「process variation」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor device which can suppress variation of forming voltage incident to scaling-down, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

微細化に伴うフォーミング電圧の変動を抑制することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a drawing machine with arrangement spacings between gripping devices reduced by preventing positional variation of the gripping devices in the drawing process.例文帳に追加

延伸過程での掴み装置の位置変化を防止し、掴み装置の配置間隔を縮小化した延伸機を提供する。 - 特許庁

A detection circuit optimum for each type of process variation is set, in a system constitution for performing adaptive voltage scaling.例文帳に追加

適応型電圧スケーリングを実施するシステム構成において、プロセスばらつきの種類毎に最適な検出回路を設置する。 - 特許庁

To reduce variation in rotation of a developing roller by smoothing the driving force transmission between an image forming apparatus main part and a process cartridge.例文帳に追加

画像形成装置本体−プロセスカートリッジ間の駆動伝達を滑らかにして、現像ローラの回転変動を低減する。 - 特許庁

To prevent the variation of an etched depth in an etching process where the etching of the depth less than the thickness of a film to be etched is conducted.例文帳に追加

被エッチング膜の厚さよりも小さい深さのエッチングを行うエッチング加工におけるエッチング深さのばらつきを抑える。 - 特許庁

In the inspection process of the image forming apparatus before shipping, a control unit acquires a variation of resistance detected by a bridge circuit.例文帳に追加

画像形成装置の出荷前の検査工程で、制御部が、ブリッジ回路から検出された抵抗の変化量を取得する。 - 特許庁

Consequently, the process of film forming has no variation and then the need to stop the device is eliminated, so that the productivity of the device is improved.例文帳に追加

そのため成膜のプロセスが変動しないため、装置を停止する必要が無くなるため装置の生産性が向上する。 - 特許庁

To provide a memory device of which a state of a terminal can be varied in an optimum state in accordance with variation of process, voltage, and temperature.例文帳に追加

工程、電圧及び温度の変化に応じて端子の状態を最適に変化させることができるメモリ装置を提供する。 - 特許庁

To inhibit variation in size and speed of a droplet of a process liquid injected from a nozzle, and inhibit grow in size of the nozzle.例文帳に追加

ノズルから噴射される処理液の液滴の大きさおよび速度のばらつきを抑制し、ノズルの大型化を抑制すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which manufacturing process is simplified and variation in electric characteristics is reduced.例文帳に追加

製造工程を簡略化するとともに、電気的特性のばらつきを少なくした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To measure properties in a state of a chip, reduce color variation, and make a manufacturing process not complicated.例文帳に追加

チップの状態で特性を測定することができ、色のばらつきが少なく、かつ製造工程も複雑にならないようにする。 - 特許庁

To provide a multiple-unit type sustained release tablet having little variation of dissolution rate caused by the compression in tableting process.例文帳に追加

打錠工程の圧縮に起因する溶出速度の変化が少ないマルチプルユニットタイプの徐放性錠剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology with which time required for design of a semiconductor device is shortened taking into consideration of process variation.例文帳に追加

プロセスばらつきを考慮しつつ、半導体装置の設計に掛かる時間を短縮することができる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light emitting element in which adverse effect of environmental temperature variation in a fabricating process is small.例文帳に追加

作製工程における環境の温度変化に対して悪影響が小さい発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve a problem of the variation in the threshold voltage of a transistor due to the gate length, the gate width, and the variation in thickness of a gate insulating film, caused by a manufacturing process or the difference of a substrate used.例文帳に追加

トランジスタは、作製工程や使用する基板の相違によって生じるゲート長及びゲート幅並びにゲート絶縁膜の膜厚バラツキなどに起因して、そのしきい値電圧にバラツキが生じる。 - 特許庁

When the initial height/diameter ratio of the columnar sample is constant, the stress variation by the friction in the compression process is subjected to systematically FEM analysis and a relational formula of the stress variation and a friction coefficient is formed.例文帳に追加

円柱試料初期高径比が一定の場合に、圧縮過程における摩擦による応力変化を系統的にＦＥＭ解析した上で、応力変化と摩擦係数との関係式を構築する。 - 特許庁

To absorb a variation in writing characteristics, to eliminate a troublesome work for inputting a quantity of light correcting value in the manufacturing process, and to eliminate a variation in quantity of light between laser diodes.例文帳に追加

書き込み特性のばらつきを吸収すること、煩雑な製造工程での光量補正値入力作業を無くすこと、レーザーダイオード間の光量ばらつきを無くすことを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for drawing a glass preform manufacturing a drawn preform having high quality and little variation in the finished diameter by suppressing the variation of tension that acts on the glass preform during the drawing process.例文帳に追加

延伸処理時にガラス母材に作用する張力の変動を抑止して、仕上がり径の変動が少ない高品位の延伸母材を生産することのできるガラス母材の延伸方法を得る。 - 特許庁

To provide a container transferring device capable of restricting a variation of transferring position of a container in a filling machine and capable of performing a stable transferring showing a less amount of variation in position of the container with respect to each of the locations (sections) at each process.例文帳に追加

充填機において容器の搬送位置の変動を抑制し、各工程の各部所（セクション）に対する容器の位置変動の少ない安定した搬送ができる容器搬送装置を提供する。 - 特許庁

To prevent deterioration of exhaust emission due to air-fuel ratio variation by accurately preventing air-fuel ratio variation caused by residual evaporation of intake system right after changing over from purge execution to purge stop with a simple control process.例文帳に追加

パージ実行からパージ停止に移行した直後の吸気系の残留エバポに起因する空燃比変動を、簡単な制御処理で的確に防止し、空燃比変動による排気エミッションの悪化を防止する。 - 特許庁

To provide a delay lock loop circuit which can stably obtain a fine delay amount, independently of the variation of the temperature and the power source voltage or the variation of a delay amount due to the process conditions and so forth.例文帳に追加

温度および電源電圧の変動やプロセス条件等によるディレイ量の変動にかかわらず、微少な遅延量を安定的に得ることを可能にするディレイロックループ回路を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit having a clock distribution circuit reducing clock skew independently from temperature variation or voltage variation without requiring significant labor, and also to provide its fabricating process.例文帳に追加

多大な労力を必要とせず、温度変化や電圧変化に左右されずにクロックスキューを低減することができるクロック分配回路を備えた半導体集積回路及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the delay which is optimum at respective frequencies to be used and has small variation with respect to variation in process, temperature and voltage, in a clock synchronization type semiconductor storage device.例文帳に追加

本発明の目的は、クロック同期式半導体記憶装置において、使用される各周波数で最適な、かつプロセス、温度、電圧変動に対する変動量の小さいディレイを提供することにある。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor in which both a long-term potential variation and a short-term potential variation are suppressed, and to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus each having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

長期間の電位変動および短期間の電位変動がともに抑えられた電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

In the process of the distortion prevention measures, a message inducing to change an installation location is displayed and the process is not finished till the subsequent variation of the BD time becomes the threshold time or less.例文帳に追加

この歪み対策処理では，設置場所の変更を促すメッセージを表示し，その後のＢＤ時間の変化量が閾値時間以下とならなければ処理を終了させない。 - 特許庁

To provide a sewage treatment process for effluent sewerage, by which sludge can effectively be concentrated and the operation of a sewage treatment equipment for the process can easily be performed almost without being adversely affected by load variation and the installation space required for the sewage treatment equipment can be reduced.例文帳に追加

効果的に汚泥を濃縮することができ、負荷変動に強く運転が容易で省スペースの下水道放流を対象とした汚水処理方法を提供する。 - 特許庁

To realize a method of manufacturing a plasma display panel decreasing characteristic variation caused by deterioration by oxidation of a phosphor material in a thermal process in a production process.例文帳に追加

製造工程時の熱プロセスでの蛍光体材料の酸化による変質が原因と考えられる特性変化の小さいプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor substrate which reduces variation in polishing speed in a chemical mechanical polishing process (CMP process) for polishing the surface of a film provided on a semiconductor substrate by a polishing pad, and facilitates the process control.例文帳に追加

半導体基板上に設けられた膜の表面を、研磨パッドによって化学機械的に研磨するプロセス（ＣＭＰプロセス）における研磨速度のバラツキを低減し、プロセス制御が容易な半導体基板の研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing ceramics which enables to easily design and manufacture ceramics suppressed in variation of characteristics even in the manufacturing process by evaluating the characteristics and properties even in the manufacturing process as the same as in the developing process.例文帳に追加

セラミックスの製造工程においても開発段階と同じ特性や性状の評価を行い、製造工程中においても特性の変動を抑えたセラミックスを容易に設計し製造できるセラミックスの製法を提供する。 - 特許庁

The use of the historical defect list enables to obtain accurately within a short period of time, a selection of each manufacturing process with defects, a variation of defects in the manufacturing process, and the analysis result of a growth process and the like.例文帳に追加

従って、かかる欠陥来歴リストを用いることにより、欠陥の発生した製造工程毎の選別や製造プロセスでの欠陥の変化，成長過程などの解析結果を短時間でかつ正確に得ることが可能となる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, a process cartridge, and a shipping method for process cartridge that reduce image defects generated in the image forming apparatus having a process cartridge loaded in and unloaded from an image forming apparatus body and variation in image quality caused by the process cartridge in use.例文帳に追加

画像形成装置本体内に着脱されるプロセスカートリッジを有する画像形成装置において生じる画像不良と、使用するプロセスカートリッジにより生じる画像品質のばらつきとを低減させる画像形成装置、プロセスカートリッジ、及びプロセスカートリッジの出荷方法を提供する - 特許庁

To reduce variation in performance of a motor by making a shape of a lead wire (pigtail) throughout the manufacturing process of the motor.例文帳に追加

電動機の製造過程を通じてリード線（ピグテール）の形状を安定させて、電動機の性能のバラツキを低減することを課題とする。 - 特許庁

To provide a small variable capacitor having high capacitance and variation rate of capacitance in which the capacitance can be adjusted finely, and to provide its manufacturing process.例文帳に追加

小型で容量、容量変化の割合が大きく、容量の微調整が可能な可変キャパシタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a PLL circuit which operates fast with a low power supply voltage and is hardly affected by variation in temperature and process conditions.例文帳に追加

低電源電圧で高速動作すると共に温度及びプロセス条件の変動の影響を受けにくいＰＬＬ回路を提供する。 - 特許庁

As a result, the process variation in the characteristics of the TFT 135 can be corrected and therefore, the occurrence of the display unevenness can be suppressed.例文帳に追加

これにより、ＴＦＴ１３５の特性のプロセスバラツキを補正することができるので、表示ムラの発生を抑えることが可能となる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a plastic optical fiber composed of stacked core, clad and protection tube having small variation in clad diameter and core diameter at a single process.例文帳に追加

一段階でクラッド径、コア径のばらつきの少ないコア、クラッド及び保護チューブが積層されてなるプラスチック光ファイバーの製造方法。 - 特許庁

PROCESS-VARIATION TOLERANT DIODE, STANDARD CELL INCLUDING SAME, TAG AND SENSOR CONTAINING SAME, AND METHOD FOR FABRICATING SAME例文帳に追加

プロセス変動に耐性を有するダイオード、同ダイオードを有するスタンダードセル、同ダイオードを含むタグ及びセンサ、並びに同ダイオードを製造する方法 - 特許庁

To provide a flash memory device in which accurate data can be read by load due to a position of a memory cell and process variation also.例文帳に追加

メモリセルの位置による負荷及び工程変化によっても正確なデータを読み出すことが可能なフラッシュメモリ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a continuous manufacturing process by which a strand prepreg having a small variation in water content and a reduced amount of voids is manufactured with a good long-term productivity.例文帳に追加

長期生産性良く、樹脂含有率のばらつきやボイドが少ないストランドプリプレグを連続的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit capable of ensuring a short power supply start-up time regardless of variation in manufacturing process conditions.例文帳に追加

製造プロセス条件の変動に関わらず短い電源立ち上げ時間を確保することが可能な半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING FOCUS VARIATION IN PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS USING TEST FEATURE PRINTED FROM PHOTOMASK TEST PATTERN IMAGE例文帳に追加

フォトマスクのテストパターンイメージから印刷されたテストフィーチャーを用いるフォトリソグラフィ工程における焦点変化を測定するシステム及び方法 - 特許庁

To successively detect an accurate toner residual amount regardlessly the variation of the electrostatic capacity of a process cartridge or an image forming device body.例文帳に追加

プロセスカートリッジあるいは画像形成装置本体の静電容量のばらつきに関わりなく正確なトナー残量を逐次に検出する。 - 特許庁

A learning process means 106 finds the variation quantities of the layout features of the extracted logical elements and stores them as a history.例文帳に追加

学習処理手段１０６は、抽出された論理要素のレイアウト特徴の変動量を求め、これを履歴として格納する。 - 特許庁

The minimum spacing calculation part 855 calculates a minimum spacing between a via pattern and a wiring pattern based on the materialization value of the process variation.例文帳に追加

最小間隔算出部８５５は、工程ばらつきの実現値に基づいてビアパターンと配線パターンとの最小間隔を算出する。 - 特許庁

Brightness signals are subjected to a low pass filter process according to the result of the comparison of the variation of a color signal with that of the brightness signal.例文帳に追加

色信号の変化量と、輝度信号の変化量を比較した結果に応じて、適応的に、輝度信号にローパスフィルタ処理を施す。 - 特許庁