「process variation」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The gas turbine compressor diagnosis portion 15 calculates a compressor efficiency η based on the detection process data, and also calculates a variation Δη of the compressor efficiency η.例文帳に追加

ガスタービン圧縮機診断部１５は、これらの検出プロセスデータに基づき圧縮機効率ηを演算し、さらにこの圧縮機効率ηの変化量Δηを演算する。 - 特許庁

To inhibit appearance of a stripe pattern due to variation in irradiation energy density of a laser beam in a process for forming an active matrix region using a linear laser beam.例文帳に追加

線状のレーザー光を用いたアクティブマトリクス領域の形成工程において、レーザー光のビーム内照射エネルギー密度のバラツキによる縞模様表示を抑制する。 - 特許庁

To provide a Pachinko game machine amusing a player in a symbol variation process till displaying a stationary symbol which is apt to lose the player's attention conventionally.例文帳に追加

従来、関心が失われがちであった停止図柄が表示されるまでの図柄変動過程において、遊技者を楽しませることができる弾球遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering system by which the temperature of a chimney in the process of operation is fixed to set degassing quantity, and film deposition free from the variation in film thickness is possible and to provide a film deposition method.例文帳に追加

稼働中のチムニーの温度を一定にしてデガス量を一定とし、膜厚の変動のない成膜が可能なスパッタリング装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

To tune a PID controller without supplying a signal for identification to a controlled system in an integral process wherein a controlled variable has cyclic variation.例文帳に追加

制御量が周期的な変動を呈している積分プロセスにおいて、制御対象に同定用信号を与えることなく、ＰＩＤ制御器のチューニングを可能とする。 - 特許庁

To provide a method for producing (meth)acrylic acid by a catalytic vapor phase oxidation reaction while stably operating the process irrespective of e.g. the variation of atmospheric conditions.例文帳に追加

接触気相酸化反応による（メタ）アクリル酸の製造工程において、大気条件の変化等に拘わらずプロセスを安定稼働できる方法を提供する。 - 特許庁

A CPU 56 executes, in a common processing routine (special symbol processing): a process from the start of variation of a first special symbol based on winning into a first start pocket 13 to the stop of a stopping symbol; and a process from the start of variation of a second special symbol based on winning into a second start pocket 14 to the stop of a stopping symbol.例文帳に追加

ＣＰＵ５６が、第１始動入賞口１３への入賞にもとづく第１特別図柄の変動開始から停止図柄の停止までの処理と第２始動入賞口１４への入賞にもとづく第２特別図柄の変動開始から停止図柄を停止するまでの処理とを共通の処理ルーチン（特別図柄プロセス処理）で実行する。 - 特許庁

For the variable display executed in a first special symbol display and in a second special symbol display, a variation pattern is selected and the display result is determined by executing a process for selecting the variation pattern in a variable display means where a condition for starting is satisfied based on common process routines (S71-S74).例文帳に追加

第１特別図柄表示器および第２特別図柄表示器のそれぞれで実行される変動表示について、開始条件が成立した変動表示手段における変動パターンを選択するための処理を共通の処理ルーチン（Ｓ７１〜Ｓ７４）により実行することにより、変動パターンが選択され表示結果を決定する。 - 特許庁

The method for uniformizing the ion implantation process includes a step of measuring the critical dimension (CD) variation in the semiconductor wafer, a step of moving the semiconductor wafer to the ion implantation process in a secondary mode, and a step of controlling the moving speed of the semiconductor wafer so that an implantation dose quantity to the semiconductor wafer is changed on the basis of the variation of the CD.例文帳に追加

半導体ウエハの限界寸法（CD）の変動を測定するステップ、イオン注入プロセス中に２次元モードで前記半導体ウエハを移動するステップ、及び、前記半導体ウエハへの注入ドーズ量は前記CDの変動に基づいて変化されるように前記半導体ウエハの移動速度を制御するステップを含むイオン注入均一のための方法。 - 特許庁

A drive waveform being applied to a piezoelectric actuator 7 has a first voltage variation process 51 for expanding the volume of a pressure generating chamber 1 to pull a meniscus 9 at the nozzle part to the pressure generating chamber 1 side, and a second voltage variation process 52 for expanding the volume of the pressure generating chamber 1 to eject a liquid drop 8.例文帳に追加

圧電アクチュエータ７に印加される駆動波形は、圧力発生室１の体積を膨張させてノズル部のメニスカス９を圧力発生室１側に引き込むための第１電圧変化プロセス５１と、次いで圧力発生室１の体積を収縮させて液滴８を吐出させるための第２電圧変化プロセス５２とを有する。 - 特許庁

To provide a laser joining method of resin members which can rapidly implement laser joining by preventing the production of product failure such as the decomposition or carbonization of the resin member even when process variation such as laser output variation or condensing light density variation is produced when the laser joining of the resin members is performed through a light absorber, and the laser joined body of the resin members.例文帳に追加

光吸収剤を介して樹脂部材のレーザー接合を行う際に、レーザー出力変動や集光密度変動といったプロセス変動が生じた際にも、樹脂部材の分解や炭化といった製品不良の発生を防止し、速やかにレーザー接合を実施しうる樹脂部材のレーザー接合方法、及び樹脂部材のレーザー接合体を提供する。 - 特許庁

A channel variation determining unit 206 seeks magnitude of channel variation, by seeking correlation value between a channel infer result inferred in a process one time ago and a present-channel infer result, and determines whether SDM communication accompanied by directivity control according to the magnitude of channel variation or SDM communication, without directivity control is to be carried out.例文帳に追加

チャネル変動判定部２０６は、一回前の処理で推定したチャネル推定結果と現在推定したチャネル推定結果との相関値を求めて、チャネルの変動の大きさを求め、チャネルの変動の大きさから指向性制御を伴うＳＤＭ通信を行う、または指向性制御を行わないＳＤＭ通信を行う、のいずれとするか判断する。 - 特許庁

The main CPU 112 refers a variation pattern of a special symbol determined by a special symbol process (S82), determines a sound control command corresponding to the variation pattern from a table constituted by corresponding a variation pattern with a sound control command (S84), outputs the sound control command (S86), and outputs a transfer signal (S88).例文帳に追加

メインＣＰＵ１１２は特別図柄処理で決定した特別図柄の変動パターンを参照し（Ｓ８２）、変動パターンと音声制御コマンドとを対応付けて構成されるテーブルから上記変動パターンに対応付けられている音声制御コマンドを決定し（Ｓ８４）、その音声制御コマンドを出力し（Ｓ８６）、転送信号を出力する（Ｓ８８）。 - 特許庁

The main CPU 112 refers a variation pattern of a special symbol determined by a special symbol process (S92), determines a lamp control command corresponded to the variation pattern from a table constituted by corresponding a variation pattern with a lamp control command (S94), outputs the lamp control command (S96), and outputs a transfer signal (S98).例文帳に追加

メインＣＰＵ１１２は特別図柄処理で決定した特別図柄の変動パターンを参照し（Ｓ９２）、変動パターンとランプ制御コマンドとを対応付けて構成されるテーブルから上記変動パターンに対応付けられているランプ制御コマンドを決定し（Ｓ９４）、そのランプ制御コマンドを出力し（Ｓ９６）、転送信号を出力する（Ｓ９８）。 - 特許庁

To provide an image forming device by which a good image can be obtained by carrying out setting of the most appropriate process condition such as transfer bias according to variation in environment or variation in resistance value of a member such as deterioration of durability even when forming an image at high speed.例文帳に追加

高速の画像形成時にも環境変動や耐久劣化等の部材抵抗値の変動に対応して、転写バイアス等の最適なプロセス条件の設定を行って良好な画像を得ることを可能とした画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Accordingly, when the symbol variation game is executed based on the variation pattern for the missing presentation or for the missing ready-to-win presentation, the player can be made to have the expectancy for the start of the respective special modes and to have interest in the process of execution of the respective special modes.例文帳に追加

このため、はずれ演出用及びはずれリーチ演出用の変動パターンに基づく図柄変動ゲームが実行される場合、各特殊モードの開始に対して期待を遊技者に抱かせて各特殊モードが実行される過程に関心を抱かせることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an acoustic wave element on which a film for temperature compensation for suppressing variation of characteristics by temperature variation is formed, by which the film for temperature compensation is easily formed without causing complicatedness in a manufacturing process so much, and which can be miniaturized.例文帳に追加

温度変化による特性の変化を抑制する温度補償用膜が形成されており、製造工程の煩雑さをさほど招くことなく温度補償用膜を容易に形成でき、かつ小型化を図ることが可能な弾性波素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing system in which an advanced control can be dealt with by solving the problems of the variation in the characteristics of the system (difference of system) and the error or variation of control signal and monitor signal, and completely identical process performance can be obtained in a plurality of systems of identical design.例文帳に追加

装置の特性のばらつき（機差）や制御信号、モニタ信号の誤差やばらつきの問題を解決し、高度な制御に対応するとともに、全く同じプロセス性能を複数の同じ設計の装置で得ることが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

For example, in an initial setting process at starting, the HDD measures the clearances at an inner-periphery side radius position and an outer-periphery side radius position and identifies clearance variation caused by an air pressure variation and caused by an extraneous matter based on the measured value of the clearances.例文帳に追加

例えば、ＨＤＤは、起動時の初期設定処理において、内周側半径位置と外周側半経位置においてクリアランス測定を行い、クリアランス測定値から、気圧変化によるクリアランス変化と付着物によるクリアランス変化とを特定する。 - 特許庁

When the image forming characteristic fluctuated in a direction where developing characteristic is increased by the cumulative operation of the process cartridge, image- formation which is closer to the reference values of an image is performed, by making initial variation large and timing of variation short from gradually asymptotic characteristic.例文帳に追加

プロセスカートリッジの累積動作により現像特性が増加する方向に変動する画像形成特性は、徐々に漸近する特性から、初期の変更量を大きく、変更のタイミングを短くして、より画像の基準値に近い画像形成を行なう。 - 特許庁

To provide a buffer circuit which reduces variation of oscillation frequency to variation of a control voltage as required in a VCO using a plurality of buffer circuits by semiconductor integration process with limit in the minimum size of a variable capacity diode.例文帳に追加

可変容量ダイオードの最小サイズに制限を有する半導体集積化プロセスによる複数のバッファ回路を用いたＶＣＯにおいて、制御電圧の変化に対する発振周波数の変化を必要に応じて小さくできるようにしたバッファ回路を提供すること。 - 特許庁

To provide a production process which enables production of a high- performance, high-density, metal oxide sintered compact target without causing any variation in composition within the produced target, and with a remarkably lower sintering temperature than that used in a conventional similar process, by using a starting material that is homogeneous at a molecular level.例文帳に追加

分子レベルで均一な出発原料を用いることにより、組成ズレがなく、しかも従来法よりも格段に低い焼結温度で高性能の高密度金属酸化物焼結体ターゲットを得ることのできる製法を提供すること。 - 特許庁

In response to variation in circuit constant of an impedance matching circuit 41 connected to the first pair of electrodes 11 and 12, a transition is made from the process of generating the plasma under the first condition to the process of generating the plasma under the second condition.例文帳に追加

第１の対の電極１１、１２に接続されたインピーダンス整合回路４１の回路定数の変化に対応して、第１の条件でプラズマを発生させる工程から第２の条件でプラズマを発生させる工程への移行が行われる。 - 特許庁

The correction circuit 3 includes a correcting transistor Q2 that is manufactured in the same manufacturing process as the output transistor Q1 and formed so as to have the same tendency of the manufacturing process variation in current amplification factor etc. as that of the output transistor Q1.例文帳に追加

補正回路３は、出力トランジスタＱ１と同一の製造プロセスにて製造され、且つ電流増幅率の製造プロセスばらつき等が出力トランジスタＱ１と同じ傾向を有するように形成された補正用トランジスタＱ２を備えている。 - 特許庁

To manufacture a varicap which reduces a parasitic resistance between a cathode and an anode, suppresses the increase of the two-dimensional area of a device to the minimum limit, also suppresses an additional process in an LSI process to the minimum limit, and has a high accuracy and little variation.例文帳に追加

カソード−アノード間の寄生抵抗を低減し、デバイスの２次元的な面積の増大を最小限に抑え、ＬＳＩ工程における追加工程を最小限に抑えることができ、ばらつきの少ない高精度なバリキャップを製造する。 - 特許庁

The controller 40 executes a process for computing a main torque command value, a process for outputting a final command torque value based on an oscillation-reducing torque command value which reduces torque variation occurring in operating a rotating electric machine with the main torque command value and on the main torque command value, and a process for computing the oscillation-reducing torque command value.例文帳に追加

コントローラ４０は、主トルク指令値を算出する処理と、主トルク指令値で回転電機を運転した場合に発生するトルク変動を低減させる制振トルク指令値と主トルク指令値とに基づいて最終指令トルク値を出力する処理と、制振トルク指令値を算出する処理とを実行する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the fully-depleted SOI transistor, especially the NMOS transistor, there is a process for implanting impurities into an insulating film by an ion implantation method before or after a well formation process, thus restraining the diffusion of the impurities to an embedded insulating film owing to a variation in a thermal history in a manufacturing process.例文帳に追加

完全空乏型ＳＯＩトランジスタ、特にＮＭＯＳトランジスタの製造方法においてウエル形成工程前あるいは後に追加でイオン注入法を用いて絶縁膜に不純物注入を行う工程を有することで、製造過程における熱履歴のばらつきによる埋め込み絶縁膜への不純物の拡散を抑える。 - 特許庁

In this process, the display control part 70 works to carry out the specified game performance (with appearance of characters) at a prescribed frequency free from the variation pattern, whatsoever, designated from the main control part 50.例文帳に追加

この際、表示制御部７０は、メイン制御部５０からどのような変動パターンが指示されたかとは無関係に所定の頻度で特定遊技演出（キャラクタの登場）を行う。 - 特許庁

To provide a developing device in which a variation in permeability sensor output (the detection error of the toner concentration of developer by a permeability sensor) due to a change in process linear velocity can be suppressed.例文帳に追加

プロセス線速の変化に起因する透磁率センサ出力変動（透磁率センサによる現像剤のトナー濃度検知誤差）を抑えることが出来る現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a game machine with a backup function, capable of eliminating a process at the time of the power supply cut if not necessary without adverse effects of the variation of voltage of an outside power supply.例文帳に追加

外部電源の電圧変動の悪影響が少なく、不要なところで電源断時の処理を行わずに済むことが可能な、バックアップ機能を有する遊技機の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a developing device which suppresses variation of a development gap and can form a high quality image free from density unevenness, and to provide an image forming apparatus using the developing device and a process cartridge.例文帳に追加

現像ギャップの変動を低減して、濃度ムラのない高品質な画像を形成可能な現像装置、該現像装置を用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To prevent delay of heat supply during load variation and prevent an increase of thermal emission as a pre-purge process is performed beyond necessity, in a heating medium boiler multi-can installation system.例文帳に追加

熱媒ボイラ多缶設置システムにおいて、負荷変動時に熱供給が遅れることを防ぎ、さらにプレパージの工程を必要以上に行うことによる熱放出の増大を防ぐ。 - 特許庁

The through-hole group 1 (1a, 1b) changes its diameter so as to result from the influence of process variation which is different from that of the through-hole groups 2 (2a, 2b), 3 (3a, 3b) and 4 (4a, 4b).例文帳に追加

端子Ａ−Ｃ間のスルーホール群１（１ａ、１ｂ）は、プロセス変動の影響がスルーホール群２（２ａ、２ｂ）、３（３ａ、３ｂ）、４（４ａ、４ｂ）とは異なって現れるように、その径を変える。 - 特許庁

By the configuration, the process of reaching a performance for making a winning form be recognized is changed depending on by which performance contents the symbol variation game is performed.例文帳に追加

この構成によれば、図柄変動ゲームが何れの演出内容によって行われるかにより、当りの態様を認識させるための演出に至る迄の過程に変化をもたらすことができる。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition featuring a high resolution, reduced line edge roughness, and a minimized variation of line width with changing temperature, and a pattern forming process using the same.例文帳に追加

ラインエッジラフネスの低減、温度変化に対しての線幅変動低減、また高解像性の化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system for controlling semiconductor manufacturing equipment which can specify an abnormal factor of the equipment side, in a semiconductor manufacturing process that is controlled so that a purpose variation is constant.例文帳に追加

目的変数が一定になるよう制御されている半導体製造プロセスで、装置側の異常要因を特定することのできる半導体製造装置管理システムを提供する。 - 特許庁

Geometrical variation and change in the phase change material composition otherwise to occur due to memory cell element separation during the dry etching process are reduced for the improvement of reliability in memory cell rewrite frequency.例文帳に追加

その結果、ドライエッチングによるメモリセル素子の分離に起因した、形状ばらつきおよび相変化材料の組成変化が低減し、メモリセルの書き換え回数信頼性が向上する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device for electric power capable of suppressing the variation in the thickness of an insulating film in a cell region in a planarization process by CMP, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＣＭＰによる平坦化処理においてセル領域の絶縁膜厚ばらつきを抑制することが可能な、電力用半導体装置及びその製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device operating at high speed and having a resistive element for showing superior behavior with small variation in resistance, regardless of layout of SMT film, and to provide its production process.例文帳に追加

ＳＭＴ膜のレイアウトに関わらず、抵抗値のバラツキが小さく良好な特性を示す抵抗素子を有し、高速に動作可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoreceptor which ensures less variation in electrostatic properties and occurrence of few abnormal images, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge with the photoreceptor.例文帳に追加

本発明は、静電特性の変動が少なく、異常画像の発生の少ない感光体並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polishing pad in which a slurry holding function is high- accurately controlled, the variation of polishing performance is reduced and a service life is prolonged in the field of polishing, in particular, in a CMP process.例文帳に追加

研磨分野、その中でも特にＣＭＰプロセスにおいて、高精度にスラリー保持機能が制御され、研磨性能ばらつきの小さい、かつライフの長い研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To suppress variation in amplitude detection sensitivity of two constant envelope signals when the two constant envelope signals corresponding to an input signal are generated by an analog signal process.例文帳に追加

入力信号に対応する２つの定包絡線信号をアナログ信号処理により生成する場合において、それらの信号の振幅検出感度のばらつきを抑制する。 - 特許庁

To provide a method for producing a toner which gains a toner which is uniform for a long period and has a small variation range in particle size distribution in an injection granulation process, and to provide a device therefor and a toner.例文帳に追加

噴射造粒工法において、長期にわたって均一で、粒径分布の変動の幅が少ないトナーを得ることができるトナーの製造方法と製造装置及びトナーを提供する。 - 特許庁

To relatively easily obtain a predetermined fine and high integration transfer pattern with high accuracy by increasing a focus margin in photolithography and significantly reducing influences of process fluctuation on dimensional variation.例文帳に追加

フォトリソグラフィーにおけるフォーカスマージンを大きくし、プロセス揺らぎの寸法変動への影響を大幅に緩和して、比較的容易に精度良く所期の微細且つ高集積の転写パターンを得る。 - 特許庁

To improve the switching of a circulating air/outside air flap for more rapid cooling in the interior of an automobile and to optimize the variation of the noise in the interior of the automobile in the process.例文帳に追加

自動車室内のより急速な冷却が行われるように循環空気／外気フラップの切り換えを改善し、そのプロセスにおいて、自動車室内の騒音変化を最適化する。 - 特許庁