「process variation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In the performance controller, a performance control part 202 executes symbol processing before executing a variation start sound selecting process.例文帳に追加

演出制御部２０２は、図柄処理を実行後、変動開始音選択処理を実行する。 - 特許庁

The influence coefficient obtained at a first variation tracing process is referred to as an initial influence coefficient (S1).例文帳に追加

最初の変動追跡処理で取得した影響係数を初期影響係数とする（Ｓ１）。 - 特許庁

To provide a power semiconductor device having reduced degradation of withstand voltage to variation in process.例文帳に追加

プロセス上のばらつきに対する耐圧の低下が小さい電力用半導体素子を提供する。 - 特許庁

To reduce a contraction factor and the variation of the contraction factor in a heat press process.例文帳に追加

加熱プレス工程における収縮率を低減させ、また収縮率のバラツキをも低減させる。 - 特許庁

To reduce variation of the output slew rate due to process variations in an output buffer circuit.例文帳に追加

出力バッファ回路において、プロセスバラツキに起因する出力スルーレートの変動を低減する。 - 特許庁

Dr. Shewhart developed the control charts as an statistical approach to the study of manufacturing process variation. 例文帳に追加

Shewhart博士は管理図を製造工程の変動を研究する統計的アプローチとして開発した。 - コンピューター用語辞典

To reduce the variation of a device characteristic before and after a packaging process in a semiconductor device resin-sealed in a wafer level through rewiring layer formation process, metal post formation process and resin sealing process.例文帳に追加

再配線層形成工程、メタルポスト形成工程及び樹脂封止工程を経てウェハレベルで樹脂封止される半導体装置について、パッケージング工程の前後での素子の特性変動を低減させる。 - 特許庁

The fourth creation part 114 creates second correction information using post-process information indicating variation of processing dimension in a post-process.例文帳に追加

第４作成部１１４は、後工程の加工寸法のばらつきを示す後工程情報を用いて、第２補正情報を作成する。 - 特許庁

The printer 10 corrects an input image with referring to the generated composite correcting table, thereby executing the aging variation correcting process and the spatial variation correcting process at a more high speed.例文帳に追加

プリンタ装置１０は、生成された合成補正テーブルを参照して、入力画像を補正することにより、経時的変動補正処理及び空間的変動補正処理をより高速に行うことができる。 - 特許庁

To provide a constant current circuit of which variation in the output current is minimized even when a drain current at zero bias in a depression type MOS transistor fluctuates greatly due to a process variation in a manufacturing process, etc.例文帳に追加

製造工程のプロセス変動等で、ディプレッション型のＭＯＳトランジスタにおける０バイアス時のドレイン電流が大きくばらついても出力電流の変動が小さい定電流回路を得る。 - 特許庁

Only one term of an expression for a time constant which is influenced by process variation is two resistances, which is uniformly influenced by arbitrary process variation to maintain their ratio.例文帳に追加

処理変動によって影響される時定数に対する式における唯一の項は２個の抵抗であり、それらは割合を維持するために任意の処理変動によって一様に影響される。 - 特許庁

To provide a method for diagnosing the lifetime of a semiconductor manufacturing device insusceptible to the variation of process conditions pertaining to semiconductor manufacturing, variation of power supply, or difference between machines.例文帳に追加

半導体製造に係るプロセス条件の変動、電源変動や機差に影響されない半導体製造装置の寿命診断方法を提供する。 - 特許庁

When the shortening of the variation time is decided, a process executable for a shortened variation time is made available for the performance display.例文帳に追加

そして、変動時間を短縮することが判別されたときには、複数の過程のうち、短縮された変動時間にて実行可能な過程を演出表示する。 - 特許庁

Pattern line width variation quantity occurring in a development process with respect to a desirable pattern is estimated and a corrective exposure is performed using a dose or bias corresponding to the estimated pattern line width variation.例文帳に追加

所望のパターンに対して現像段階で生じるパターン線幅変化量を予測してこれに相応するドーズ、またはバイアスで補正露光する。 - 特許庁

To solve the problem that a stripe-like luminance variation due to a crystallizing process cannot be corrected when the entire screen is uniformly subjected to the correction of variation in light emission characteristics.例文帳に追加

画面全体に対して一律に補正を行うようにすると、結晶化プロセスに起因するスジ状の輝度ばらつきを補正することはできない。 - 特許庁

To provide a reference voltage generation circuit having small dependence on process variation or a temperature change, capable of generating a reference voltage having small variation.例文帳に追加

プロセスばらつきや温度変化に対して依存性が小さく、ばらつきが小さい基準電圧を発生できる基準電圧発生回路を提供する。 - 特許庁

A variation pattern specification command is generated by a variation pattern determination process (S32) on the basis of a game condition (namely the value of a command pointer), a higher bite table of the variation pattern specification command and the value of a search pointer.例文帳に追加

変動パターン指定コマンドは、遊技状態（即ちコマンドポインタの値）と、変動パターン指定コマンド上位バイトテーブルと、検索ポインタの値とに基づいて、変動パターン決定処理（Ｓ３２）により生成される。 - 特許庁

For example, when the variation pattern determined is the normal ready for win variation, a CPU 101 for display control controls the drive of the stepping motor based on the data set in a process table corresponding to the variation pattern.例文帳に追加

決定された変動パターンが例えばノーマルリーチ変動である場合、表示制御用ＣＰＵ１０１は、変動パターンに応じたプロセステーブルに設定されたデータにもとづいて、ステッピングモータの駆動制御する。 - 特許庁

A variation pattern designation command is produced by a variation pattern determination process (S32) based on a game state (that is, a value of command pointer), a variation pattern designation command upper byte table, and a value of retrieval pointer.例文帳に追加

変動パターン指定コマンドは、遊技状態（即ちコマンドポインタの値）と、変動パターン指定コマンド上位バイトテーブルと、検索ポインタの値とに基づいて、変動パターン決定処理（Ｓ３２）により生成される。 - 特許庁

The game machine also has a variation control means for executing prescribed variation control related to the variation command symbol if the display mode becomes a prescribed combination mode including the variation command symbol in the process of extracting a result of the variable display game.例文帳に追加

可変表示遊技の結果が出る過程において、変動指示図柄を含む所定の組合せ態様の表示状態になった場合に、当該変動指示図柄に関連して所定の変動制御を行う変動制御手段を備えた。 - 特許庁

Even if variation of a disadvantageous special symbol is performed, when the game ball enters the start pocket related to the advantageous special symbol in the process of variation, the variation of the disadvantageous special symbol is suspended and the variation of the advantageous special symbol is started.例文帳に追加

不利となる特別図柄の変動が実施された場合でも、該変動中に有利となる特別図柄に係る始動口に遊技球が入球した場合、不利となる特別図柄の変動を中断し有利となる特別図柄の変動を開始する。 - 特許庁

To precisely make a decision without any misdecision even if a machining process measuring signal varies large and still has variation even after being averaged by predicting a machining process end point by extrapolation from a way of variation of the mean gradient of averaged data in a specific cycle of a machining process measuring signal.例文帳に追加

加工プロセス計測信号の変動が大きくて平均化しても変動が残るような場合でも、誤判定することなく精度良く加工プロセス終了点の判定ができる加工プロセス終了点実時間判定方法を提供する。 - 特許庁

The image database device comprises an image sectioning process means 101, a variation feature extracting means 103, and a registration and retrieval process means 105.例文帳に追加

画像データベース装置は、画像区切処理手段１０１と、変化特徴抽出手段１０３と、登録・検索処理手段１０５とからなる。 - 特許庁

To provide a lithography process evaluating method by which a dimensional variation factor depending on a mask covering ratio in a lithography process is accurately evaluated.例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおけるマスク被覆率に依存する寸法変動要因を正確に評価可能なリソグラフィプロセス評価方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the deviation of the optical axis of a collimator due to variation in the volume of solder material, which occurs in the solidification process of solder.例文帳に追加

半田凝固時の半田材の体積変化に起因したコリメータの光軸ずれを抑制する。 - 特許庁

To efficiently decide a wiring structure of a semiconductor integrated circuit, in consideration of the variation of the process parameters.例文帳に追加

プロセスパラメータの変動を考慮して、効率的に半導体集積回路の配線構造を決定する。 - 特許庁

To improve interest by changing a process of deriving the result of a symbol variation game.例文帳に追加

図柄変動ゲームの結果を導出する迄の過程に変化を持たせることで、興趣の向上を図ること。 - 特許庁

To provide a current mirror circuit that ensures a wide output voltage range even upon a process variation.例文帳に追加

プロセス変動があった場合でも広い出力電圧範囲が得られるカレントミラー回路を提供する。 - 特許庁

Each materialization value of the process variation and the dielectric breakdown time is generated by a Monte Carlo method.例文帳に追加

工程ばらつきおよび絶縁破壊時間のそれぞれの実現値はモンテカルロ法により生成される。 - 特許庁

To reduce a change of a torsion spring constant of a torsion spring to working variation of a semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスによる加工ばらつきに対するねじりバネのねじりバネ定数の変化を小さくする。 - 特許庁

To provide a diode exhibiting resistance to process variation, and to provide a diode connection thin film transistor (TFT).例文帳に追加

プロセス変動に耐性を有するダイオード及びダイオード接続薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を提供する。 - 特許庁

To solve the following problem: variation in a production process is generated in a transistor of a band gap reference circuit.例文帳に追加

バンドギャップレファレンス回路に備えられているトランジスタには製造プロセス上のバラツキが生じている。 - 特許庁

To provide a method to mitigate resist pattern critical dimension variation in a double-exposure process.例文帳に追加

二重露光プロセスにおけるレジスト・パターンの限界寸法（ＣＤ）変動を緩和する方法を提供すること。 - 特許庁

Even upon a process variation, the saturation margin Vdsm_Q5 of the transistor Q5 thus remains unchanged.例文帳に追加

したがって、プロセス変動があった場合でも、トランジスタＱ５の飽和マージンＶｄｓｍ＿Ｑ５は変化しない。 - 特許庁

To provide a method for designing a semiconductor integrated circuit in the consideration of a variation in a logic composition process.例文帳に追加

論理合成工程においてバラツキを考慮した半導体集積回路の設計方法を提供する。 - 特許庁

To provide a structure having no variation in a process to form a semiconductor device using a laser beam.例文帳に追加

レーザー光を用いた半導体装置の作製工程において、バラツキのでない構成を提供する。 - 特許庁

To detect the variation of a gene expression level in the developmental process of zebrafish caused by various factors.例文帳に追加

様々な要因に起因するゼブラフィッシュの発生過程における遺伝子発現レベルの変化を検出する - 特許庁

As the operation environment, temperature, delay of a circuit element accompanying process variation and a source voltage, etc. are observed.例文帳に追加

動作環境として、温度、プロセス変動に伴う回路素子の遅延、電源電圧等を観測する。 - 特許庁

When a reservation and storage count has reached a prescribed value [3] before a variation pattern decision process starts, the performance time of a losing symbol variation game is shortened (to 7,000 ms or 3,000 ms) on the basis of a variation pattern P13 or a variation pattern P14.例文帳に追加

保留記憶数が変動パターン決定処理開始前において所定値「３」に達しているときには、変動パターンＰ１３又は変動パターンＰ１４に基づき、はずれとなる図柄変動ゲームの演出時間を短く（７０００ｍｓ又は３０００ｍｓに）した。 - 特許庁

As a process (S2) for a relative variation generator insertion means, insertion of a relative variation generator generating the relative variation considering a parallel number is designated to an element desired to be designated with the relative variation among elements of the prepared circuit diagram by a property of the symbol.例文帳に追加

作成された回路図の素子の中で、相対バラツキを指定したい素子に、相対バラツキ発生装置挿入手段の処理（Ｓ２）として、並列数を考慮した相対バラツキを発生する相対バラツキ発生装置の挿入をシンボルのプロパティで指定する。 - 特許庁

To solve the problem that a transistor suffers the variation caused in threshold voltage or mobility due to gathering of the factors of the variation in gate insulator film resulting from a difference in manufacture process or substrate used and of the variation in channel-region crystal state.例文帳に追加

トランジスタは作製工程や使用する基板の相違によって生じるゲート絶縁膜のバラツキや、チャネル形成領域の結晶状態のバラツキの要因が重なって、しきい値電圧や移動度にバラツキが生じる。 - 特許庁

In a Pachinko game machine of a mode, a plurality of variation patterns with a determined variation process from the start to the stop of a variation in a variation display of symbols are assigned to prescribed lottery values, and a plurality of pattern determining tables having different probabilities of selecting corresponding variation patterns are provided.例文帳に追加

ある態様のぱちんこ遊技機においては、図柄の変動表示における変動開始から停止までの変動過程が定められた複数の変動パターンが所定の抽選値に割り当てられるとともに、対応する変動パターンの選択確率が異なる複数のパターン決定テーブルが設けられている。 - 特許庁

To keep the throughput of substrates from lowering due to the process time variation of a previous process, in a substrate treating apparatus for treating substrates received every fixed cycle time.例文帳に追加

一定のサイクル時間ごとに基板を受け入れて処理する基板処理装置において、前工程の処理時間のばらつきによるスループットの低下を抑える。 - 特許庁

To obtain a semiconductor processing process control system which can deal with variation in the processing process, calculating method of control variables, and processing apparatus flexibly and quickly.例文帳に追加

処理工程、制御変数の計算法、処理装置の変化に柔軟かつ迅速に対応できる半導体処理工程制御システムを提供する - 特許庁

To provide a semiconductor process control device, which realizes a stable semiconductor process, by a method wherein a cause of variation in a device structure is detected before the device is manufactured in pilot modeling.例文帳に追加

デバイス構造変動原因を試作を行う前に検知し、安定した半導体プロセスを実現する半導体プロセス制御装置を提供する。 - 特許庁