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second layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21457件
The manufacturing method comprises forming first trenches into a one conductivity type semiconductor substrate 1, forming side wall spacers 5 of a first insulation layer along the side walls of the first trenches, forming second trenches 6 into the bottom faces of the first trenches, and filling a second insulation film into the first and second trenches 6.例文帳に追加
本発明の請求項1に係る半導体装置の製造方法は、一導電型の半導体基板1に第一のトレンチ4を形成する工程と、第一のトレンチ4の側壁に沿って第一の絶縁膜からなるサイドウォールスペーサ5を形成する工程と、第一のトレンチ4の底面に第二のトレンチ6を形成する工程と、第一及び第二のトレンチ4,6の内部に第二の絶縁膜7を充填する工程とを含んでいることを特徴とする。 - 特許庁
This plasma display panel includes a first substrate and a second substrate disposed to face each other, a barrier rib disposed in a space between the first and second substrates and defining a plurality of discharge cells, a phosphor layer formed in each of the discharge cells, an address electrode formed on the second substrate, and a display electrode formed on the first substrate to extend in a direction crossing the address electrode.例文帳に追加
本発明によるプラズマ表示パネルは、互いに対向配置される第1基板及び第2基板と、前記第1基板と第2基板との間の空間に配置されて複数の放電セルを区画する隔壁と、前記それぞれの放電セル内に形成される蛍光体層と、前記第2基板に形成されるアドレス電極と、前記第1基板に前記アドレス電極と交差する方向に伸長形成される表示電極とを含む。 - 特許庁
The flat display device provided with the display region for embodying a prescribed image between a first substrate and a second substrate includes a sealing material which adheres the first substrate to the second substrate, at least a wiring part disposed between the first substrate or the second substrate and the sealing material and a cover layer which intervenes between the sealing material and the wiring part and covers the wiring part.例文帳に追加
本発明は、第1基板と第2基板間に所定の画像を具現する表示領域が具備された平板表示装置において、前記第1基板と第2基板とを接着する密封材と、前記第1基板または第2基板と前記密封材との間に具備された少なくとも1つの配線部と、前記密封材と前記配線部との間に介在されて前記配線部を覆う被覆層と、を含むことを特徴とする平板表示装置である。 - 特許庁
The method comprises a step for preparing a silicon substrate, a step for forming a first conductivity type impurity region in a first region of the silicon substrate, a step for forming a second conductivity type impurity region in a second region which is separated from the first region of the silicon substrate and a step for forming a porous silicon layer by chemically etching the surface of the second conductivity type impurity region.例文帳に追加
本発明のフォトダイオードの製造方法は、シリコン基板を用意する段階と、前記シリコン基板の第1領域に第1導電型不純物領域を形成する段階と、前記シリコン基板の前記第1領域と離隔した第2領域に第2導電型不純物領域を形成する段階と、前記第2導電型不純物領域の表面を化学的エッチング処理して多孔質シリコン層を形成する段階を含む。 - 特許庁
Each transistor 21 includes a first ohmic contact region 115 and a second ohmic contact region 119 formed in a region demarcated by crossing of each conductive line 8 and each function line 7, and a channel region demarcated by the first ohmic contact region 115 and the second ohmic contact region 119 in the semiconductor layer.例文帳に追加
各トランジスタ21は、各導電線8と各機能線7との交差によって画定される領域に形成された第1のオーミックコンタクト領域115、第2のオーミックコンタクト領域119および前記半導体層中において前記第1のオーミックコンタクト領域115および前記第2のオーミックコンタクト領域119によって画定されたチャネル領域含む。 - 特許庁
The intermediate layer comprises a melt-processible thermoplastic solution which is solidified containing the first melt-processible thermoplastic resin and the second thermoplastic resin, wherein in this solution the first thermoplastic resin and the second thermoplastic resin exist as individually identifiable components dispersed relative to one another in an essentially non-homogenous manner.例文帳に追加
中間層は、第1の溶融加工可能な熱可塑性樹脂と、第2の熱可塑性樹脂とを含み、固化される溶融加工可能な熱可塑性溶液でできており、この溶液中で、第1の熱可塑性樹脂と第2の熱可塑性樹脂とは、基本的に非均質な状態で互いに対して分散された個別的に識別できる形で存在している。 - 特許庁
The semiconductor device has a first interlayer insulating film formed on an insulating film and a gate electrode on a semiconductor layer, a second interlayer insulating film formed on the first interlayer insulating film, and contact holes formed in the second interlayer insulating film, the first interlayer insulating film and the insulating film.例文帳に追加
本発明における半導体装置において、半導体層上の絶縁膜およびゲイト電極上に形成された第1の層間絶縁膜と、前記第1の層間絶縁膜の上に形成された第2の層間絶縁膜と、前記第2の層間絶縁膜、前記第1の層間絶縁膜、および前記絶縁膜に設けられたコンタクトホールとを有する。 - 特許庁
A phosphor conversion light emitting device includes a light emitting layer disposed between n-type region and a p-type region, so as to emit light having a first peak wavelength; a first phosphor constituted so as to emit light having a second peak wavelength; a second phosphor constituted so as to emit light having a third peak wavelength.例文帳に追加
蛍光体変換発光デバイスが、n型領域とp型領域との間に配置され第1のピーク波長を有する光を発するように構成された発光層と、第2のピーク波長を有する光を発するように構成された第1の蛍光体と、第3のピーク波長を有する光を発するように構成された第2の蛍光体と、を具備する。 - 特許庁
An array base plate 100 includes an organic EL element 40 formed by a first electrode 60 formed like an independent island in each pixel arranged in a matrix, a second electrode 66 disposed opposite to the first electrode 60 and formed in common to all pixels, and a light emitting layer 64 held between the first electrode 60 and the second electrode 66.例文帳に追加
アレイ基板100は、マトリクス状に配置された画素毎に独立島状に形成された第1電極60と、第1電極60に対向して配置され全画素に共通に形成された第2電極66と、第1電極60と第2電極66との間に保持された発光層64と、によって構成された有機EL素子40を備えている。 - 特許庁
The piezoelectric element 1 includes a plurality of piezoelectric layers 11 laminated in a thickness direction, an element body 10 including a plurality of first and second counter electrodes 12a, 12b alternately disposed to face each other via the piezoelectric layer 11 in the thickness direction, and first and second external electrodes 13a, 13b.例文帳に追加
圧電素子1は、厚み方向に積層されている複数の圧電体層11と、厚み方向において、圧電体層11を介して互いに対向するように交互に配置されている複数の第1及び第2の対向電極12a、12bとを有する素子本体10と、第1及び第2の外部電極13a、13bとを備える。 - 特許庁
The liquid crystal alignment processing method further includes a process of performing rubbing treatment on the alignment layer 7 by using the rubbing roller 5, wherein the rubbing cloth 3 is provided with first piles 2 formed on a region near the seam 4 and second piles 1 formed on a region except the first piles 2 and the first piles 2 have smaller alignment control power than the second piles 1.例文帳に追加
ラビングローラ5を用いて配向膜7にラビング処理を施す工程をさらに備えており、ラビング布3は、継ぎ目4に近い領域に形成された第1のパイル2と、第1のパイル2を除く領域に形成された第2のパイル1とを備え、第1のパイル2は第2のパイル1よりも小さい配向規制力を有する。 - 特許庁
In the solid-state image sensing element having the selective transistor 206 adjacent to an amplifying transistor 205, an interlayer insulating layer 7 is provided between a first well region 2a of the amplifying transistor 205 and a second well region 2b of the selective transistor 206, and an impurity concentration of the second well region 2b is higher than that of the first well region 2a.例文帳に追加
増幅トランジスタ205と隣接した選択トランジスタ206を有する固体撮像素子において、増幅トランジスタ205の第1ウェル領域2aと選択トランジスタ206の第2ウェル領域2bとの間には層間絶縁層7が設けられ、第1ウェル領域2aの不純物濃度よりも第2ウィル領域2bの不純物濃度が高い。 - 特許庁
In the separator for an electrochemical element made of a three-layered porous sheet, the content of a fibrillated thermal resistance fiber of a second layer is larger than that of each of first and third layers, cellulose is contained in any one of the first and second layers, and the content of cellulose is 5-65 mass% in the entire porous sheet.例文帳に追加
3層である多孔質シートからなる電気化学素子用セパレータであって、第2層のフィブリル化耐熱性繊維の含有量が、第1層と第3層よりも多く、且つ、少なくとも第1層と第2層の何れか一方の層にセルロースを含有し、セルロースの含有率が多孔質シート全体に対して5〜65質量%である電気化学素子用セパレータ。 - 特許庁
This semiconductor device includes a semiconductor layer having the superlattice structure in which a different kind of a first and a second material layers are alternately laminated for multiple layers, in which many holes are formed in each of first and second material layers which form the superlattice structure and is filled up with a material of other material layers adjacent to respective holes in the material layers.例文帳に追加
異種の第1及び第2物質層が交互的に多重積層されている超格子構造の半導体層を含み、超格子構造を形成する前記第1物質層と第2物質層それぞれに多数のホールが形成され、当該物質層の各ホールに隣接した他の物質層の物質が充填されている半導体素子である。 - 特許庁
The delivery slip 10 comprises a first sheet 11 in which printings P1 are applied on the both sides of a first sheet substrate 11A, and a second sheet 12 provided as a sheet different from the first sheet 11, in which an adhesive layer 12B is provided on one side of a second sheet substrate 12A, and a printing P2 is applied on the other side of that.例文帳に追加
第1のシート基材11Aの両面に印字P1が施される第1のシート11と、当該第1のシート11とは別体に設けられるとともに、第2のシート基材12Aの一方の面に接着剤層12Bが設けられ他方の面に印字P2が施される第2のシート12とにより配送伝票10が構成されている。 - 特許庁
A partition layer 15, positioned adjacent to the first guide element 13, that allows displacement of the magnetic coil 3 relative to the base member 2 before the second guide element 14 engage the first guide element 13, and fixes the second guide element 14 to the first guide element 13 when the base member 2 and the magnetic coil 3 are pushed toward each other.例文帳に追加
第1の案内要素13に隣接して配置された区画層15は、第2の案内要素14が第1の案内要素13と係合する前に、基部材2に対して磁気コイル3が移動できるようにし、基部材2と磁気コイル3とが互いに向って押されたとき、第2の案内要素14を第1の案内要素13に固定する。 - 特許庁
A first and a second protection layers 2, 3, consisting of a fiber reinforced plastic having a matrix obtained by solidifying a liquid resin material at room temperature by a curing agent, and a shield layer 4 obtained by impregnating the matrix of the fiber reinforced plastic into a net constituted of a conductive material and formed between the first and the second protection layers 2, 3, are provided.例文帳に追加
常温で液体の樹脂材料を硬化剤で固化した母材を有する繊維強化プラスチックからなる第1及び第2の保護層2,3と、前記第1及び第2の保護層2,3の間に形成された、導電性材料で構成されるネットに前記繊維強化プラスチックの母材を含浸させたシールド層4とを有するものとする。 - 特許庁
Impurity concentration in an n-type region 121 located just under a separation region IMS1 held between a first end E1 of the first base region 112 and a second end E2 of the second base region 113 is made higher than that in an n-type layer 111 located just under the same region 121, in a first principal surface MS1 of one chip.例文帳に追加
1チップの第1主表面MS1の内で、第1ベース領域112の第1端部E1と第2ベース領域113の第2端部E2とで挟まれた分離領域IMS1直下に位置するN型領域121の不純物濃度は、同領域121直下のN型層111のそれよりも高く設定されている。 - 特許庁
The relay connecting member 6 has a first connecting member 8, provided with adjacent first wiring structures 11, 12 which are electrically connected to the probe 3 and are formed on different layers and a second connecting member 9 provided with second wiring structures 16, which are electrically connected to a wiring structure 7 provided in the inspection circuit 5 and are formed on the same layer.例文帳に追加
中継接続部材6は、プローブ3と電気的に接続し、隣接するもの同士が異なる層上に形成された第1配線構造11、12を備えた第1接続部材8と、検査回路5に備わる配線構造7と電気的に接続され、同一層上に形成された第2配線構造16を備えた第2接続部材9とを有する。 - 特許庁
On the prism 5, a second condenser 7 for condensing the light (he) with which the side of the surface of the substrate 1 is irradiated is provided and between the condenser 7 and the prism 5, an intra-layer lens 6 for making light he condensed by the second condenser 7 into a parallel light (hb) to enter the prism 5 is provided.例文帳に追加
分光プリズム5上には、基板1の表面側に照射された受光光heを集光するための第2集光レンズ7を設け、第2集光レンズ7と分光プリズム5との間に第2集光レンズ7で集光させた光hcを平行光hbにして分光プリズム5に入射させるための層内レンズ6を設けた。 - 特許庁
The member for removing foreign matters adhering to the probe tip is constituted of a base plate 3, a first elastic member 4a formed on the base plate 3, a second elastic member 4b formed on the first elastic member 4a, and an abrasive layer 5 formed on the second elastic member 4b and is constituted of hard particles 5a and a binding material 5b.例文帳に追加
プローブ先端付着異物の除去部材を、ベース板3と、ベース板3上に形成された第1の弾性部材4aと、第1の弾性部材4a上に形成された第2の弾性部材4bと、第2の弾性部材4b上に形成され硬質粒子5aとバインダ材料5bで構成された研磨層5と、で構成する。 - 特許庁
A thickened layer 40 is provided on a first electrode 24 as well as a second electrode 26 which decreases static capacity on both the first and the second electrodes 24, 26, so that a ratio of a potential difference V_1 on the first electrode 24b gets larger, and that V_3 on a common electrode 28c gets smaller in a light-on emission zone 20a.例文帳に追加
第1電極24,第2電極26の上に増厚層40が設けられていることから、それら第1電極24,第2電極26上の静電容量が減少させられているので、点灯発光区画20aにおいては、第1電極24b上の電位差V_1の割合が大きくなり、共通電極26c上の電位差V_3の割合が小さくなる。 - 特許庁
First electrode plate of a memory cell is disposed on the circumferential edge at the lower surface part of an insular semiconductor structure in a substrate, a second electrode plate is disposed in the surface at the lower surface part of the insular semiconductor structure and in the surface of the substrate on the outside of the insular semiconductor structure, and a capacitor dielectric layer 112 is interposed between the second electrode plate and the first electrode plate.例文帳に追加
メモリセルの第一電極板は基板の島状半導体構造下面部分の周縁に設置され、第二電極板は島状半導体構造下面部分の表面内と島状半導体構造外側の基板表面内とに設置され、キャパシタ誘電層112は第二電極板と第一電極板との間に設置されている。 - 特許庁
A first and a second polarizers 14a and 14b which construct a pair of polarizers whose axes of polarization are mutually rotated are provided respectively on upper and lower part of a device consisting of the second dielectric material multi-layered film 13b/the transparent non-magnetic single crystal substrate 11/the single crystal transparent magnetic material layer 12/the first dielectric material multi-layered film 13a.例文帳に追加
この第2の誘電体多層膜13b/透明非磁性単結晶基板11/単結晶透明磁性体層12/第1の誘電体多層膜13aからなるデバイスの上下には、偏光軸を相互に回転させた1対の偏光子をなす第1及び第2の偏光子14a、14bが対向して設けられている。 - 特許庁
The trench gate type semiconductor device is characterized in that adjacent first and second regions are formed between adjacent insulating gates and a third semiconductor layer in the second region is electrically connected to a first main electrode via an insulating body with a high electric capacity.例文帳に追加
上記目的を達成するために、本発明のトレンチゲート型半導体装置は、隣り合う絶縁ゲートの間に形成された領域であって、互いに隣接する第1領域及び第2領域の前記第2領域における第3半導体層が、大きな電気的容量を持つ絶縁体を介して第1主電極に電気的に接続されていることを特徴とする。 - 特許庁
A semiconductor device comprises a memory cell including a first transistor 160, a second transistor 162, and an insulation layer 128 provided between a source region or a drain region 120 of the first transistor 160 and a channel formation region 144 of the second transistor 162.例文帳に追加
第1のトランジスタ160と、第2のトランジスタ162と、第1のトランジスタ160のソース領域またはドレイン領域120と、第2のトランジスタ162のチャネル形成領域144との間に設けられた絶縁層128と、を含むメモリセルを有し、第1のトランジスタ160と、第2のトランジスタ162とは、少なくとも一部が重畳して設けられる半導体装置である。 - 特許庁
In the multiple exposure method for at least one substrate covered with a photosensitive layer, first exposure is performed in a first projection system (17) according to an exposure parameter of a first group, and second exposure is performed in a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17).例文帳に追加
感光層により被覆される少なくとも1個の基板の多重露光方法において、第1の露光は、第1組の露光パラメータにしたがって第1の投影系(17)において行なわれ、第2の露光は、第2組の露光パラメータを用いて、前記第1の投影系(17)から空間的に分離される第2の投影系(18)において行なわれる。 - 特許庁
The printed wiring board includes the first and second signal pads for differential signals, at least one ground pad arranged close to them, and the via arranged an approximately equal distance from each of the first and second signal pads for connecting a ground pattern portion on a layer adjacent thereto directly to the ground pad, or through a drawn wire.例文帳に追加
プリント配線基板は、差動信号用の第1、第2の信号用パッドと、その近傍に配置された少なくとも1個のグラウンド用パッドと、前記第1、第2の信号用パッド夫々から略等距離に配置されて隣接層のグラウンドパターン部を前記グラウンド用パッドに対して直接に或いは引き出し線を介して接続するビアとを備える。 - 特許庁
The first capacitor, comprising the first electrode part 103a and the third electrode part 106a and the second capacitor that comprises the second electrode part 103b and the fourth electrode part 106b are connected in series by electrical connections formed by including the third electrode part 106a and the fourth electrode part 106b in the conductive layer 106.例文帳に追加
第3の電極部106a及び第4の電極部106bが導電層106に含まれることによる電気的接続によって、第1の電極部103a及び第3の電極部106aからなる第1のキャパシタと、第2の電極部103b及び第4の電極部106bからなる第2のキャパシタとは直列に接続されている。 - 特許庁
The semiconductor element includes a semiconductor nano-wire 1 having a first region 7 provided with pn junction or pin junction, and a second region 8 provided with a field effect transistor structure; a pair of electrodes (2, 3) to be connected to both ends of the semiconductor nanowire 1; and a gate electrode 4 provided on at least one part of the second region via an insulation layer 5.例文帳に追加
PN接合またはPIN接合を備える第1の領域7と、電界効果型トランジスタ構造を備える第2の領域8とを有する半導体ナノワイヤ1と、半導体ナノワイヤ1の両端に接続される一対の電極(2,3)と、第2の領域の少なくとも一部に絶縁層5を介して設けられているゲート電極4とを備えている。 - 特許庁
In the multi-layer release film arranged between a sheet and a circuit board when the board is heated/pressed, the first release film, the second release film, the third release film, and the fourth release film are laminated in this order, and the Rockwell's hardness of the second release film is 70-88.例文帳に追加
回路基板を加熱、加圧成形する際に、板状体と回路基板との間に配置される離型多層フィルムであって、第1の離型フィルムと、第2の離型フィルムと、第3の離型フィルムと、第4の離型フィルムとがこの順に積層されてなり、かつ前記第2の離型フィルムのロックウェル硬度が70〜88であることを特徴とする離型多層フィルムである。 - 特許庁
The liquid crystal lens includes a liquid crystal layer 3, that contains liquid crystal molecules having refractive index anisotropy, is disposed between the first and second electrodes 11Y and 21, and forms a phase difference distribution in a predetermined direction relative to incident rays of light, as a result of a changing the arrangement of the liquid crystal molecules, according to voltages applied by the first and second electrodes 11Y and 21.例文帳に追加
屈折率異方性のある液晶分子を含み、第1の電極11Yと第2の電極21との間に配置され、第1の電極11Yと第2の電極21とによって印加される電圧に応じて液晶分子の配列が変化することで入射光線に対して所定方向に位相差分布が形成される液晶層3を備える。 - 特許庁
A liquid crystal display element has a first liquid crystal layer formed in contact with the same electrode keeping a first liquid crystal for selecting and reflecting a first wavelength band, and a second liquid crystal for selecting and reflecting a second wavelength band different from the first wavelength band and allowing a threshold voltage required for drive to differ from the first liquid crystal arranged in a pixel unit.例文帳に追加
液晶表示素子は、第一波長帯域を選択反射する第一液晶と、第一波長帯域とは異なる第二波長帯域を選択反射し、駆動に要する閾値電圧が第一液晶とは異なる第二液晶とが、画素単位で配置される同一の電極に接して形成される第一液晶層を有する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a display apparatus which has a display device including a first substrate having an electrode terminal at the outer edge and a second substrate placed opposite to the first substrate so that the electrode terminal is exposed, wherein a wiring connection part and also the end of the second substrate can be coated with a resin layer.例文帳に追加
外縁部に電極端子を有する第1の基板と、電極端子を露出させるように対向配置した第2の基板とからなる表示デバイスを有する表示装置の製造方法において、配線接続部および第2の基板の端部までを樹脂層で被覆することが可能な表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The SOI 100 includes: a silicon substrate 101; a first insulating film 102 formed on the silicon substrate 101; a second insulating film 103 formed on the first insulating film 102; a third insulating film 104 formed on the second insulating film 103; and a silicon layer 106 formed on the third insulating film 104.例文帳に追加
シリコン基板101と、シリコン基板101上に形成された第1絶縁膜102と、第1絶縁膜102上に形成された第2絶縁膜103と、第2絶縁膜103上に形成された第3絶縁膜104と、第3絶縁膜104上に形成されたシリコン層106とからなるSOI基板100の構成を有する。 - 特許庁
A side face electrode electrically connected to the second ohmic electrode is formed on an insulation film formed on an inner wall surface of the opening, and a first contact electrode electrically connected to the first ohmic electrode and a second contact electrode electrically connected to the side face electrode are formed on the insulation film formed on the contact layer.例文帳に追加
開口の内壁面上に形成された絶縁膜上に、第2オーミック電極と電気的に接続される側面電極を形成すると共に、コンタクト層上に形成された絶縁膜上に、第1オーミック電極と電気的に接続される第1コンタクト電極、及び、側面電極と電気的に接続される第2コンタクト電極を形成する。 - 特許庁
The organic luminescent device includes: a first electrode, a light emitting member located on the first electrode and including at least two light emitting units displaying the same colors or colors different from each other, a second electrode located on the light emitting member, and a sealing filler layer located on the second electrode and including a light emitter displaying at least one color.例文帳に追加
有機発光装置は、第1電極と、前記第1電極上に位置し、同一または互いに異なる色を表示する少なくとも二つの発光ユニットを含む発光部材と、前記発光部材上に位置する第2電極と、前記第2電極上に位置し、少なくとも一つの色を表示する発光体を含む封止用充填層と、を含む。 - 特許庁
A first protrusion electrode 103 and a second protrusion electrode 104 at ends of the first spiral electrode 101 and the second spiral electrode 102 that are opposite to the connection electrode 105 have a shape extending in a direction perpendicular to the plane, have a length at which each of the protrusion electrodes protrudes from the first magnetic layer 11, and function as the end electrodes of the inductor 1.例文帳に追加
第1スパイラル電極101と第2スパイラル電極102の接続電極105側と反対の端部である第1突起電極103および第2突起電極104は、前記平面に垂直な方向へ延びる形状からなり、第1磁性体層11からも突出する長さを有し、インダクタ1の両端電極として機能する。 - 特許庁
The semiconductor device includes: a first semiconductor element and second semiconductor element whose back surfaces don't have each of the terminal surfaces and are bonded with an adhesive layer interposed between them; a terminal member provided on the same surface as the terminal surface of the second semiconductor element; and a conductive wire connecting the terminal member with the terminal surface of the first semiconductor element.例文帳に追加
半導体装置が、互いの端子面を有さない背面同士が接着剤層を介して接着された第1の半導体素子と第2の半導体素子と、第2の半導体素子の端子面と同一面に設けられた端子部材と、前記端子部材と前記第1の半導体素子の端子面とを接続する導電性ワイヤとを備える。 - 特許庁
A boundary 16 between a circuit protection region 14 of a second electronic component 12 and a terminal region 15 is located on a single layer region 23 of an anisotropic conductive film 20, and thermo-compression bonding is applied to the anisotropic conductive film 20 after temporarily installing the anisotropic conductive film 20 so as to make the terminal region 15 of the second electronic component 12 located on a two-layered region 24 of the anisotropic conductive film 20.例文帳に追加
異方性導電フィルム20の単層領域23上に第2の電子部品12の回路保護領域14と端子領域15との境界16が位置し、異方性導電フィルム20の2層領域24上に第2の電子部品12の端子領域15が位置するように異方性導電フィルム20を仮設置して熱圧着する。 - 特許庁
The method for manufacturing the guide wire includes processes for preparing a first linear wire 2 made of a Ni-Ti alloy and a second linear wire 3 made of stainless steel, welding the first wire 2 and the second wire 3 to obtain a wire body 10 with a weld part 14, and forming a coating layer 5 for covering the weld part 14.例文帳に追加
ガイドワイヤの製造方法は、Ni−Ti系合金で構成された線状の第1ワイヤ2と、ステンレス鋼で構成された線状の第2のワイヤ3とを用意する工程と、第1ワイヤ2と第2ワイヤ3とを溶接し、溶接部14を有するワイヤ本体10を得る工程と、溶接部14を覆う被覆層5を形成する工程とを有する。 - 特許庁
There are provided a touch screen which includes: a first transparent electrode formed in a transparent substrate; a second transparent electrode formed in a transparent film; and a transparent adhesive layer positioned between the first transparent electrode and the second transparent electrode, and formed of a transparent adhesive containing conductive balls, and a method for continuously manufacturing the touch screen.例文帳に追加
透明基板に形成された第1透明電極、透明フィルムに形成された第2透明電極、および前記第1透明電極と第2透明電極との間に位置する、導電性ボールの含まれる透明接着剤で形成された透明接着層を含んでなるタッチスクリーン、およびその連続式製造方法を提供する。 - 特許庁
The semiconductor device comprises: a first interlayer insulating film formed on a insulating film on a semiconductor layer and a gate electrode; a second interlayer insulating film formed on the first interlayer insulating film; and contact holes provided in the second interlayer insulating film, the first interlayer insulating film, and the insulating film.例文帳に追加
本発明における半導体装置において、半導体層上の絶縁膜およびゲイト電極上に形成された第1の層間絶縁膜と、前記第1の層間絶縁膜の上に形成された第2の層間絶縁膜と、前記第2の層間絶縁膜、前記第1の層間絶縁膜、および前記絶縁膜に設けられたコンタクトホールとを有する。 - 特許庁
In the front type projector having a thin film transistor including a semiconductor layer having a channel forming region, a source region and a drain region and an island-shaped gate electrode, first wiring to which the gate electrode is connected and second wiring to which the source region or the drain region is connected are orthogonal to each other and the second wiring is disposed so as to be parallel to and superposed on the capacity wiring.例文帳に追加
チャネル形成領域、ソース領域、及びドレイン領域を有する半導体層と、島状のゲート電極とを備えた薄膜トランジスタを有し、ゲート電極が接続する第1配線と、ソース領域又はドレイン領域が接続する第2配線とは直交し、第2配線や容量配線と平行かつ重なるように配置されている。 - 特許庁
In the set operation of changing the resistance change layer from the first state of having a first resistance value to the second state of having a second resistance value lower than the first resistance value, the control unit increases the upper limit value of the current to be supplied to the first wiring on the basis of the change of the potential of the first wiring when applying a set operation voltage to the first wiring.例文帳に追加
制御部は、抵抗変化層を、第1抵抗値を有する第1状態から、第1抵抗値よりも低い第2抵抗値を有する第2状態に変化させるセット動作において、第1配線にセット動作電圧を印加する際に、第1配線の電位の変化に基づいて第1配線に供給される電流の上限値を増やす。 - 特許庁
A semiconductor device comprises: a first interlayer insulating film formed on an insulating film and a gate electrode on a semiconductor layer; a second interlayer insulating film formed on the first interlayer insulating film; and contact holes formed in the second interlayer insulating film, the first interlayer insulating film and the insulating film.例文帳に追加
本発明における半導体装置において、半導体層上の絶縁膜およびゲイト電極上に形成された第1の層間絶縁膜と、前記第1の層間絶縁膜の上に形成された第2の層間絶縁膜と、前記第2の層間絶縁膜、前記第1の層間絶縁膜、および前記絶縁膜に設けられたコンタクトホールとを有する。 - 特許庁
The sum of retardations of the first 1/4 wavelength plate, the second 1/4 wavelength plate, and the retardation layer disposed between the first and second 1/4 wavelength plates, in a thickness direction at a wavelength of 550 nm, is preferably between -140 nm and +140 nm or between 410 nm and 690 nm.例文帳に追加
前記第1の1/4波長板、前記第2の1/4波長板、および前記第1の1/4波長板と前記第2の1/4波長板との間に配置された前記位相差層の波長550nmにおける厚み方向のレターデーションの合計は、−140nm〜+140nm、または410nm〜690nmの範囲内であることが好ましい。 - 特許庁
A first NSG film (first insulating film) 31 by a high density plasma CVD method and a second NSG film (second insulating film) 32 by a plasma CVD method are laminated on an uppermost wiring layer 20 functioning as a fuse to form a first protective film 30, and then the surface of the protective film 30 is flattened by a CMP method.例文帳に追加
ヒューズとして機能する最上層配線層20上に、高密度プラズマCVD法による第一のNSG膜(第一の絶縁膜)31と、プラズマCVD法による第二のNSG膜(第二の絶縁膜)32を積層して第一の保護膜30を形成した後、この第一の保護膜30の表面をCMP法によって平坦にする。 - 特許庁
The manufacturing method of the thin-film device includes a step of transferring a thin-film element (transfer object layer 110) on a second conductive transfer substrate 120 and a step thereafter of connecting an electrode terminal 130 for imparting reference potential to a thin film element circuit formed of the thin-film element, or the like, to the second conductive transfer substrate 120.例文帳に追加
本発明に係る薄膜装置の製造方法は、導電性を有する第二転写基板120上に薄膜素子(被転写層110)を転写した後、その薄膜素子などによって形成された薄膜素子回路に基準電位を与える電極端子130を、導電性を有する第二転写基板120と接続する。 - 特許庁
The light-emitting device includes a first electrode injecting an electron hole, a second electrode for injecting an electron, facing against the first electrode and a semiconductor nanocrystal layer, located between the first electrode and the second electrode, that includes a semiconductor nanocrystal particles and a filling material for filling the void between the semiconductor nanocrystal particles.例文帳に追加
正孔を注入する第1電極と、前記第1電極に対向する、電子を注入する第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に位置し、半導体ナノ結晶の粒子と、前記半導体ナノ結晶の粒子間の間隙を満たす充填物質とを含む半導体ナノ結晶層と、を含む発光素子である。 - 特許庁
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