediate transfer belt having a base material layer comprising a polyimide film includes a process for forming the base material layer by winding spirally the polyimide film 11 onto a core 40.例文帳に追加
ポリイミドフィルムからなる基材層を有する中間転写ベルトの製造方法において、該ポリイミドフィルム11を芯40に螺旋状に巻き付けて、基材層を形成する工程を含む。 - 特許庁
In the process where the base layer 10 is formed, a silicon source 91 composed of materials including silicon, which is different from the SiC substrate 20 and the base substrate 10, is placed in the crucible 70.例文帳に追加
そして、ベース層10を形成する工程では、坩堝70内に、SiC基板20およびベース基板10とは別の、珪素を含む物質からなる珪素発生源91が配置される。 - 特許庁
To manufacture a gas diffusion layer in a simpler process yet without degrading porosity of a base material, in one having a bilayer structure of a base material made of a porous material and a microporous layer.例文帳に追加
多孔質材料からなる基材とマイクロポーラスレイヤーの2層構造を持つガス拡散層を、より簡単な処理でもって、かつ基材の多孔度を低下させることなく製造する。 - 特許庁
To provide a method for fabricating a heterojunction bipolar transistor in which parasitic base-collector capacity is reduced significantly in a base electrode lead-out region 12 without requiring any special process.例文帳に追加
特殊なプロセスを必要とせずに、ベース電極引き出し領域12の寄生のベース・コレクタ容量が大幅に低減されたヘテロ接合バイポーラトランジスタを製造する方法を提供すること。 - 特許庁
In this process, the packet data traffic is sent in parallel from the two base stations 120A and B to set up the connection between the mobile unit 140 and the base station 120B and shifted.例文帳に追加
その過程でパケットデータトラフィックは両基地局120A&Bの2局から並行伝送され、移動ユニット140と基地局120Bとの接続が確立され、移行される。 - 特許庁
Therefore, in the post-process, the base material 4 can be processed by making this clamp block 5 as a reference, and a processing can be accurately applied to the base material 4 to the shape pattern of the stamper 26.例文帳に追加
そのため、後工程において、このクランプブロック5を基準に基材4を加工でき、スタンパ26の形状パターンに対して正確に基材4に加工を施すことができる。 - 特許庁
To reduce shavings produced when a photosensitive drum base body and a holder holding it are rubbed against each other when the photosensitive drum base body is mounted in a process of manufacturing an electrophotographic photosensitive drum.例文帳に追加
電子写真用感光ドラムの製造工程において、感光ドラム基体と、これを保持する保持具とが、感光ドラム基体装着時にこすれて生じる削りくずを低減する。 - 特許庁
A first layer 42 made of ABS resin is stacked on a sheet-like cloth material 41 and a second layer 43 made of aluminum is stacked thereon to form a base material 44 in a base material forming process.例文帳に追加
基材形成工程でシート状の布材41上にABS樹脂からなる第1層42を積層し、この上にアルミ製の第2層43を積層して基材44を形成する。 - 特許庁
In a process of manufacturing a ceramic base 2 for mounting a crystal vibrator, the baked ceramic base 2 having almost entire surface metallized M is plated P with a nickel and gold on the metallized surface.例文帳に追加
水晶振動子のセラミックベース2の製造工程として、表面の略全面がメタライズMされた焼成後のセラミックベース2に対し、メタライズ表面にニッケルメッキ及び金メッキPを施す。 - 特許庁
The housing base material of the pump housing casted by lost-wax process is placed in argon atmosphere of 1200°C and 1000 atm for four hours so that the housing base material is subjected to HIP (High Isostatic Pressing) processing.例文帳に追加
ロストワックスにより鋳造されたポンプハウジングのハウジング母材を、1200℃、1000atmのアルゴン雰囲気中に4時間設置し、ハウジング母材にHIP(High Isostatic Pressing)処理を施す。 - 特許庁
Since the recess 62 can be formed using the wall part 24A as a receiving base, an extra receiving base is not required for forming the recess 62 and thereby the manufacturing process is not complicated.例文帳に追加
すなわち、壁部24Aを受け台として凹部62を形成できるので、凹部62形成の際に凹部62形成用の受け台を別途必要とせず、製造工程が複雑にならない。 - 特許庁
To stably form a coating film having a uniform film thickness at high precision on the surface of a base material web without being affected by the thickness unevenness of the base material web itself through a long time in a coating process.例文帳に追加
塗布工程で、基材ウエブ自体の厚みむらの影響を受けずに、基材ウエブ表面に長時間に渡って均一厚みの塗膜を高精度に安定形成できるようにする。 - 特許庁
The method includes a process in which an electrodeposited coating layer is formed on a base material by electrically depositing a hardenable and electrodepositable coating composition at least on a part of the base material.例文帳に追加
この方法は、基材の少なくとも一部分の上に硬化可能電着可能コーティング組成物を電着させることによって、基材上に電着コーティング層を形成する工程を包含する。 - 特許庁
At the start of the process operation, a salt soln. is supplied to the salt compartment, water to the base compartment and a soln. contg. an amino acid to the acid compartment.例文帳に追加
プロセスの運転の開始に当たっては、塩室に塩溶液、塩基室に水、酸室にアミノ酸を含む液を供給する。 - 特許庁
A controller 12 for controlling a heat treatment system according to a process recipe is connected with a data base 5 through the Internet line 3.例文帳に追加
熱処理装置をプロセスレシピによって制御する装置コントローラ12をインターネット回線3を通じてデータベース5に接続する。 - 特許庁
To produce a nonoriented silicon steel sheet which has excellent surface properties and magnetic properties by a process with the recycling of an iron source as a base.例文帳に追加
表面性状と磁気特性が優れた無方向性電磁鋼板を、鉄資源のリサイクルを基本としたプロセスで製造する。 - 特許庁
The basic element 1 of the head is attached to a supporting device 30 and grinding process and formation of score lines 21 of the face base surface 2 is performed.例文帳に追加
このヘッド素体1を支持装置30に装着し、フェース素面2の研削加工及びスコアライン21の形成を行う。 - 特許庁
To attain a display device capable of updating image data for display comprising a base image and a pointer image at a higher process rate.例文帳に追加
ベース画像と指針画像からなる表示用画像データの更新を、より高速に行うことができる表示装置を実現する。 - 特許庁
Finally the base material 10 is subjected to a baking process to form the antireflection film constituted of the high refractive index layer H and the low refractive index layer L.例文帳に追加
最後に、焼成工程を経て、高屈折率層Hおよび低屈折率層Lからなる反射防止膜とする。 - 特許庁
To process a metal film with superior dimensional accuracy without damaging a base gate insulating film by wet etching using a resist mask.例文帳に追加
レジストマスクを用いたウエットエッチングにより、下地のゲート絶縁膜にダメージを与えることなく、寸法精度良く金属膜を加工する。 - 特許庁
METHOD, COMPUTER SYSTEM, AND PROGRAM FOR CONTROLLING PORT BASE AUTHENTICATION PROTOCOL AND PROCESS FOR SUPPORTING FORWARDING OF CONNECTION INFORMATION例文帳に追加
接続情報の転送をサポートするためのポート・ベース認証プロトコルおよびプロセスの制御の方法、コンピュータ・システムおよびプログラム - 特許庁
Thereby, the degradation of the hydrogen permeation performance of the base material in the brazing process is suppressed, and the function thereof can surely be kept.例文帳に追加
これにより、ロウ付け工程における基材の水素透過性能の低下が抑制され、当該機能を確実に維持できる。 - 特許庁
In the sticking process, the base 2 is peeled off from the transfer paper 1 and at least the decorative layer 3 is stuck to the body to be transferred.例文帳に追加
貼着工程においては、転写紙1から基材2を剥離させて、少なくとも意匠層3を被転写体に貼り付ける。 - 特許庁
In the filming process, the plurality of rod lens base materials 21 need not be separated and assembled to tools, one by one.例文帳に追加
成膜工程の際に、複数のロッドレンズ母材21を分離して一つずつ治具に組み付ける作業を行なう必要がない。 - 特許庁
To process a dynamic change within a base system in which one or more aspects are woven in an aspect oriented programming environment.例文帳に追加
アスペクト指向プログラミングの環境において、1つ以上のアスペクトがウィービングされているベースシステム内の動的な変化を処理する。 - 特許庁
To obtain a film that has high transparency and most suitable as a base film for a lens sheet while suppressing minute damage generated in a machining process.例文帳に追加
加工工程で発生する微小キズを抑制し、透明性が高く、レンズシート用ベースフィルムとして最適なフィルムを得る。 - 特許庁
An inspection map is prepared by performing a defect detection process 32 to the surface of the substrate, and a data base 34a is provided.例文帳に追加
基板表面に対して欠陥検出プロセス32を行って検査マップを製作し、またデータベース34aを提供する。 - 特許庁
To provide a PET-based photographic multilayer film base having improved properties with regard to cutting, stiffness and post-process curl.例文帳に追加
切断性、剛さおよび後処理カールに関して改善された特性を有するPET系写真多層フィルム基材を提供する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|