「process variation」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The change of characteristic amount of an object to be inspected is statistically analyzed to automatically change the threshold of the defect extraction, whereby the generation of false information due to variation in the manufacturing process can be restrained.例文帳に追加

検査対象物の特徴量の変化量を統計的に解析し、欠陥抽出のしきい値を自動的に変化させることで製造工程のバラツキによる虚報の発生をおさえた。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of eliminating variation in quality of substrate process, irrespective of the time in the non-operational state of the apparatus during a predetermined manufacturing processing (lot processing or batch processing).例文帳に追加

所定の生産処理（ロット処理又はバッチ処理）間であって非稼働状態にある時間に関わらず，基板処理の品質に差が生じることを防ぐことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam scanning system constituted so that the variation in the optical characteristic of a scanning optical system can be always inspected and corrected and a timewise and economic burden can be reduced in a manufacturing process.例文帳に追加

常に走査光学系の光学的特性のばらつきを検査し、補正することができ、かつ製造過程での時間的、経済的な負担を軽減することができるレーザビーム走査システムを提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam scanning system constituted so that the variation in the optical characteristics of a deflection means can always be inspected and corrected and a timewise and economic burden can be reduced in the manufacturing process.例文帳に追加

常に偏向手段の光学的特性のばらつきを検査して、補正することができ、かつ製造過程での時間的、経済的な負担を軽減することができるレーザビーム走査システムを提供する。 - 特許庁

The sublimation amount determination means monitors a predetermined physical quantity that varies depending on the degree of sublimation of the reaction products according to a progress of a sublimation process by the heater 20 as a sublimation-amount-dependent variation value.例文帳に追加

昇華量判定手段は、加熱部２０による昇華処理の経過による反応生成物の昇華の度合いに対応して変化する所定の物理量を昇華量対応変化値としてモニタする。 - 特許庁

To provide a high performance semiconductor device in which variation of characteristics is suppressed and a method for fabricating the semiconductor device by a convenient high yield fabrication process.例文帳に追加

非常に高性能で特性ばらつきの少ない半導体装置およびその半導体装置を簡便で高歩留まりな製造プロセスにより作製できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

After the time-shortening process is executed the maximum number (300) of times, or if the number of times of variation of special symbols is at least 300, a "normal state " is executed as the post-jackpot game state.例文帳に追加

そして、時短処理が最大回数（３００回）実行された後、又は特別図柄の変動回数が３００回以上となった場合は、大当たり後遊技状態として「通常状態」が実行される。 - 特許庁

To provide a parallel processing apparatus eliminating delay of a waiting time or a communication processing time caused by variation in an individual generation processing time between processors in parallel processing of genetic algorithm, and allowing each the processor to efficiently execute a parallel process to solve an optimization problem at higher speed with higher quality.例文帳に追加

遺伝的アルゴリズムの並列処理において、プロセッサ間での個体生成処理時間のばらつきによって生じる待ち時間や通信処理時間が処理を遅らせている。 - 特許庁

To stably obtain a glass ribbon of an excellent shape, consequently glass plates of an excellent shape without variation when a method of blowing SO_2 gas on a glass ribbon during conveyance after forming by a float process is adopted.例文帳に追加

フロート法により成形されて搬送されているガラスリボンにＳＯ_2ガスを吹き付ける手法を採用した場合に、ばらつきなく安定して優れた形状のガラスリボンひいてはガラス板を得る。 - 特許庁

To provide a two-component developer capable of suppressing density variation of images under duration, image quality degradation in intermittent printing at a high process speed, carrier deposition and toner scattering, and having high developing ability.例文帳に追加

耐久時の画像の濃度変動及び高いプロセススピードで間欠印字の画質劣化の低減、キャリア付着やトナー飛散の抑制が可能であり、高い現像性を有する二成分系現像剤の提供。 - 特許庁

To provide a spray dryer and a method of manufacturing granule, capable of effectively suppressing variation in a distribution of grain size of granule obtained by a spray drying process with a simple constitution.例文帳に追加

噴霧乾燥工程により得られる顆粒の粒度分布のバラツキを、単純な構成により効果的に抑制することができる噴霧乾燥装置と、顆粒の製造方法とを提供すること。 - 特許庁

To provide a spray dryer and a method of manufacturing granule, capable of effectively suppressing variation in a distribution of grain size of granule obtained by a spray drying process with a simple constitution.例文帳に追加

噴霧乾燥工程により得られる顆粒の粒度分布のバラツキを、単純な構成により効果的に抑制することができる噴霧乾燥装置と、顆粒の製造方法とを提供することである。 - 特許庁

When a display electrode 4 is formed on a front side substrate 1, a dimension control pattern 21 is formed and, by the variation of the pattern, formation status of the components at each process is grasped.例文帳に追加

前面側基板１上に表示電極４形成時に寸法管理パターン２１を形成し、そのパターンの変化により各工程における構成要素の形成状況を把握するものである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an ion implantation process which ensures a good profile, a small change in line width at the time of variation in film thickness, and large exposure latitude, and an ion implantation method using the same.例文帳に追加

プロファイル良好で、膜厚変動時の線幅変化が小さく、露光ラチチュードが広い、イオン注入工程用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたイオン注入方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a multilater ceramic electronic component such as a multilater ceramic capacitor in which variation in capacity can be improved by improving end oxidation of an internal electrode layer employing a base metal.例文帳に追加

卑金属を用いた内部電極層の端部酸化を改善できる結果、容量バラツキを改善することができる、積層セラミックコンデンサなどの積層セラミック電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When a threshold voltage of the reset transistor 2 rises due to the process variation, a threshold voltage of the transistor 8 also rises to reduce the output voltage of the source- follower circuit 10 and hence lower the reset drain voltage.例文帳に追加

プロセスばらつきによりリセットトランジスタ２のしきい値電圧が高くなるとトランジスタ８のしきい値電圧も高くなり、ソースフォロワ回路１０の出力電圧が減少してリセットドレイン電圧が低くなる。 - 特許庁

To provide a process for stably producing aromatic polycarbonates excellent in hue and reduced in the variation of molecular weight, which solves the problem of the quality of polycarbonates to be obtained by a transesterification method.例文帳に追加

エステル交換法で得られるポリカーボネートの品質上の問題点を解決しようとするものであって、色相に優れ、分子量変動のない芳香族ポリカーボネートを安定して製造する方法の提供。 - 特許庁

To form a resist pattern with a small variation of resist pattern size per unit temperature suitable for a thermal flow process, high intrasurface uniformity in the resulting resist hole pattern size and excellent section shape.例文帳に追加

サーマルフロープロセスに適合した単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量が小さく、得られるレジストホールパターンサイズの面内均一性が高く、かつ断面形状の優れたレジストパターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor for stably obtaining an optimal surface shape for an electrophotographic process while reducing variation in the surface shape of a roughened electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

粗面化した電子写真感光体の表面形状のばらつきを低減し、電子写真プロセスに最適な表面形状を安定して得ることができる電子写真感光体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the charging up in the process of a nonvolatile semiconductor memory for discretely storing charges in a laminated insulating film (non-conductive charge trap layer) to reduce the variation of the threshold voltage thereof.例文帳に追加

積層絶縁膜（非導電性電荷トラップ層）内に離散的に電荷を蓄積する不揮発性半導体記憶装置において、工程中のチャージアップを抑制し、しきい値電圧ばらつきを低減する。 - 特許庁

When the variation of the arterial volume of the peripheral site is equal or more than a predetermined ratio of a standard value at the initial stage of measurement, the servocontrol and the determining process of blood pressure are continued (step S210-S218).例文帳に追加

末梢部位の動脈容積の変化量が、測定初期時の基準値の所定比率以上であれば、サーボ制御および血圧の決定処理は継続される（ステップＳ２１０〜Ｓ２１８）。 - 特許庁

To provide a formation method of a diffusion prevention film and a manufacturing method of a semiconductor device in which both prevention of variation in a threshold voltage due to diffusion of a threshold adjustment chemical element, etc. and simplification of a manufacturing process are achieved.例文帳に追加

拡散防止膜の形成方法及び半導体装置の製造方法に関し、閾値調整元素の拡散等による閾値電圧の変動の防止と製造工程の簡素化を両立する。 - 特許庁

An air amount introduced into a cylinder by opening the intake valve in the latter half of the exhaust process is suppressed, the maximum value and the minimum value of the cylinder pressure in the cylinder are made small to suppress the torque variation.例文帳に追加

そして、排気行程の後半に吸気弁を開弁させて筒内へと導入される空気量を抑制し、筒内圧力の最大値及び最小値を小さくすることで、トルク変動を抑制する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which has high sensitivity and suppresses short-term potential variation and photomemory, and to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus with the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

高感度であって、かつ、短期間の電位変動およびフォトメモリーが抑制された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

In a symbol variation period, a symbol stop part 232 executes a forced failure process as necessary and prevents the same type symbols from stopping in symbol stop positions on display areas 41-43.例文帳に追加

そして、図柄変動期間において、図柄停止部２３２は必要に応じて強制外れ処理を実行し、表示エリア４１〜４３の図柄停止位置に同一種類の図柄を停止させないようにする。 - 特許庁

In the second aging process, the NOx sensor 1 is driven in a lean atmosphere having a fixed humidity, whereby the initial variation of a second pump current Ip2 is eliminated to realize stabilization of sensor characteristic.例文帳に追加

そして、第２エージング工程にて一定の湿度のリーン雰囲気にてＮＯｘセンサ（１）を駆動することで、第２ポンプ電流Ｉｐ２の初期変動を取り除いてセンサ特性の安定化を実現している。 - 特許庁

To provide a substrate processing equipment and a substrate processing method which can prevent a variation in feeding of a liquid to a substrate to be processed, and can process a whole surface of the substrate to be processed uniformly.例文帳に追加

被処理基板への液体の供給むらを防止して、被処理基板の表面を全面に亘って均一に処理することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To make a player interested in the process of execution of a special mode presentation to enhance the amusement of a game by associating the execution of the special mode presentation with a symbol variation game.例文帳に追加

特別モード演出の実行と図柄変動ゲームとを関連付けることで、当該特別モード演出が実行される過程についても遊技者に関心を抱かせて遊技の興趣を向上させる。 - 特許庁

To provide a heat-treatment apparatus and a heat-treatment method with which each heat-treatment process in a furnace is performed under the atmosphere having suitable CP (Carbon Potential) with little variation, without mixing different kind of gas.例文帳に追加

異なる種類のガスを混合することなく、炉内の各熱処理工程が、ばらつきなく適正なＣＰを有する雰囲気中で行われる熱処理装置及び熱処理方法を提供する。 - 特許庁

The variation in the thickness intrinsically included in the raw sheet film 1 is improved by the hot rolling treatment in the heating double belt press system 10 and the uniform stretching of the film in the subsequent stretching process is made possible.例文帳に追加

加熱ダブルベルトプレス装置１０での加熱圧延処理により、原反フィルム１に本来的に含まれる厚みバラツキが改善され、その後の延伸工程で均一な延伸が可能になる。 - 特許庁

A pulse generating circuit 110 for a detection circuit generates a signal with pulse width corresponding to each process variation based on a clock signal CLK, and outputs each generated signal to detection circuits 120 to 150.例文帳に追加

検知回路用パルス生成回路１１０が、クロック信号ＣＬＫを各プロセスばらつきの応じたパルス幅の信号を生成し、生成した各信号を検知回路１２０〜１５０に出力する。 - 特許庁

To prevent over-margin and margin-less of operation margin of an internal circuit by optimizing an internal voltage drop level adjusting to condition variation such as process, temperature, and the like.例文帳に追加

プロセス、温度などのコンディション変動に合わせて内部降圧レベルの最適化を行うことで、内部回路の動作マージンのオーバーマージン化や、マージンレス化を防ぐことができる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a bias circuit wherein the bias current is kept constant even in the fluctuations due to process variation in the field effect transistor threshold, and to provide a resistance element for use with the bias circuit.例文帳に追加

プロセスばらつきにより電界効果トランジスタのしきい値が変動しても、バイアス電流を一定にすることができるバイアス回路および当該バイアス回路に適用される抵抗素子を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of eliminating variation in capacity even when a stacking displacement occurs in a lithographic process to form a first and a second electrodes constituting a capacitive element.例文帳に追加

容量素子を構成する第１電極及び第２電極を形成するためのリソグラフィ工程で重ね合わせズレが生じた場合にも容量ばらつきを抑制できる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To achieve circuit speed that is closer to constant (versus VCC, temperature, and process variation) in an integrated circuit transistor body bias regulation circuit and a method especially for low voltage applications.例文帳に追加

特に低電圧用途に関して適用可能な集積回路トランジスタボディバイアス調整回路および方法において、（ＶＣＣ、温度およびプロセスの変動に対して）より一定に近い回路速度を達成する。 - 特許庁

The temperature controlling method of microwave heating includes a process in which mocrowaves are irradiated on a ferroelectric and a heating temperature is controlled by a variation of a dielectric property around a Curie point of the ferroelectric.例文帳に追加

強誘電体にマイクロ波を照射し、強誘電体のキュリーポイントの前後での誘電特性の変化により加熱温度を制御するマイクロ波加熱の温度制御方法の構成とした。 - 特許庁

The display process part 30 displays the state of variation of each data of whole data through the sampling interval into one screen, by comparing with the index information corresponding to the inside of index information and the immediately in front of the block.例文帳に追加

表示処理部３０は、インデックス情報内データ及び直前のブロックに対応したインデックス情報との比較によりサンプリング期間全体の各データの変化の状態を一画面に表示する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which produces no potential variation even in repetitive use without forming a clouded coating film in manufacture of the photoreceptor, and to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus.例文帳に追加

感光体作製時に白濁した塗膜などを生じることなく、繰り返し使用時にも電位変動を生じない電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester staple fiber that has a soft feeling, excellent process passableness in undergoing higher-order processing, and good productivity such as excellent spinnability during manufacture, passableness in a process such as drawing, and handleability of undrawn yarn which is an intermediate product with less productivity variation.例文帳に追加

ソフトな風合いをもち、高次加工時の工程通過性に優れ、さらに製造時における紡糸、延伸等の工程通過性や、中間製品である未延伸糸の取り扱い性に優れるなど生産性良好であり、かつ品質のバラツキの少ないポリエステル短繊維を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method for a silicon wafer, which contains an etching process for removing a breaking layer of a degenerated layer on the surface of the silicon wafer made by a mechanical working, and in which the etching process is managed depending on variation of groove width of a micro-crack remaining on the surface of the silicon wafer, and the silicon wafer are provided.例文帳に追加

機械的加工によりシリコンウェーハの表面に生じた加工変質層の破砕層を除去するエッチング処理工程を有し、このエッチング処理の管理をシリコンウェーハ表面に残存するマイクロクラックの溝幅の変化で行うシリコンウェーハの製造方法、また、シリコンウェーハ。 - 特許庁

As a result, since the Δ RoT being a variation width of the RoT can be limited within a prescribed range in the increasing process of the RoT and the decreasing process of the RoT, the interference of the uplink channel is prevented from being momentarily and greatly fluctuated to keep the communication quality excellent.例文帳に追加

この結果、ＲｏＴの上昇過程およびＲｏＴの下降過程において、ＲｏＴの変動幅であるΔＲｏＴを一定範囲内に納めることができるため、上り回線の干渉が瞬時に大きく変動することを防止して、通信品質を良好に保つことができる。 - 特許庁

Focus variation in photolithography process is detected using photomasks with test features T1, T2 adapted to print patterns with critical dimensions that can be measured and analyzed to determine magnitude and direction of defocus from a best focus position of an exposure tool during a lithographic process.例文帳に追加

リソグラフィ工程の間露光装備の最適焦点からの焦点誤差のサイズ及び方向を決定するため測定及び分析できる最小線幅を有する印刷パターンに適したテストフィーチャーＴ１，Ｔ２を有するフォトマスクを用いてリソグラフィ工程において焦点変化を測定する。 - 特許庁

To obtain a function as a monitor tool, capable of rewriting stored information by trimming resistance inside a storage cell in storing the information using a pair of the storage cells, and easily detecting, variation in an element formation process and failure of a device after the element formation process is completed.例文帳に追加

一対の記憶セルを用いて情報を記憶する際、記憶セル内の抵抗のトリミングにより記憶情報の書き換えを可能とし、素子形成プロセスのばらつきや素子形成工程終了後のデバイスの不具合を容易に検出するためのモニターツールとしての機能を持たせる。 - 特許庁

When it is decided that an input level APL is lower than a last reference level APLla, as shown in section (d) by a reference value, a process of using the input level APL as an output level APLad and a process (Flag=1) of setting a status flag F indicating fine variation are carried out.例文帳に追加

区間ｄのように、入力レベルＡＰＬが直前の参照レベルＡＰＬｌaより基準値だけ低いと判断されたときは、その入力レベルＡＰＬが出力レベルＡＰＬａdとして使用する処理と、微少変動を示す状態フラグＦをセットする処理（Flag＝１）が行われる。 - 特許庁

To provide an oxygen concentrator and an oxygen concentrating method capable of executing a nitrogen adsorption process and a purification process in a short time without increasing catalyst or raising the rating of a compressor in a vacuum regeneration method pressure variation adsorption type oxygen concentrator.例文帳に追加

真空再生法圧力変動吸着型の酸素濃縮装置において、触媒の増量またはコンプレサの定格を上げることなく、短時間内に窒素吸着工程と浄化工程を行うことができる酸素濃縮装置および酸素濃縮方法の提供。 - 特許庁