「process variation」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To suppress influence due to environment change, deterioration, variation of disks, or the like after assembling process by reducing jitters of a signal adopting a wobble recording system.例文帳に追加

ウォブル記録方式が採用されている信号のジッタを低減し、組立工程後の環境変化や劣化、ディスクのばらつき等による影響を抑える。 - 特許庁

From the variation of the impedance value of the AC power flowing in the wafer 3, an abnormality caused by a thin film forming process is detected and a wafer temperature controller 9 is controlled.例文帳に追加

ウェハ３を流れる交流電力のインピーダンス値の変化により、薄膜形成工程に起因の異常を検出し、ウェハ温度コントローラ９を制御する。 - 特許庁

To achieve the mass production of products having higher durability with cost lower than that of a related art by manufacturing a phase shifter for controlling a phase of light by a process reduced in variation.例文帳に追加

光の位相を制御する位相シフタを、バラツキの少ない工程で製造し、従来より安価に、耐久性の高い製品を大量生産する。 - 特許庁

To provide a multilayer substrate exhibiting excellent dimensional accuracy wherein contraction in the plane direction is close to zero and variation in contraction is suppressed, and to provide its production process.例文帳に追加

寸法制度に優れ、平面方向の収縮率が０に近く、その収縮率のばらつきの小さい多層基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

On the basis of the variation distribution of process sensitivity parameters, the characteristics distribution of the semiconductor integrated circuits is extracted by mathematical analysis using a polynomial equation.例文帳に追加

プロセス感度パラメータのばらつき分布に基づいて、多項式を用いた数学的解析により半導体集積回路の特性分布を抽出する。 - 特許庁

To provide systems and methods for detecting focus variation in photolithography process using test features printed from photomask test pattern images.例文帳に追加

フォトマスクのテストパターンイメージから印刷されたテストフィーチャーを用いるフォトリソグラフィ工程における焦点変化を測定するシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

Further, the edge slope of the light beam can be varied continuously within a specific variation range, so conditions of a process can easily be found out.例文帳に追加

また、所定の可変範囲で連続的に光ビームのエッジスロープを変えることができるため、プロセス上の条件を容易に探し出すことができる。 - 特許庁

To realize a drawing method capable of suppressing the periodic variation in film thickness when matrix-shaped microregions are drawn by using an ink jet process.例文帳に追加

インクジェット法を用いてマトリクス状の微小領域を描画するにあたって、周期的な膜厚のバラツキを抑制することのできる描画方法を実現する。 - 特許庁

To provide a magnetic detection element which can reduce variation in distance between shields as compared with prior art, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

特に、従来に比べて、シールド間距離のばらつきを小さくすることが可能な磁気検出素子及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To manufacture a wafer which has little variation in resistivity and in which the occurrence of oxygen deposits is extremely suppressed even after it is allowed to pass through an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) manufacturing process.例文帳に追加

抵抗率のバラツキが小さく、かつ、ＩＧＢＴ製造プロセスを経ても酸素析出物の発生が極めて少ないウェーハの製造が可能とする。 - 特許庁

To provide a charging apparatus capable of suppressing variation of a charging current over a long period of time to prevent an abnormal image, and a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

経時に渡り帯電電流の変動を抑えて異常画像を防止することのできる帯電装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system capable of minimizing the spread of a band by composition variation caused in a process of sample collection in a liquid chromatography.例文帳に追加

液体クロマトグラフィにおけるサンプル収集の過程で生じる組成変化によるバンドの広がりを最小限に抑えることのできるシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a nonvolatile semiconductor memory in which highly reliable high integration is attained by suppressing variation in coupling ratio among cells.例文帳に追加

セルごとのカップリング比のばらつきを抑制した信頼性の高い高集積化が可能な不揮発性半導体記憶装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a multilayer ceramic electronic component in which variation in the lamination misalignment of internal electrodes is small and adjustable, and the lamination process can be simplified.例文帳に追加

内部電極の積層ズレに対しバラツキが小さく、かつ調整可能で、積層工程を簡素化できる積層セラミック電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a memory control circuit which enables stable memory access by an automatic timing control circuit even in variation in temperature, a process, or source voltage.例文帳に追加

温度、プロセス、電源電圧変動があったとしても、自動タイミング制御回路により安定したメモリアクセスが可能なメモリ制御回路を提供する。 - 特許庁

To reduce the size of a whole circuit of a variable optical buffer circuit, allow the use of simple manufacturing process and manufacturing equipment, and resolve variation in loss between paths.例文帳に追加

可変光バッファ回路の回路全体のサイズを小さくし、簡単な製造工程と製造設備を使用でき、経路間の損失のばらつきも解消する。 - 特許庁

To allow smooth attainment of a setting rotation speed by reducing the variation of turbine rotation speed in a turbine setting process after the operation of a power load unbalance circuit.例文帳に追加

パワーロードアンバランス回路の動作後のタービン整定過程におけるタービン回転数の変動を小さくし、滑らかに整定回転数に到達できるようにする。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device capable of forming a stabilized Co silicide while preventing leak and suppressing a variation in resistance, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

リークを防ぎつつ抵抗ばらつきの少ない安定したＣｏシリサイド形成が可能な半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a bias circuit for accurately adjusting the gain of an amplifier without being affected by variation in manufacturing even in a submicron process.例文帳に追加

サブミクロン・プロセスにおいても製造上のばらつきに影響されずに精度良く増幅器の利得を調整することが可能なバイアス回路を提供する。 - 特許庁

To more securely prevent the generation of a poor product by responding to a process variation.例文帳に追加

より確実に工程変動に対応して、製品不良の発生を防止することができる工程品質管理方法および工程品質管理システムを提供する。 - 特許庁

EXPOSURE METHOD FOR CORRECTING LINE WIDTH VARIATION OCCURRING DURING DEVELOPMENT PROCESS IN FABRICATION OF PHOTOMASK, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM RECORDED WITH PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

フォトマスク製造時に現像段階で生じる線幅変化を補正して露光する方法及びそのためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

The detection is performed based on a detection of an impedance variation, which is produced when the process electrode moves through a measurement region, of the measurement region.例文帳に追加

検出は、加工電極が測定領域（３）を経て移動するときに生じる測定領域のインピーダンスの変化の検出に基づいて行われる。 - 特許庁

To provide a negative voltage detection circuit which is hardly affected by temperature variation and variations in manufacturing process and can detect negative voltages with higher precision.例文帳に追加

温度変動や製造プロセスのバラツキの影響を受け難く、より精度の高い負電圧検知を実現できる負電圧検知回路を提供する。 - 特許庁

To provide a heat processing furnace reducing the film thickness variation of a film formed on a semiconductor substrate and suppressing the deviation of the flow of process gas.例文帳に追加

プロセスガスが偏って流れることを抑え、半導体基板上に形成される膜の膜厚バラツキを低減することが可能な熱処理炉を提供する。 - 特許庁

The method for producing the fiber bundle performs at least a process for mixing a plurality of single fibers having a fineness variation coefficient of 10 to 40%.例文帳に追加

又、少なくとも、繊度の変動係数が１０〜４０％である複数の単繊維を混合する工程を行う繊維束の製造方法である。 - 特許庁

To provide a spent nuclear fuel reprocessing technology which allows real-time high-precision measurement of weight variation of electrodes in a electrolysis process.例文帳に追加

電解プロセスにおける電極の重量変動を、リアルタイムで高精度に計測することができる使用済核燃料の再処理技術を提供する。 - 特許庁

To enhance power generation efficiency of a fuel cell in a simple process and simple constitution without being affected by variation of atmospheric pressure.例文帳に追加

周囲圧力の変動に影響されることがなく、簡単な工程及び構成で、燃料電池の発電効率を良好に向上させることを可能にする。 - 特許庁

To provide a polishing pad which is hardly be clogged and has a small variation in polishing performance in polishing processes, particularly in a CMP process.例文帳に追加

研磨分野、その中でも特にＣＭＰプロセスにおいて、目詰まりしにくく、かつ研磨性能ばらつきの小さい研磨パッドを提供することである。 - 特許庁

To provide a magnetic head slider and a head suspension assembly, wherein process variation of a magnetic head slider and attachment variation when a magnetic head slider is mounted on a head suspension are corrected, and preferable floating attitude and floating quantity can be obtained.例文帳に追加

磁気ヘッドスライダーの加工ばらつきや、磁気ヘッドスライダーをヘッドサスペンションに搭載する際の取り付けばらつき等を補正し、好適な浮上姿勢及び浮上量を得ることが可能な磁気ヘッドスライダー及びヘッドサスペンションアセンブリを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device in which operation margin of a sense amplifier can be improved by canceling variation of a manufacturing process of threshold voltage of a MOS transistor and property variation of a single-ended sense amplifier due to temperature dependency.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の製造プロセスの変動や温度依存性によるシングルエンドセンスアンプの特性変動をキャンセルすることができ、以って、センスアンプの動作マージンを向上させることができる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

This selection method has a first process for setting the number N of polymorphism portions of the variation set in a range satisfying (N_H-1)≤2^N-1 to the kind N_H of the "haplotype" to be identified, and selecting a plurality of "variation set" candidates allowing the identification between the "haplotypes".例文帳に追加

識別すべき「ハプロタイプ」の種類Ｎ_Hに対して、変異セットの多型部位数Ｎを（Ｎ_H−１）≦２^N-1を満たす範囲に設定し、「ハプロタイプ」相互の識別が可能な「変異セット」候補を複数選別する第１の工程を具えている。 - 特許庁

When a mode changing switch 39 is turned on (S1:Yes), the probability of determination is increased by a mode changing process (S4) if the game state is the probability variation state or a time shortening state, and the variation time is shortened so that a jackpot can be easily made.例文帳に追加

モード切換スイッチ３９がオンされたとき（Ｓ１：ＹＥＳ）、確変状態又は時短状態ならモード変更処理（Ｓ４）により、判定確率が高められ、変動時間が短縮されるから、大当たりが発生しやすくなる。 - 特許庁

A peculiar stress-strain curve of a material in an assumed simulation process is assumed to be constant to allow the variation of the stress by the friction to be easily examined, and the variation of the stress is calculated by comparison with the stress effected by the friction.例文帳に追加

摩擦による応力の変化を調べやすくするために、想定したシミュレーション過程における材料の固有応力—ひずみ曲線は一定であり、応力の変化は摩擦を受けた応力と比較してから計算されている。 - 特許庁

(2) In the method for exposing the photoresist in the semiconductor device manufacturing process using the exposing device, the variation of the best focus position during exposure is found and exposure is performed by drawing the optimum focus position at every exposure unit based on the found variation.例文帳に追加

半導体装置製造工程においてフォトレジストを露光する露光方法及び装置で、露光中のベストフォーカス位置の変動を求めて、これに基づいて露光単位毎に最適なフォーカス位置を導いて露光を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor single crystal pulling process which manufactures a high quality semiconductor single crystal by decreasing the diameter variation of the semiconductor single crystal, controlling the variation of the pulling rate that is the manipulated variable of the diameter control and pulling the semiconductor single crystal as set.例文帳に追加

半導体単結晶の直径変動を低減し、その直径制御の操作量である引上げ速度の変動を抑制し、設定通りの半導体単結晶を引上げて、高品質な半導体単結晶を製造する。 - 特許庁

The method may also include altering at least one parameter of a process module (36) configured to perform a step of the lithography process to reduce within wafer variation of the critical metric (46).例文帳に追加

本方法はまた、リソグラフィ・プロセスのステップを実行するように構成されたプロセス・モジュール（３６）の少なくとも１つのパラメータを変更し、クリティカルな測定基準（４６）のウェハ内変動を低減することを含むことができる。 - 特許庁

To provide etching liquid capable of reducing variation in etching rate in the (211) face orientation of a silicon substrate at the time of wet etching the silicon substrate, and to provide its production process and a manufacturing process of a liquid ejection head.例文帳に追加

シリコン基板をウェットエッチングする際に、シリコン基板の（２１１）面方位のエッチングレートのばらつきを低減することができるエッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide etching liquid capable of reducing variation in etching rate in the (100) face orientation of a silicon substrate at the time of wet etching the silicon substrate, and to provide its production process and a manufacturing process of a liquid ejection head.例文帳に追加

シリコン基板をウェットエッチングする際に、シリコン基板の（１００）面方位のエッチングレートのばらつきを低減することができるエッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

After a search process at current search temperature ends, a temperature update means 107 lowers the search temperature and the search process is repeated until the time when the cost for the arrangement data does not show variation.例文帳に追加

現在の探索温度における探索プロセスを終了後温度更新手段107で、探索温度を減少させて探索プロセスを繰り返し、配置データのコストに変動がなくなったときに探索プロセスを終了する。 - 特許庁

Consequently, when there is a variation or fluctuation in moving process because of shutter mechanism individual difference or secular change, it is possible to reset the exposure of the image sensor at a timing depending on the shutter moving process for each camera.例文帳に追加

これにより、シャッター機構の個体差や経年変化により走行の仕方にバラツキや変化がある場合に、カメラ毎のシャッター走行の仕方に応じたタイミングでイメージセンサーの露光量をリセットすることができる。 - 特許庁

Thus, when variation start and the start winning are detected in one timer interruption process while the Pachinko game machine 10 is in the high probability state, the jackpot drawing accompanying the variation start and the start permission determination of the continuation notice performance accompanying the start winning are completed before the start of the next timer interruption process.例文帳に追加

これにより、パチンコ機１０が高確率状態にある中で、一のタイマ割込処理で変動開始と始動入賞とが検出された場合に、変動開始に伴う大当たり抽選と始動入賞に伴う連続予告演出の開始許可判定とを、次のタイマ割込処理の開始までに完了させることができる。 - 特許庁

To obtain a process for producing a semiconductor product in which variation in the pattern dimensions incident to resist regeneration processing can be reduced, finishing dimensions of a transfer pattern can be brought close to target dimensions in a lithography process, and dimensional variation of semiconductor devices is suppressed between lots or within a lot in production.例文帳に追加

半導体製品の製造方法に関し、レジスト再生処理を経ることで生じるパターン寸法変動の低減を可能にし、リソグラフィ工程に於ける転写パターンの完成寸法を本来の目的寸法に近付け，また、ロット間或いはロット内に於ける半導体装置毎の寸法ばらつきを小さくする。 - 特許庁

This design support device 100 has a design pattern data input part 810, a process variation input part 820, a materialization value generation part 854 of process variation, a minimum interval calculation part 855, a cumulative distribution function decision part 856 of a dielectric breakdown time, and a materialization value generation part 857 of the dielectric breakdown time.例文帳に追加

設計支援装置１００は、設計パターンデータ入力部８１０と、工程ばらつき入力部８２０と、工程ばらつきの実現値生成部８５４と、最小間隔算出部８５５と、絶縁破壊時間の累積分布関数確定部８５６と、絶縁破壊時間の実現値生成部８５７とを備えている。 - 特許庁

To provide a game machine increasing synergetic effect by execution of variation display presentation executed on a variation display device and independent presentation executed in a manner independent of the presentation process of the variation display presentation, and making a player aggressively participate in execution of the presentation for increased game excitement.例文帳に追加

変動表示装置において実行される変動表示演出と、該変動表示演出の演出過程とは独立した態様で実行される独立演出との実行による相乗効果を高めるとともに、演出の実行に遊技者を積極的に参加させることで遊技の興趣を向上させる。 - 特許庁

When starting the jackpot game, the main CPU, in a subsequent interrupt handling, interrupts to count variation times in the process of the special symbols 1 and the process of the special symbols 2 while executes the process during varying the special symbols even in the interruption.例文帳に追加

そして、メインＣＰＵは、大当り遊技を開始させた場合に、以降のタイマ割込み処理では特別図柄１処理と、前記特別図柄２処理において変動時間のカウントを中断させる一方で、当該中断中であっても特別図柄変動中処理は実行させる。 - 特許庁