「process variation」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a small-sized molten metal supply apparatus which replaces the atmosphere of an ingot and melt the ingot to produce molten metal and supplies the molten metal to a following process, and in which variation arising at charging a master alloy and fluctuation in pressure by increasing the capacity do not influence the quality of molten alloy.例文帳に追加

本発明は、インゴットを雰囲気置換して溶解し、溶湯を生成し次工程に供給する金属溶湯供給装置に関するものであって、母合金投入の際の振動や、容量増加による圧力の変動が、溶融合金の品質に影響を及ぼさない小型の金属溶湯の供給装置を提供することである。 - 特許庁

The specific presentation is selected as a notice presentation only when the determination result of jackpot determination is affirmative, and when it is decided that a character whose appearance rate is set very low is caused to appear in a symbol variation game, the process until the character appears is reproduced in a jackpot game.例文帳に追加

予告演出として大当り判定の判定結果が肯定の場合のみに選択されるとともに、出現率が極めて低く設定されたキャラクタを図柄変動ゲーム中に登場させることが決定された場合、大当り遊技中にそのキャラクタが登場する迄の過程を再現させるようにした。 - 特許庁

Further, the main CPU 32 executes a separate shortened setting process for providing the variation time shortened state in which the average time set for the variable display is shortened over a prescribed number of times, larger than the special number of times, of the variable display in response to the final display in a mode related to the regular jackpot other than the above.例文帳に追加

更に、主ＣＰＵ３２は、これら以外の通常大当りに係る態様の確定表示に対応して、変動表示の設定時間の平均値が、特別回数より多い所定回数において短縮される変動時間短縮状態を生起するように設定する別短縮設定処理を行う。 - 特許庁

To provide a single crystal growth device capable of stably producing a single crystal having excellent quality by, in the process of single crystal growth, allowing the central-symmetric natural convection of a melt and thereby inhibiting variation in temperature of the melt at the growth interface, and also to provide a single crystal growth method using the device.例文帳に追加

単結晶育成中に、融液の自然対流が中心対称性を得られるようにして、結晶の成長界面における融液の温度変動を抑制することにより、優れた品質の単結晶を安定して育成することができる単結晶育成装置と、それを用いた育成方法を提供する。 - 特許庁

When the manufacturing process of the sample substrate progresses subsequently and variation is detected in the shape of the basic pattern, a new pattern used for correcting the mounting position of the sample substrate on the supporting base is recorded temporarily, and the positional shift is corrected when mounting the sample substrate on the supporting base using the new pattern recorded temporarily.例文帳に追加

その後、試料基板の製造処理が進行し、基本パターンの形状に変化があった場合に、試料基板を支持台に載置する際の載置位置の補正に用いる新たなパターンを仮記録し、仮登録された新たなパターンを用いて、試料基板を支持台に載置する際の載置位置のズレを補正する。 - 特許庁

While satisfying delivery date accumulative production amount inequality constraint, final accumulative production amount equality constraint and start accumulative production amount inequality constraint, the computer determines the production amount in respective time sections so as to minimize variation of the production amount, and reallocates the loads by regarding the production amount as the process capability (STEP6 to STEP7).例文帳に追加

納期累積生産量不等式制約、最終累積生産量等式制約及び着手累積生産量不等式制約を満たしながら、生産量の変動が最小となる各時間区間の生産量を決定し、生産量を工程能力とみなして負荷の再割り当てを行う（ＳＴＥＰ６〜７）。 - 特許庁

To provide a construction capable of preventing the occurrence of the variation in a cell thickness distribution of a liquid crystal panel of a type with which a liquid crystal sealing region is segmented and formed by a sealing material contg. gap materials between substrates and electrical conduction is achieved between the substrates and a process for producing the same.例文帳に追加

基板間においてギャップ材含有のシール材によって液晶封入領域が区画形成されているとともに、導通材によって基板間での電気的な導通が図られているタイプの液晶パネル、およびその製造方法において、セル厚分布のばらつきの発生を防止することができる構成を提供すること。 - 特許庁

When game machines A, B process information on a competing game in real time by exchanging condition variation information via a communication cable 82, synchronization signals transmitted from the game machine B via a communication cable 92 is inputted into an external synchronization information input terminal 50a of the CRTC (cathode ray tube controller) 34a of the game machine A.例文帳に追加

ゲーム機Ａ，Ｂは、通信ケーブル８２を介して状態変化情報をやりとりしながら対戦ゲームなどのリアルタイムの情報処理を行う際に、ゲーム機Ｂから通信ケーブル９２を介して伝送される同期信号をゲーム機ＡのＣＲＴＣ３４ａの外部同期情報入力端子５０ａに入力する。 - 特許庁

To correct in a manufacturing process an optical axis deviation occurring during manufacturing to reliably and preferably synthesize a 3D image from two images of right and left viewpoints when the optical axis is deviated due to a manufacturing variation without a complex signal processing such as detecting similarity between two images every time imaging an image unlike in related art.例文帳に追加

製造バラツキによって光軸がずれた場合に、従来のように画像撮像毎に二つの画像の類似性を検出するなどの複雑な信号処理を行うことなく、製造工程内で製造上の光軸ずれを補正して左右２視点の二つの画像の３Ｄ画像合成を確実かつ良好に行う。 - 特許庁

In a process for treating a substrate 16 arranged in a vacuum enclosure 1, the present invention provides for compensating any variation of the active gas supply flowrate via active gas supply pipe 4 by injecting a complementary flowrate of control gas into an area 25 close to controlled gas suction means 3.例文帳に追加

真空エンクロージャ１内に配置された基板１６を処理するための方法において、本発明は、制御されたガス吸気手段３の近傍にある領域２５に、補完流量の制御ガスを注入することによって、活性ガス供給パイプ４を介する活性ガス供給流量の変動の補償を与える。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, e.g. a heterojunction bipolar transistor, comprising a plurality of emitter layers formed on one base layer which is formed on a semiconductor substrate in which variation in heat dissipation can be suppressed significantly among emitters by dissipating heat efficiently, and to provide its fabricating process.例文帳に追加

半導体基板上の一つのベース層上に形成された複数のエミッタ層から構成されるヘテロ接合バイポーラトランジスタにおいて、放熱を効率良く行ない、エミッタ間の放熱のばらつきを大幅に低減できるヘテロ接合バイポーラトランジスタなどの半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a process for forming a gate electrode film, the gate electrode film is formed while oscillating a discharge region on a target so that a film being formed every time when the discharge region reciprocates has a thickness of 2 nm or less thus suppressing variation in the characteristics of the device when a voltage is applied and realizing a highly reliable thin film semiconductor device.例文帳に追加

ゲート電極膜を形成する工程において放電領域をターゲット上で揺動させながら成膜し、放電領域が一往復するごとに成膜する膜厚を２ｎｍ以下とすることにより、電圧印加時の素子特性の変化が小さく、信頼性の高い薄膜半導体素子を実現する。 - 特許庁

Then, when a drawing result is a winning, the display control of the symbol variation process satisfying the presented game clear condition is executed, a player is made to visually confirm that the game clear condition is satisfied, then the winning symbol is stopped and displayed and the player is notified that the special game is to be executed.例文帳に追加

そして、抽選結果が当たりである場合に、提示されたゲームクリア条件を満足する図柄変動過程の表示制御を行わせて、ゲームクリア条件が満足したことを遊技者に視認させた後、当たり図柄を停止表示させて特別遊技が実行されることを遊技者に通知する。 - 特許庁

A variation ΔL is a leak current flowing between the upstream side fixed brush 34 and the downstream side rotary brush 48, and when the leak current value ΔL becomes larger than a current value by which an image flow is generated, a removing process for removing discharge products stuck to the surface of the photoreceptor 13 is performed.例文帳に追加

変化分であるΔＬが、上流側固定型ブラシ３４と下流側回転型ブラシ４８との間で流れるリーク電流であり、このリーク電流値ΔＬが像流れが発生する電流値より大きくなると、感光体１３上に付着した放電生成物を除去する除去工程を行うようになっている。 - 特許庁

To provide a plasma display panel capable of reducing a time needed for the process for production of products, preventing impurity gas from producing at the time of connection, preventing the characteristics and performance of a panel from lowering and the panel from being damaged, and preventing the structural change of the panel due to a variation in an external atmospheric pressure.例文帳に追加

製品の生産工程にかかる時間を減らし、接合接合時に不純物ガスが発生せず、パネルの特性低下や性能低下及びパネルの損傷を防止し、外部の気圧変化に伴うパネルの構造変化を防止できるようにしたプラズマディスプレイパネル及びその製造工程を提供する。 - 特許庁

This method is a method for performing the controlled cooling 22 of the thick steel plate 1 after finish rolling in a thick steel plate manufacturing process, the distribution of scale thickness is measured 14 and, after reducing variation in the scale thickness to ≤10 μm by descaling 16 or applying a surface film based on the measured result, the controlled cooling 22 is performed.例文帳に追加

厚鋼板製造工程において仕上圧延１０後に厚鋼板１を制御冷却２２する方法であって、スケール厚み分布を計測１４し、スケール厚み分布の計測結果に基づいてデスケーリング１６または表面膜塗布によりスケール厚みのばらつきを１０μm以下とした後、制御冷却２２を行う。 - 特許庁

A plane plate 17 formed by laminating a plurality of layers with different refractive indexes in a process of manufacturing a polymer waveguide is inserted and fixed between opposite end surfaces of optical fibers 1 to obtain the same structure having refractive index variation along the axes of the optical fibers 1 with a conventional fiber grating.例文帳に追加

対向する光ファイバ１の端面間に、複数の異なる屈折率の層をポリマー導波路の作製プロセスにより積層した平板１７を挿入し、固定することで、光ファイバ１の軸方向に沿って屈折率変化を持たせた構造とし、従来のファイバグレーティングの屈折率変化の構造と同じにする。 - 特許庁

To provide a signal analyzing method that makes physical interpretation of oscillation characteristics of data possible by applying an ExpAR model to which a structure, which changes the oscillation characteristics of the data that an exogenous variable is expected to estimate, is added to the variation process of the data wherein certain data are influenced by other data to fluctuate.例文帳に追加

あるデータが他のデータから影響を受けて変動するというデータの変動過程に対して外生変数が予測したいデータの振動特性を変化させる構造を加えたＥｘｐＡＲモデルを適用し、データの振動特性の物理的解釈を可能とする信号解析方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electroconductive rubber roller that reduces resistance variation caused by deterioration of hydrin rubber caused by long-hour electrifying process in the electroconductive rubber roller, for example, transcription roller, charged roller or developing roller where a rubber layer is formed with non-foaming rubber having reduced adhesion to the roller surface.例文帳に追加

転写ローラーや帯電ローラーあるいは現像ローラー等の導電性ゴムローラーにおいて、長時間通電によって起こるヒドリンゴムの劣化に起因する抵抗変動を少なくし、更にローラー表面の張付き性を少なくした非発泡体からなるゴム層が成形されている導電性ゴムローラーを提供することである。 - 特許庁

This toner regulating blade used in an image forming device utilizing an electrostatic transfer process is constituted of three layers equipped with a 1st elastic layer on one side of a supporting layer formed of high-rigidity resin and a 2nd elastic layer on the other surface thereof, and is not distorted by environmental variation.例文帳に追加

静電転写プロセスを利用した画像形成装置に使用するトナー規制ブレードであって、高剛性樹脂にて形成された支持体層の片面に第１弾性体層を、そして他面に第２弾性体層を備えた少なくとも３層からなり、環境変動により歪みを生じない構成とする。 - 特許庁

To provide a rubber blade with suppressed rubber-peeling at a low cost, to provide a developing blade unit for suppressing a variation in the contact pressure of the developing blade, and to provide a developing device and a process cartridge having stable developing characteristics, constituted so that an image of uneven density and a fogged image, etc., may not be outputted.例文帳に追加

本発明は、低コストでゴムの剥がれの小さいゴムブレードを提供すること、現像ブレード当接圧のバラツキを小さくする現像ブレードユニットを提供すること、濃度ムラやカブリ等の画像が出力されることのない現像特性の安定した現像装置、プロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁

Thus, after the above processes, the analysis result of the previous time step is input into the following time step's FEM model as an initial value, it asks for the ground water flow place by repeating the process which inputs predetermined boundary condition and analyzes it into time step N, it is evaluated that long term variation of geological environment affects the ground water flow.例文帳に追加

これ以降、前タイムステップの解析結果を、次タイムステップのＦＥＭモデルに初期値として入力し、所定の境界条件を入力して解析する工程をタイムステップＮまで繰り返すことにより地下水流動場を求め、地質環境の長期的変遷が地下水流動に与える影響を評価する。 - 特許庁

An abnormality detection/classification method that checks dispersion in a raw data using a raw back-focal-plane image data of radiation from a substrate surface detected by a scatterometer detector, and associates the variation in the raw data that may possibly occur in the lithographic device or a fault that may possibly occur in a process where the substrate surface is patterned is disclosed.例文帳に追加

スキャトロメータディテクタによって検出された、基板表面からの放射の生の後焦点面像データを使用して、生データ内のばらつきを確認し、生データのばらつきをリソグラフィ装置、または基板表面をパターニングしたプロセスにて起こり得る異常に関連付ける、異常検出／分類方法を開示する。 - 特許庁

In the disk drive 20 having an independent servo writing function, a CPU 29 is so constituted as to compute only correction values of designated tracks of a plurality of servo tracks to store the correction values in servo sectors when the computing process for computing a correction value of an STW-RRO (servo track writing-repeatable runout) variation component is performed in the self-running test step.例文帳に追加

自立サーボライト機能を有するディスクドライブ２０において、ＣＰＵ２９は、自走テスト工程時にＳＴＷ−ＲＲＯ補正値を算出する計算処理を実行するときに、複数のサーボトラックの中で、指定のトラック分の補正値のみを算出して、当該補正値をサーボセクタに記憶するように構成されている。 - 特許庁

The stable hologram color filter without slant angle variation of the diffraction grating in a heating process is provided by arranging a hologram lens layer going ≥1.5 mm inward from the edges of a supporting glass substrate and by using an adhesive with a glass transition temperature ≥50° higher than the heating temperature added in the manufacturing process of the spatial optical modulation element as the adhesive layer covering the hologram lens layer.例文帳に追加

本発明は、ホログラムカラーフィルタに関し、ホログラムレンズ層を支持基板であるガラス基板の縁辺より１．５ｍｍ以上内側に設けること、およびホログラムレンズ層を覆う接着剤層として空間光変調素子の製造工程で加わる加熱温度より５０度以上高いガラス転移点を有する接着剤を用いることにより、加熱工程に対して回折格子のスラント角が変化することのない安定なホログラムカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a developing roller which suppresses environmental variation of its resistance and ensures stable image density over the first half and the latter half of duration in each environment, by hydrophobing the outermost surface layer of a developing roller, and also to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus using such a developing roller.例文帳に追加

本発明の目的とするところは、現像ローラ最表面層の疎水化を図ることにより、現像ローラの抵抗環境変動を抑え、各環境での耐久前後半にわたり、画像濃度が安定した現像ローラを提供すること、及びこのような現像ローラを用いたプロセスカートリッジ及び、電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a light emitting device capable of suppressing the area of a capacitor element, suppressing the variation in the luminance of light emitting elements induced by a fluctuation in gate voltage while using the transistors (TRs) manufactured by an existing process, and suppressing the occurrence of the degradation and the unevenness in the luminance of the light emitting elements accompanying the deterioration of an electroluminescence emitting material.例文帳に追加

容量素子の面積を抑え、なおかつ既存のプロセスで作製されたトランジスタを用いつつ、ゲート電圧の変動によって引き起こされる発光素子の輝度のばらつきを抑えることができ、なおかつ電界発光材料の劣化に伴う発光素子の輝度の低下や輝度むらの発生を抑えることができる発光装置の提案を課題とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon epitaxial wafer including a process of performing vapor-phase growth of a silicon single-crystal thin film on the surface of a silicon single-crystal substrate, wherein variation in resistivity in a depth direction between the silicon single-crystal substrate and silicon single-crystal thin film is steep and the transition width of the resistivity is small.例文帳に追加

シリコン単結晶基板の表面上にシリコン単結晶薄膜を気相成長させる工程を含むシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法において、シリコン単結晶基板とシリコン単結晶薄膜間の深さ方向の抵抗率変化が急峻で、抵抗率の遷移幅が小さいシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of controlling a fixing device by which desired fixation properties can be stably maintained over a long period of time and stabilized fixation properties are obtained irrespective of the changes or variations of fixing process conditions, the variation of operating environment, etc., and to provide the fixing device and an image forming apparatus provided with this fixing device.例文帳に追加

所期の定着性を長期にわたって安定に維持することができ、また、定着プロセス条件の変更若しくは変動および動作環境の変化等にかかわらず、安定した定着性が得られる定着装置の制御方法および定着装置、並びにこの定着装置を備えた画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The present method includes: providing a designed structure of circuit sections to be formed on one or a plurality of adjacent layers of a semiconductor wafer through lithography; and predicting the shape and positioning of every circuit section on the each of the adjacent layers through the use of one or a plurality of predetermined values with regard to a process variation or a positioning deviation error.例文帳に追加

本方法は、半導体ウェハの１つまたは複数の近接するレイヤーにリソグラフィで生成すべき回路部分の設計構成を提供すること、プロセス変動または位置合せずれ誤差に関する１つまたは複数の所定の値を使用して、それぞれの近接するレイヤーの回路部分ごとに形状および位置合せを予測することを含んでいる。 - 特許庁

The number of flash generation is measured by the variation in the applied voltage in the flash process when a pair of works to be welded 2a and 2b are welded, the temperature of a high temperature member is discriminated by the measured number of flash generation, and such welding conditions as frequency, secondary voltage, flash quantity and upset quantity are varied based on the discriminated temperature of the high temperature member.例文帳に追加

一対の被溶接部材２ａ，２ｂを溶接する際に、フラッシュ工程時の印加電圧変化からフラッシュ発生回数を測定し、測定したフラッシュ発生回数から高温部材の温度を判別し、判別した高温部材温度に基づいて周波数、２次電圧、フラッシュ量、アプセット量等の溶接条件を変更する。 - 特許庁

It is possible to change the thermal treatment time based on the variation of the atmospheric pressure at least in the thermal treatment in the oxidizing atmosphere, and to set the thermal treatment time so as to nearly fix the sum of the thermal treatment time in the inert atmosphere and that in the oxidizing atmosphere in the process of the thermal treatment in the inert atmosphere.例文帳に追加

また、酸化雰囲気中での熱処理において、熱処理時間を、少なくとも大気圧の変動に基づいて変更し、不活性雰囲気中で熱処理する工程において熱処理時間を、不活性雰囲気中での熱処理時間と酸化雰囲気中での熱処理時間の和が略一定になるように設定してもよい。 - 特許庁

A pair of wiring 102a, 102b is formed on a resin substrate, and then the spaces T2 between the wiring 102a, 102b and pixel electrodes 103a, 103b to be connected with the wiring 102a, 102b via MIM elements 104a, 104b are designed larger than the maximum dimensional variation T1 in the manufacturing process of the liquid crystal display device.例文帳に追加

樹脂基板上に一対の配線１０２ａ，１０２ｂを形成し、次に、この配線１０２ａ，１０２ｂにＭＩＭ素子１０４ａ，１０４ｂを介して接続される画素電極１０３ａ、１０３ｂとの間隔Ｔ２を、樹脂基板１０６の液晶表示装置の製造工程時における最大寸法変化量Ｔ１よりも大きく設計する。 - 特許庁

To provide an array substrate, a display device and a method for manufacturing the substrate, which contribute to reduction in cost, increase in yield and expansion of the process margin of forming and processing an intermediate resist film thickness by reducing variation in the intermediate resist film thickness when intermediate exposure is performed on a region where a plurality of types of thin film patterns are formed at the same photo lithography step.例文帳に追加

複数種類の薄膜パターンを形成する領域に、同一の写真製版工程で中間的な露光を行う場合、中間レジスト膜厚のばらつきを小さくして、中間レジスト膜厚を形成して加工するプロセスのマージンを拡大して歩留りを上げ、低コストなアレイ基板、表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process for manufacturing a torque sensor detecting a variation in the permeability of a magnetostrictive material 2 caused by a torque acting on a torque transmission shaft 1 by means of coils 23 and 24, a protruding and recessed part 3 is formed at the outer circumferential surface part of the torque transmission shaft 1 by form rolling, its surface is subjected to centerless polishing and then plated with the magnetostrictive material 2.例文帳に追加

トルク伝達軸１に作用するトルクによる磁歪材２の透磁率変化をコイル２３，２４により検出するトルクセンサを製造する方法において、トルク伝達軸１の外周面部に転造によって凹凸部３を形成し、その後にその表面にセンタレス研磨を施し、その後にその表面に磁歪材２をメッキにより設けるようにした。 - 特許庁

To provide a high-performance image carrier which prevents the occurrence of an image fault relating to color reproduction by reducing the surface characteristics of an electrically conductive substrate between a plurality of the image carriers, more particularly the variation in lightness and adjusting the lightness on the surfaces of the respective substrates to prescribed values and a process cartridge, and an image forming apparatus carrying these.例文帳に追加

複数の像担持体間における導電性基体の表面性、特に明度のバラツキを低減し、各基体の表面の明度を所定の値に調整することにより、色再現に係る画像障害を生ずることがない、高性能の像担持体およびプロセスカートリッジ、並びにこれらを搭載した画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the process, a subordinate CPU 206 executes the control to execute the identification information stopping game in which the upper limit of the time to variably display identification information is 15 seconds, an example of second prescribed time, on condition that the average variation time, an example of the variable display standard time, is at least 20 seconds, an example of first prescribed time.例文帳に追加

この処理において、サブＣＰＵ２０６は、変動表示標準時間の一例である平均変動時間が第一の所定時間の一例である“２０”秒以上であることを条件に、識別情報が変動表示される時間が第二の所定時間の一例である“１５”秒を上限とする識別情報停止ゲームを実行する制御を行う。 - 特許庁

To make bias setting easily executable without being influenced by a variation in the manufacturing process of a MOSFET nor the fluctuation of a p-n junction temperature at the time of changing p-n junction between a body and a source of the MOSFET to a shallow forward bias, by applying a certain voltage to the back gate of the MOSFET for reducing 1/f noise generated in the MOSFET.例文帳に追加

ＭＯＳＦＥＴで発生する１／ｆノイズを低減するために、そのバックゲートにある電圧を与え、該ＭＯＳＦＥＴのＢｏｄｙーｓｏｕｒｃｅのＰＮ接合を浅い順バイアスにする際、ＭＯＳＦＥＴの製造プロセスにおけるバラツキやＰＮ接合温度の変動に影響されず、容易にバイアス設定を行うため。 - 特許庁

To provide a Pachinko game machine allowing a sub-control part to determine whether or not continuous presentation is performed and conduct the continuous presentation pattern control in order to lessen the load of a main control part, and performing presentation having high probability that a big prize random number exists in a reservation even in the process of special pattern variation of a game before the continuous presentation is performed.例文帳に追加

主制御部の負担を減らすために、基本的に、副制御部で、連続演出を実行するか否かの判断や連続演出パターン制御を実行するとともに、前記連続演出を実行する前の遊技の特図変動中でも保留内に大当たり乱数が存在する可能性の高い演出を実行可能なパチンコ遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a method for detecting the diameter of a single crystal capable of improving the measurement accuracy of a large, heavy crystal and achieving improvement in the yield of the single crystal and reduction of quality variation thereof in a method for detecting the diameter of a single crystal grown by the CZ process, and to provide a single crystal pulling apparatus.例文帳に追加

ＣＺ法により育成される単結晶の直径を検出する方法において、大口径、高重量結晶の直径の測定精度を向上し、単結晶の歩留まりの向上と品質ばらつきの低減を達成することができる単結晶直径の検出方法および単結晶引上げ装置を提供する。 - 特許庁

Because of a current mirror configuration, a drive section 100 and an output section 101 experience the same variation even if a process, voltage or temperature condition varies, and when the signal level of an input signal INT changes from "H" to "L", MOSFETs 5, 4 do not switch from an off state to an on state earlier while MOSFETs 3, 6 are on.例文帳に追加

駆動部１００と出力部１０１は、カレントミラー構成により、プロセス、電圧、温度条件が変動しても共に同一の変動となるため、入力信号ＩＮＴの信号レベルが“Ｈ”から“Ｌ”に切り替わる際、ＭＯＳＦＥＴ３、６がオンしているときに、ＭＯＳＦＥＴ５、４がオフ状態からオン状態に速く切り替わることはない。 - 特許庁

To provide an active element substrate and a liquid crystal display that can suppress small variation in drain potential during OFF-period of a thin-film transistor due to capacitances, respectively provided at superimposed portions of signal lines and a pixel electrode, while taking a wide process margin, and that can simplify the structure of signal lines, and improve the aperture ratio.例文帳に追加

プロセスマージンを広くとりながら、信号線と画素電極とを重畳配置したことによる容量に起因する、薄膜トランジスタがＯＦＦしている期間のドレイン電位の変動を小さく抑えることができ、かつ、信号線の構造を簡素化すると共に開口率を向上させ得る能動素子基板と液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image developing toner excellent in chargeability and transferability even when used in a low-speed through high-speed process, free of variation in offset occurrence temperature even in oilless fixing, and excellent in long-term cleanability of residual toner on a photoreceptor in blade cleaning, and to provide a method for manufacturing the same and an electrostatic latent image developer.例文帳に追加

低速から高速プロセスに使用された場合においても、帯電性、転写性に優れ、オイルレス定着においてもオフセット発生温度のばらつきがなく、かつブレードクリーニングにおける感光体上の残存トナーの長期に渡るクリーニング性に優れる静電潜像現像用トナー及びその製造方法、並びに静電潜像現像剤を提供することである。 - 特許庁

To provide a multilayer ceramic capacitor employing a dielectric porcelain composed of BT crystal grains and BCT crystal grains as a dielectric layer in which deterioration incident to time variation in high temperature load test can be suppressed, and a high insulation multilayer ceramic capacitor can be obtained without providing a step for reoxidation processing in the fabrication process.例文帳に追加

ＢＴ結晶粒子とＢＣＴ結晶粒子とから構成される誘電体磁器を誘電体層とする積層セラミックコンデンサについて、高温負荷試験における時間変化に伴う低下を抑制できる積層セラミックコンデンサ、ならびに、製造工程において再酸化処理の工程を設けなくても高絶縁性の積層セラミックコンデンサを提供する。 - 特許庁

To provide an optical film and its manufacture method by which defects in a stripe form can be reduced and a uniform metal compound layer can be formed, furthermore to provide an optical film which has small physical property variation under high temperatures and high humidity and eliminates need for a vacuum process, enabling a great cost reduction.例文帳に追加

本発明の目的は、すじ状の故障が低減されかつ、均一な金属化合物層を形成できる光学フィルム及び光学フィルムの製造方法を提供することであり、さらに、高温高湿条件でも物性変動することのない、また、真空プロセスを必要としないことから大幅なコスト低減が可能な光学フィルムを提供することにある。 - 特許庁