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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > process temperatureに関連した英語例文

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process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5102



例文

Since the piston stroke speeds before and after the upper dead point are decreased, pressure drop width in a combustion chamber in the first half of an expansion process decreases and temperature drop width in the combustion chamber also decreases.例文帳に追加

上死点前後のピストンストローク速度を小さくすることで膨張行程前半の燃焼室内の圧力低下幅が小さくなり、燃焼室内の温度低下幅も小さくなる。 - 特許庁

Since the low temperature process is used, a residual stress generated in the piezoelectric sheet can be remarkably reduced when compared with the case where the external and internal electrodes are simultaneously formed.例文帳に追加

低温プロセスを使用することで、圧電シートに発生する残留応力を、外部電極を内部電極と同時に焼成する場合に比べて、大幅に低減することが可能となる。 - 特許庁

This polypropylene-based resin sheet for PTP packaging is characterized in that the propylene-based resin sheet comprises a propylene-based resin and has 0 to 4×10-4 (/°C) shrinkage factor in a temperature fall process of thermomechanical analysis.例文帳に追加

ポリプロピレン系樹脂からなり、熱機械分析の降温過程における収縮率が0〜4×10^-4(/℃)であることを特徴とするPTP包装用ポリプロピレン系樹脂シート。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyphenylene sulfide resin composition which reduces the generation of an odor in using a molded article in high temperature circumstances and reduces the deterioration of mechanical strength.例文帳に追加

成形品を高温環境下で使用する際の臭気の発生が少なく、かつ機械強度低下の少ないポリフェニレンスルフィド樹脂組成物を製造する方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a circuit board mounting an LSI and in which the thin film capacitor of larger capacity, which requires a high temperature process, is fabricated near an electrode for LSI connection.例文帳に追加

LSIを搭載するための回路基板であって、LSI接続用の電極近傍に、高温プロセスを必要とする大容量の薄膜コンデンサが作り込まれた回路基板を提供する。 - 特許庁


例文

To provide a preparation process of a highly rigid, dense epoxy resin foam having a heat insulating property and a flame retardance via foam curing at an ordinary temperature.例文帳に追加

高剛性で緻密であり、且つ、断熱性及び難燃性を有するエポキシ樹脂発泡体を、常温下での発泡硬化により得ることが可能なエポキシ樹脂発泡体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a group III nitride semiconductor substrate in which array-like cracking is reduced in the surface of a nitride epitaxial layer formed on the surface of a low temperature growth buffer layer.例文帳に追加

低温成長バッファ層上に形成される窒化物エピタキシャル層の表面において、アレイ状クラックの発生が低減されるIII族窒化物半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

An ALC plate 1 forming a lightweight cellular concrete plate is heated in a heating process 2 to adjust the water-content of the ALC plate 1 and keep the surface temperature to 40-60°C.例文帳に追加

軽量気泡コンクリート板となるALC板1を加熱工程2で加熱し、該ALC板1の含有水分を調整すると共に表面の温度を40℃〜60℃の範囲に保持する。 - 特許庁

The amount of fuel of the internal combustion engine and an injection timing of a direct injection system are controlled so as to generate a combustion process comprising a constant volume (isochoric) stage and a constant temperature (isothermal) stage.例文帳に追加

内燃機関における燃料の量および直接噴射システムの噴射タイミングを制御し、定容積(等容積)段階および定温(等温)段階から成る燃焼プロセスを発生する。 - 特許庁

例文

To provide a paste material, a hardened matter of the same and a manufacturing method therefor, without passing through high temperature firing process, with reduced energy consumption of fossil fuel, etc., and capable of lessening the burden on the environment.例文帳に追加

高温焼成工程を経ることなく、化石燃料等のエネルギ消費が少なく、環境負荷が小さい練状物質及び固化体並びにそれらの製造方法の提供。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing process which can achieve the adhesion to a substrate even if the space between an environmental barrier coating (EBC) and the substrate is exposed to an effective contact surface temperature exceeding about 1,204°C.例文帳に追加

環境障壁コーティング(EBC)と基材との間が約1204℃を超える実効接触面温度に曝される場合であっても、基材に接着できる製造プロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing an entangled polyamide in a simple and convenient manner without necessarily requiring the rigid control of temperature, the control of solubility and a solvent or the like difficult to be handled.例文帳に追加

本発明は、厳密な温度制御及び溶解度制御、取り扱いが困難な溶媒等を必須としない簡便なポリアミド絡合体の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The sample was floated in an air atmosphere of 4.5 atm, and a quench-solidification and melting process in the first example (manipulating the sample under a temperature gradient of about 700 K/sec) was repeated thrice.例文帳に追加

試料を4.5気圧の空気雰囲気中で浮遊させ、第1実施例における急冷凝固及び溶融プロセス(約700K/secの温度勾配での試料の操作)を3回繰り返した。 - 特許庁

To provide a bonded body which maintains high strength at a high temperature and has high reliability, and a method of manufacturing the bonded body by a simplified process without wet processing, and a ceramic nozzle.例文帳に追加

高温で高い強度を維持し、かつ信頼性の高い接合体とその接合体を湿潤処理のない簡便な工程で製造する製造方法並びにセラミックノズルを提供する。 - 特許庁

To provide an electric rice cooker capable of judging a rice cooking amount while gradually raising the detection temperature of an inner pot in a water absorption process, and then adjusting a heating amount according to the judged result of the rice cooking amount.例文帳に追加

吸水工程で内釜の検出温度を徐々に上昇させながら炊飯量の判定を行い、その後の加熱量を炊飯量の判定結果に応じて調整する。 - 特許庁

To provide a production method for obtaining a resin substrate, which is excellent in appearance and planarity even in a high-temperature forming process of an inorganic diaphragm.例文帳に追加

高温での無機膜の成膜工程においても、外観特性に優れ、かつ平坦性に優れた樹脂基板を得るための製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a nitride based semiconductor light-emitting element, having a process for growing an In-containing layer at a growth temperature, which is higher than a conventional manner, while suppressing peel off of indium.例文帳に追加

インジウムの脱離を抑制しつつ従来より高い成長温度でIn含有層を成長させる工程を有する、窒化物系半導体発光素子の作製方法を提供する。 - 特許庁

In the depositing process, the substrate temperature is increased to the depositing one, then a feed gas is supplied onto the substrate by the heat Chemical Vapor Deposition method for depositing (205), and then PRO treatment is performed (206).例文帳に追加

成膜工程は、基板温度を成膜温度まで昇温後、熱CVD法により基板上に原料ガスを供給して成膜処理した後(205)、RPO処理を行う(206)。 - 特許庁

The buckwheat distilled spirit is produced by adding water and yeast to malted rice, and agitating well with a paddle rod or the like in a primary brewing process, aimed at fermentation of unrefined liquor at a temperature of 25 to 30°C for 3 to 5 days to obtain a primary unrefined liquor.例文帳に追加

一次仕込において麹米に汲水及び酵母を加え櫂棒等でよく撹拌し、25〜30°Cの醪温度で3〜5日間かけて発酵を図り一次醪を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor crystal film such as a poly-Si thin film on an insulating or a flexible substrate such as a glass with the use of low temperature process of not more than the softening point (500°C) of a glass.例文帳に追加

ガラスの軟化点(500℃)以下の低温プロセスを用いて、poly-Si薄膜などの半導体結晶膜をガラスなどの絶縁性、又は、柔軟性基板上に作製する方法を提供する。 - 特許庁

In a process for cooling the molten metal, the temperature is wholly and uniformly lowered from the wall surface to the center part of the vessel without developing the latent heat with the formation of the solidified layer at the initial stage.例文帳に追加

溶融金属を冷却する工程で初期凝固層の形成による潜熱の発生なしに容器の壁面から中心部にわたって全体的に均一に温度が低下する。 - 特許庁

To provide a laminated sheet which can be smoothly molded by a deep drawing process at a high temperature and suitably used in the form of a container with good gloss and is not thermally deformed even when it is heated by an electronic oven.例文帳に追加

高温で良好な深絞り成形ができ、光沢良好で電子レンジで加熱しても熱変形することのない容器として好適に使用できる積層シートを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit, capable of suppressing the decline of the conversion gain and noise characteristics of a mixer circuit due to the process dispersion, the temperature dispersion and the power supply voltage dispersion.例文帳に追加

プロセスばらつき、温度ばらつきおよび電源電圧ばらつきによる、ミキサ回路の変換利得および雑音特性の低下を抑えることが可能な半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

To lessen the frequency of heat processing a high temperatures (over 600°C) and realize lower temperature processing (600°C or less), process simplification and throughput improvement.例文帳に追加

高温(600℃以上)の加熱処理回数を低減し、さらなる低温プロセス(600℃以下)を実現するとともに、工程簡略化及びスループットの向上を実現することを課題とする。 - 特許庁

After assembling, an excellent power generation body is obtained by eliminating the organic matter used for fixing, and bonding cells to each other, in temperature rising/power generation process steps of a fuel cell power generation system.例文帳に追加

集合化の後、燃料電池発電システムの昇温、発電過程において、固定に使用した有機物の除去とセル間の接合を行うことにより良好な発電体を得る。 - 特許庁

To provide a nonvolatile ferroelectric capacitor having a laminated perovskite ferroelectric thin film, which has superior fatigue characteristics even on a metal electrode, maintains a relatively high remanent polarization, and can be formed through a low-temperature process.例文帳に追加

積層型ペロブスカイト強誘電体薄膜を有する非揮発性強誘電体キャパシタ及びそれを備える非揮発性強誘電体メモリを提供することを目的とする。 - 特許庁

In the first cleaning process 3, the treatment liquid W1 is the nitric acid whose temperature is at 70°C or above and 150°C or below and the crushed concrete S1 is immersed in the treatment liquid W1 for 3 or more and 30 or less hours.例文帳に追加

第一の洗浄工程3では、処理液W1は70℃以上150℃以下の硝酸であり、処理液W1に粉砕物S1を3時間以上30時間以下浸す。 - 特許庁

To provide a drying method and a device for shortening manufacturing time in a process for coating a plasma display substrate with a paste and drying it, enabling low-temperature treatment, and reducing residual deposit on the substrate.例文帳に追加

プラズマディスプレイ基板上へのペースト塗付乾燥工程の製造時間短縮、低温処理化、及び、基板上の残留付着物を低減する乾燥方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In a second process, the processing object is put in a processing container and heated up to the predetermined specified in-plane temperature distribution, and normal plasma processing is carried out.例文帳に追加

載置台に第二の工程では処理容器に処理対象物を入れ、処理対象物を予め定められた特定の面内温度分布まで加熱した後、通常のプラズマ処理を行う。 - 特許庁

To provide a process reaction method of a two-phase solution of which the phase state is changed by temperature conversion, remarkably excellent in operability and production efficiency, and an apparatus for performing the same.例文帳に追加

操作性と生産効率が飛躍的に優れる温度変換により相状態が変化する二相溶液のプロセス反応方法及びこれを実施する装置を提供すること。 - 特許庁

In a process where the granular thin film 3 is formed, a high-frequency bias voltage is applied to a nonmagnetic board, and the temperature of the board is controlled so as to enable the granular thin film 3 to exhibit the required characteristics.例文帳に追加

また、このグラニュラー薄膜を成膜する工程において、非磁性基板1に高周波バイアスを印加するとともに、基板の加熱温度を調整して所要の特性を発現させる。 - 特許庁

The capturing carrier achieves both efficient capturing and simplified processing by combining the non-contact and simple process such as the mild temperature control.例文帳に追加

本発明による捕集担体は、穏和な温度制御という非接触かつ簡便な手段と組み合わせることにより、上記捕集効率と取扱簡便性の両立を達成した。 - 特許庁

To provide a ferroelectric memory device capable of preventing a reduction in reliability even when characteristics of a ferroelectic material are deteriorated because of a high-temperature process in a repeated operation or manufacturing.例文帳に追加

繰返し動作又は製造時の高温プロセス等により強誘電体材料の特性が劣化しても、信頼性が低下することを防止できる強誘電体メモリ回路を提供する。 - 特許庁

The large amount of water droplets are brought into contact with air in a process in which the water droplets are spirally lowered in the flow of the blade tip vortex Y and the downwash D to form low-temperature air as the water droplets are vaporized.例文帳に追加

多量の水滴を、翼端渦YおよびダウンウォッシュDの流れの中で旋回降下させる過程で空気に接触させ、該水滴の気化に伴い低温空気を形成する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition that can give a cured film with high resolution, having low warpage and no pattern embedment by reflow, in the process of low-temperature baking at 200°C or lower.例文帳に追加

200℃以下の低温焼成時において、低反りかつリフローによるパターン埋まりが起こらない高解像度の硬化膜を得ることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent an error which can be caused in pre-charge and read/write operation by generating a column path control signal influenced by the same PVT (process, voltage, and temperature) characteristic variation of a CMOS transistor.例文帳に追加

CMOSトランジスタのPVT特性変化に同一の影響を受けるカラム経路制御信号を生成することで、プリチャージ及びリード/ライト動作で発生しうるエラーを防止する。 - 特許庁

Also, temperature of the relief forming member 7 is notably reduced by reducing heat capacity due to empty relief forming member 7 in a water cooling process of a die 2.例文帳に追加

また、中空の肉盗み形成用部材7によって熱容量が減少することにより、金型2の水冷工程において肉盗み形成用部材7の温度を顕著に低減する。 - 特許庁

To provide a structure of a crimp terminal capable of suppressing a rise in temperature when energized by lowering contact resistance and easy to automate an assembling process.例文帳に追加

接触抵抗を低くして、通電時の温度上昇を抑えることができると共に、組み立て工程の自動化が容易である、圧着端子の構造を提供することを目的とする。 - 特許庁

At a stage (time t_1) wherein crystal growth is completed after an upper DBR layer is formed, supply of TMA, TMG and DMZ is stopped and a process temperature begins to be lowered.例文帳に追加

上部DBR層を形成したのち、結晶成長を完了した段階(時刻t_1)で、TMA、TMG、DMZの供給を停止すると共に、プロセス温度の降下を開始する。 - 特許庁

After 4-hour steaming, highly charged steam is serially discharged, the materials are transferred to a drying process to fully dry them at the same range of temperature as the preceeding one for about 12 hours.例文帳に追加

4時間にわたる蒸煮処理終了後、充満していた水蒸気などを逐次排出させて、乾燥工程に移行させ同程度の温度で約12時間十分乾燥させた。 - 特許庁

In the process for cement clinker production, cement, cement clinker or refractory brick having a melting point higher than the temperature of a liquid phase of the cement clinker and serving as crystal nuclei for alite is charged into a kiln from the kiln inlet or the front part of the kiln.例文帳に追加

セメントクリンカの液相温度より高融点で、エーライトの結晶核となる、セメント、セメントクリンカ、または耐火レンガを、キルンの窯尻または窯前から投入する。 - 特許庁

To provide a toner having high chargeability, achieving both of low temperature fixing property and heat-resistant storage property and showing superior offset resistance, and to provide an image forming apparatus, a toner container and a process cartridge using the toner.例文帳に追加

帯電性能が高く、且つ低温定着性と耐熱保管性を両立し、耐オフセット性が良好なトナーとこれを用いた画像形成装置、トナー容器、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

These compensation signals depend on the quality index of a manufacturing process and the operation temperature of P type and N type transistors of an integrated circuit and also can compensate variation from prescribed value of quantity to be controlled.例文帳に追加

これらの補償信号は、集積回路のP型及びN型トランジスターの製造プロセスの質指標と動作温度に依存し、かつ、被制御量の所望値からの偏差を補償できる。 - 特許庁

To provide a Cu alloy film for reducing resistance in a process temperature region of a wiring film of a flat display device or the like, and a sputtering target material for forming the Cu alloy film.例文帳に追加

平面表示装置等の配線膜のプロセス温度域での低抵抗化が可能であるCu合金膜とそのCu合金膜を形成するためのスパッタリングターゲット材を提供する。 - 特許庁

To solve such a problem that temperature deviation between laminates or in a laminate is large when the laminate is heated in a laminate press process of laminate molding for manufacturing a printed circuit board or the like.例文帳に追加

プリント回路基板等を製造するための、ラミネート成形の積層物プレス工程で積層物を加熱する場合、各積層物間及び積層物内の温度偏差が大きい。 - 特許庁

Therefore, without distinction of the material of electronic part and undergoing the surface treatment process, the deterioration of strength or bonding lifetime of bonding material 3 under the high temperature environment can be prevented.例文帳に追加

このため、電子部品の材料を問わず、また、表面処理工程を行わなくても、高温環境下での接合材料3における強度劣化や接合寿命の低下を防止できる。 - 特許庁

In the process, a first part 55a_1 which is one end part on the side of a cutting position Y of the resin adhesion tape piece 55a is heated at a temperature lower than that of a second part 55a_2.例文帳に追加

当該工程において、樹脂接着テープ片55aのうち切断位置Y側の一端部である第1部分55a_1を、第2部分55a_2よりも低い温度で加熱する。 - 特許庁

In a second process, the temperature of the substrate 1 is raised in vacuum, so that the natural oxide film 2 in other than the reformed mask part 3 is desorbed for substrate surface exposuse.例文帳に追加

第2工程では、真空中で前記基板1を昇温させることにより、前記改質マスク部3以外の部分の前記自然酸化膜2を脱離させて基板表面を露出させる。 - 特許庁

To provide a resin composition formable into a film in a simple process and affording a polyelectrolyte film having excellent swelling resistance of the resultant film under high-temperature and high-humidity conditions and high ionic conductivity characteristics.例文帳に追加

簡潔なプロセスで成膜でき、得られた膜が高温高湿下での耐膨潤性に優れ、高いイオン伝導特性の高分子電解質膜となる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

例文

Next, the upper circulating process is executed by operating a pump 53 and a temperature adjusting unit 63, then opening the valves 56a, 67, and 66a, and closing the valves 56b, 57, and 66b.例文帳に追加

次に、ポンプ53および温調部63を動作させつつ、バルブ56a、67、66aを開放し、バルブ56b、57、66bを閉鎖することにより、上部循環処理を実行する。 - 特許庁




  
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