「process variation」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide: a miniaturized lubricant application mechanism targeting long life by providing a means for suppressing variation of consumption of lubricant to variation of a rotation brush and the lubricant; a process cartridge; and an image forming apparatus.例文帳に追加

回転ブラシや潤滑剤のバラツキに対する潤滑剤の消費量バラツキを抑える手段を設けることにより、高寿命を目標とした小型化された潤滑剤塗布機構、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor in which both a long-term potential variation and a short-term potential variation are suppressed, and to provide a method for producing the electrophotographic photoreceptor, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus each having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

長期間の電位変動および短期間の電位変動がともに抑えられた電子写真感光体、該電子写真感光体を製造する方法、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

A region with large variation of the density around the skin is specified in a medical image, and variation of the density around the skin is eased and occurrence of false detection is restrained by executing the face correction process for the region by using the least-square method.例文帳に追加

医用画像に対し、皮膚付近の濃度変化の大きい領域を特定し、同領域に対して最小二乗法を用いた面補正処理を行うことにより、皮膚付近の濃度変化を緩和し、誤検出の発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a means by which variation of electric conductivity of a developer can be made constant independently of the amount of a photosensitive material processed so that activity of the developer is easily monitored with variation of electric conductivity as an index in a process of making a planographic printing plate.例文帳に追加

平版印刷版の製版過程において、電導度の変動を指標として現像液活性度をモニターしやすいように、感材の処理量の多寡にかかわらず、現像液の電導度の変動を一定とすることができる手段を提供する。 - 特許庁

To increase the accuracy of plant diagnosis and reduce the variation of checking or the like by making a sensor self-propelled and obtaining a number of process values in many points in order to measure the process value of facilities and areas in a plant.例文帳に追加

プラント内における設備及び地域におけるプロセス値を測定するために、センサを自走式にして、多点において多数のプロセス値を得るようにしてプラント診断の精度・確度を上げると共に点検のバラツキ等を減少させる。 - 特許庁

As a process (S4) for a simulation means, the simulation is performed by use of the net list generated in the process (S3), and a result of the circuit simulation of the relative variation considering the parallel number can be obtained even if using the function of the multiplier.例文帳に追加

シミュレーション手段の処理（Ｓ４）として、処理（Ｓ３）で生成されたネットリストを使用してシミュレーションを行い、マルチプライヤーの機能を使用しても、並列数が考慮された相対バラツキの回路シミュレーションの結果を得られる。 - 特許庁

In short etching for processing a thin film by multiple process conditions, variation in emission incident to change of process conditions is corrected by an emission data corrector thus detecting an endpoint stably.例文帳に追加

本発明は、薄膜を複数のプロセス条件で処理する短いエッチングにおいて、プロセス条件変更に伴い発生する発光変動を発光データ補正器により補正する事により、安定して終点検出が出来ることを特徴とする。 - 特許庁

In a special symbol variation process, when a parlor closing flag is issued by a parlor closing time management process (S30; Yes), a parlor closing command commanding the business closing to a putout control board 41 and a performance control board 42 (SA).例文帳に追加

特別図柄変動処理において、閉店時刻管理処理により閉店フラグが発生した場合（Ｓ３０；Ｙｅｓ）、払出制御基板４１と演出制御基板４２に閉店を指示する旨の閉店コマンドが送信される（ＳＡ）。 - 特許庁

To decrease a variation in wiring capacitance caused by a dummy pattern used for a flattening process of an LSI layout pattern, and not to degrade the extraction accuracy of a parasitic element in a design process.例文帳に追加

ＬＳＩレイアウトパターンの平坦化処理に用いるダミーパターンによって生じる配線容量変動を低減すると共に、設計工程における寄生素子抽出精度を可能な限り落とすことがないようにすることを目的とする。 - 特許庁

To accurately grasp at low cost a generating state of particles in a brush scrubbing process resulting from variation of a wafer process, with regard to a substrate for managing the particles and a managing method of generation of the particles in an electronic device manufacturing line.例文帳に追加

パーティクル管理用基板及び電子デバイス製造ラインのパーティクル発生管理方法に関し、ウェーハプロセスの変動に起因するブラシスクラブ工程におけるパーティクルの発生状況の把握を精度良く且つ低コストで行う。 - 特許庁

To provide a reflective liquid crystal display element with which a high-quality image is displayed by suppressing the variation in thickness of liquid crystal cell occurring in a packaging process and in an operating state.例文帳に追加

パッケージ工程及び動作状態で発生する液晶セルの厚み変動を抑制し、高品位の画像を表示する反射型液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

The enlargement of the cross section area increases cutting pressure, and moreover, the wave process and the wire thickness variation allows a grinding fluid to be led in and provides cutting performance as usual even with a flat wire.例文帳に追加

断面積の拡大により切断押圧力が増加し、波打ち加工又は線厚変動により研削液を引き込み扁平線でも従来同様の切断能を持つ。 - 特許庁

To provide a device and a method for morphing image processing which can reduce an interpolative calculation quantity and a process load while maintaining the larger number of control points and more variation steps.例文帳に追加

制御点の数及び変化ステップを多く保ちつつ、補間計算量が低減でき、処理負荷を小さくできるモーフィング画像処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resistance regulating device that electrically regulates, so that variation in resistance value of a diffusion layer manufactured in a semiconductor process is contained within a definite range.例文帳に追加

半導体プロセスによって製造された拡散層の抵抗値のばらつきを一定の範囲内に入るように、電気的に調整可能な抵抗調整装置を提供する。 - 特許庁

For this reason, variation in the concentration of the chemical constituent is alleviated that is generated in the process tank at one time, and the uniformity of the chemical treatment is improved within the surface of the substrate.例文帳に追加

このため、処理槽内において一度に発生する薬液成分の濃度のばらつきが緩和され、基板の面内における薬液処理の均一性が向上する。 - 特許庁

To provide a rotary tool capable of, restraining chatter caused in the process of cutting by reducing the variation of cutting resistance between an initial stage and other stages except the initial stage.例文帳に追加

初期段階と初期段階以外との切削抵抗のばらつきを低減して、切削加工中に発生するびびりを抑えることができる回転工具を提供する。 - 特許庁

The relational formula of the friction coefficient, the initial sample height/diameter ratio, and the stress variation is formed, and a friction coefficient in the compression process of the columnar sample with the arbitrary height/diameter ratio is decided.例文帳に追加

摩擦係数、初期試料高径比と応力変化の関係式を構築し、任意高径比の円柱試料圧縮過程における摩擦係数を決定する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that is provided with an input buffer where malfunction due to fluctuations in a threshold voltage of an inverter caused by process variation or the like hardly takes place.例文帳に追加

プロセスばらつきなどに起因するインバータのしきい値電圧の変動による誤動作が起こりにくい入力バッファを備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a factor analysis method capable of specifying a process item as a variation occurrence factor of a distribution of characteristic values, with respect to a product which has a spatial extent.例文帳に追加

空間的な広がりをもつ製造物について特性値の分布の変動発生要因としてプロセス項目を特定できる要因分析方法を提供すること。 - 特許庁

In addition, the CPU executes a predetermined information process based on a relative position of a gravity center position, indicated by a latest gravity center position data, with respect to the variation range detected thus.例文帳に追加

さらにＣＰＵは、こうして検出された変動範囲に対する最新の重心位置データが示す重心位置の相対位置に基づいて、所定の情報処理を行う。 - 特許庁

Accordingly, the practical resist removing velocity can be attained in the mass-production system without any problems of variation in quality and side etching of insulation film, and insufficient exposure in the lithography process.例文帳に追加

本発明によれば、絶縁膜の変質やサイドエッチ、リソグラフィー工程における露光不良の問題がなく、量産で実用的なレジスト除去速度が得られる。 - 特許庁

To reduce influence caused by dispersion in products, and to increase a variation (sensitivity) of a voltage with respect to a temperature, even in production by a CMOS semiconductor production process.例文帳に追加

ＣＭＯＳ半導体製造プロセスによって製造した場合でも、製造のバラツキの影響が小さく、かつ温度に対する電圧の変化量（感度）を大きくする。 - 特許庁

To provide a current correction circuit for a current source circuit, capable of reducing a circuit area and generating a reference current stable against temperature change and process variation.例文帳に追加

回路面積を削減し、かつ温度変化及びプロセスバラツキに対して安定な基準電流を生成できる、電流源回路のための電流補正回路を提供する。 - 特許庁

To output high-quality printed matters without deteriorating productivity by performing an optimal density correction process according to a density variation of an output image.例文帳に追加

出力画像の濃度変動量に応じた最適な濃度補正処理を行うことにより、生産性を低下させることなく高品質な印刷物を出力する。 - 特許庁

In a process vessel 2 of a plasma etching processing device 1, a probe 40 is installed for detecting a time variation of a magnetic field around a central axis of a processing space K.例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置１の処理容器２内に、処理空間Ｋの中心軸周りの磁界の時間変化量を検出するプローブ４０が取り付けられる。 - 特許庁

To provide a cover member for a press switch button which is thin, has a clear clicking feeling, and has no variation of load caused by its production process and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

薄くて明瞭なクリック感が得られ、しかも製造工程に起因する荷重バラツキが生じない押釦スイッチ用カバー部材及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a pinball machine capable of amusing a player in a symbol variation process till displaying stationary symbols, which is conventionally apt to lose the player's attention.例文帳に追加

従来、関心が失われがちであった停止図柄が表示されるまでの図柄変動過程において遊技者を楽しませることができる弾球遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a high-reliability thin film transistor with less characteristics variation wherein the offset structure or LDD structure can be formed in a simple process.例文帳に追加

簡略な工程でオフセット構造、あるいはLDD構造を形成でき、特性変動の少ない信頼性の高い薄膜トランジスタの製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To properly design LSI even if the variation in transistor dimension increases due to process miniaturization and to develop high-speed products by reducing timing margins.例文帳に追加

プロセス微細化に伴うトランジスタ寸法のばらつきがさらに増大しても、ＬＳＩの適切な設計を可能とし、タイミングマージンを削減して、高速製品の開発を可能とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit device that can control a substrate voltage of an MOSFET without causing a drain current to depend upon a temperature or a process variation.例文帳に追加

ドレイン電流が温度依存性、プロセスばらつき依存性がないようにＭＯＳＦＥＴの基板電圧を制御可能な半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁

As a process variation is caused in manufacturing processes of memory chips, IDs generated by each ID generating circuit 11 are made different on another in spite of same design.例文帳に追加

メモリチップの製造プロセスには、プロセスばらつきがあるので、各ＩＤ生成回路１１が生成するＩＤは同一の設計であっても互いに異なるものとなる。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a solid electrolytic capacitor in which small size large capacity is attained while enhancing electrostatic capacity and breakdown voltage and suppressing LC variation after reflow.例文帳に追加

静電容量の向上及び耐圧の向上と、小型大容量化及びリフロー後のＬＣ変動の抑制を可能とした固体電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate variation in evaluations without depending on a person when evaluating that development work from start to end is executed without omission in a project development process.例文帳に追加

プロジェクトの開発工程で開始から終了までの開発作業が漏れなく実行されていることを評価する際に人に依存せずにバラツキが出ない評価にする。 - 特許庁

To provide a compound memory in which redundancy relieving can be performed after package, the manufacturing cost can be reduced, and a process problem and variation of characteristics can be prevented.例文帳に追加

パッケージ後に冗長救済を行うことができ、製造コストを低減すると共にプロセス的な問題や特性の変化も防ぐことができる複合メモリを提供する。 - 特許庁

To provide a technology, for a preparation method of catalyst ink, for suppressing variation in particle size of refined grain aggregate after dispersion process.例文帳に追加

触媒インクの製造方法において、分散処理で細粒化した細粒化粒子集合体の粒径にばらつきが生じるのを抑制する技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a temperature sensor circuit capable of effecting a highly accurate temperature compensation by eliminating manufacturing process variation, a semiconductor integrated circuit and a temperature sensor circuit regulating method.例文帳に追加

製造プロセス変動の影響をなくし、高精度な温度補償が可能な温度センサ回路、半導体集積回路及び温度センサ回路の調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pulse-width control circuit and a semiconductor memory capable of appropriately controlling a pulse width depending on process dependence and variation in wiring width of a transistor.例文帳に追加

トランジスタのプロセス依存と配線幅のばらつきとに応じて適切なパルス幅に制御することが可能なパルス幅制御回路及び半導体メモリを提供すること。 - 特許庁

The detected image forming states are compared by an engine control part 36 and decision is made that a process correction is needed when the amount of variation in image quality exceeds the tolerance.例文帳に追加

エンジン制御部３６では、検出された作像状態が比較され、その画質の変化量が許容範囲を越えている場合は、プロセス補正が必要と判断される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that prevents a position shift from becoming worse even when an imaging process is repeated and precisely detects phase differences of rotating speed variation of image carriers.例文帳に追加

多数回作像工程を行っても位置ずれが悪化することを防ぎ、精度良く像担持体の回転速度変動の位相差を検知する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity and also having reduced endurance potential variation, and to provide an electrophotographic device and a process cartridge mounted with the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

高感度でかつ耐久電位変動が小さい電子写真感光体、並びに前記電子写真感光体を装着した電子写真装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

To reduce, by a simple structure, deterioration of image quality resulting from variation in emission intensity and scanning interval errors, which are caused in an electrophotographic process of a multibeam scanning system.例文帳に追加

マルチビーム走査方式の電子写真プロセスにおいて発生する、発光強度ばらつきと走査間隔誤差に起因する画質劣化を、簡単な構成で軽減する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for manufacturing a storage cell which has fast recording speed, and also a large capacity with very little characteristic degradation and characteristic variation in a semiconductor process.例文帳に追加

記録速度が非常に早く、更に、半導体プロセスにおいても特性劣化、特性バラツキの非常に少ない大容量の記憶素子を製造する製造方法を提供する。 - 特許庁

When wiring structure including the target wiring is used as a pattern, RC parameters in "a plurality of conditions" corresponding to the process variation are stored for each pattern.例文帳に追加

ターゲット配線を含む配線構造をパターンとするとき、各パターンに対して、プロセスばらつきに応じた「複数の条件」におけるＲＣパラメータが格納されている。 - 特許庁

To provide a pixel structure for an active matrix OLED which can stably and correctly supply a current to an OLED and which is not affected by the variation in manufacturing process.例文帳に追加

ＯＬＥＤに安定、かつ正確に電流を提供することができ、製造上の変動の影響を受けないアクティブマトリクスＯＬＥＤの画素構造を提供する。 - 特許庁

To provide a method for generating a fixed reference current without requiring an external test device and without being affected by variation of an internal process.例文帳に追加

本発明は、外部テスト装置を必要とせず且つ内部プロセス変化から悪影響を受けない、一定の基準電流を発生する方法を提供すること目的とする。 - 特許庁