「spin table」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A spin treatment device comprises a spin cup 1 freely opened above, a windshield cover 4 on the spin cup 1, an in-cup rotating table 2 in the spin cup 1, and an intake 8 and an opening section 9 for an arm provided to the windshield cover 4.例文帳に追加

上方を解放したスピンカップ１と、スピンカップ１上の風防カバー４と、スピンカップ１内のカップ内回転テーブル２とを有し、風防カバー４に吸気口８とアーム用開口部９とを設ける。 - 特許庁

When a spin table 3 is rotated at the time of forming a thin film on a substrate 2, a blade 14 is rotated synchronously with the rotation of the spin table 3 to more reduce the number of rotation as compared to that of the spin table 3 and the downward flow of air is generated by the rotation of the blade 14.例文帳に追加

基板２への薄膜形成時にスピンテーブル３が回転すると、羽根１１がスピンテーブル３の回転数より減速されてスピンテーブル３の回転と同期回転し、この羽根１４の回転によって下方に向く空気流が生じる。 - 特許庁

The table SPin of the second stage and the third stage is a table which outputs data in which upper ranks and lower ranks are replaced and the table SPno of the first stage and the fourth stage is a normal table.例文帳に追加

第２段と第３段の表ＳＰ_inは、上位と下位が切替えられたものを出力するものであり、第１段と第４段の表ＳＰ_noは通常の表である。 - 特許庁

To provide a table tennis racket which is excellent both in repulsion performance and in spin performance.例文帳に追加

反発性能及びスピン性能の両方に優れた卓球ラケット１の提供。 - 特許庁

Further, a projected amount of the guide pin from the surface of the to-be-washed object is selected smaller when the number of revolutions of the spin table is lower than the projected amount, when the number of revolutions of the spin table is higher.例文帳に追加

また、スピン テーブルの回転数が低いときの方が回転数が高いときよりも前記被洗浄物表面からのガイドピ ン突出量を少なくする。 - 特許庁

To improve the cleaning quality of the lower surface (rear surface) of a disk, particularly a wafer, without increasing the weight of a spin table of a spin cleaner so much.例文帳に追加

スピン洗浄装置のスピンテーブルの重量をさほど増加させることなく、円板体特にウェーハの下面（裏面）洗浄品質を向上させる。 - 特許庁

In the spin coater, a highly rotating spindle 3 is pivoted on a cylindrical base table 13 with ball bearing 9 or the like.例文帳に追加

高速回転するスピンドル３をボールベアリング７、９、４９、５１を介して筒基台１３に軸支する。 - 特許庁

The spin table 2 is rotated and the dropped resin material is expended on the whole main plane of the disk substrate 1.例文帳に追加

スピンテーブル２を回転して滴下した樹脂材料をディスク基板１の主面全体に延伸する。 - 特許庁

To provide a sold rubber for a table tennis paddle and the table tennis paddle, wherein spin performance is maintained even if dust adheres to the surface and wherein the spin performance is maintained and improved even if use causes wear.例文帳に追加

表面へゴミが付着してもスピン性能が維持され、さらに使用により摩耗してもスピン性能が維持及び向上する卓球ラケット用ソリッドラバー及び卓球ラケットの提供を目的とするものである。 - 特許庁

To provide a spin coater which suppress an increase of size of the bearing of a rotary shaft while supporting a large-sized spin table so as to be stably rotatable, and can be manufactured at a low cost.例文帳に追加

大型のスピンテーブルを安定して回転可能に支持しつつ、回転軸の軸受の大型化を抑制しかつ安価に製造できるスピンコーターを提供する。 - 特許庁

The air flowing in a spin cap 6 or the mist of an excess coating liquid moves forcibly under the blade 14 by the air flow to avoid the substrata 2 on the spin table 3.例文帳に追加

この空気流により、スピンカップ６内に流入した空気や余剰コーティング液のミストが強制的にスピンテーブル３上の基板２を回避するようにして羽根１４の下方へ流動する。 - 特許庁

The resin-made spin chuck 1 used as a rotary supporting table of a rotation treatment equipment, and the rotary shaft 4 as a rotation driving source for rotating the spin chuck 1 are integrally formed into one body.例文帳に追加

回転処理装置の回転支持台として用いられる樹脂製のスピンチャック１と、このスピンチャック１を回転させる回転駆動源の回転シャフト４とを一体成形することにした。 - 特許庁

The rotary table 101 of the spin coater 100 is rotated at a high speed under the condition where the slurry 10 is development-splashed.例文帳に追加

そして、スピンコータ１００の回転テーブル１０１を、スラリー１０が展開飛散するような条件で高速回転させる。 - 特許庁

The spin cleaner 1 further includes a detachable flat rectifying plate 9 on the lower surface side of the silicon wafer W held by the spin table 4 to suppress adherence of a mist due to impurities to the lower surface of the silicon wafer W in cleaning, wherein the rectifying plate is held by the spin table 4 so as to be separated from the silicon wafer W.例文帳に追加

このスピン洗浄装置１は、スピンテーブル４に保持されるシリコンウェーハＷの下面側に、スピンテーブル４により、シリコンウェーハＷと離間するように保持された着脱可能な平板状の整流板９をさらに備え、洗浄の際に不純物によるミストがシリコンウェーハＷの下面に付着することを抑制する。 - 特許庁

To provide a spin processor in which an inertial force occurring in a rotary table can be reduced.例文帳に追加

この発明は回転テ−ブに生じる慣性力を低下させることができるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

A lower transparent base plate wafer 17 is arranged on a spin table 16 (a), and an ultraviolet curing type adhesive 19 is dripped thereto and adjusted to have fixed membrane thickness by rotating the table 16.例文帳に追加

下部透明基板ウェハー１７をスピンテーブル１６上に配置し（ａ）、紫外線硬化型接着剤１９を滴下し、スピンテーブル１６を回転させ一定膜厚に調整する。 - 特許庁

The cleaning device stops the spinner table at the same position as a position for conveyance to the spinner table after cleaning and spin-drying the wafer, and then carries the wafer out to the next process by a carrying-out means.例文帳に追加

洗浄装置は、ウエーハの洗浄及びスピン乾燥後にスピンナテーブルへの搬入時と同一位置にスピンナテーブルを停止させた後、搬出手段でウエーハを次工程へ搬出する。 - 特許庁

To provide a spin processing device capable of detecting the slanted state of a substrate retained on a turn table.例文帳に追加

この発明は回転テーブルに保持された基板の傾斜状態を検出することができるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a spin processing device which is capable of smoothly exhausting an air flow generated in a cup body by the rotation of a rotary table.例文帳に追加

この発明は、回転テーブルの回転によってカップ体内に生じる気流を円滑に排出できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a spin processing device capable of shortening a time required up to stop when a rotary table is stopped.例文帳に追加

この発明は回転テーブルを停止させる際、その停止までに要する時間を短縮することができるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

After the temperature of the disk substrate 1 is adjusted to a temperature optimum for forming a thin film on a main plane of the disk substrate 1 by spin coating by placing the disk substrate 1 on the table 2 and controlling the temperature of the table 2, the thin film such as a light transmission layer is formed on the main plane of the disk substrate 1 by spin coating.例文帳に追加

テーブル２にディスク基板１を載置して、テーブル２の温度を制御することで、ディスク基板１の温度を、スピンコートでディスク基板１の主面上に薄膜を形成するのに最適な温度に調節してから、ディスク基板１の主面上にスピンコートで光透過層などの薄膜を形成する。 - 特許庁

The rotary shaft 5 of the spin table 4 is supported so that the inner circumferential surface is rotatable around a supporting shaft 3 provided on a main body frame 2 through a pair of the bearings 6, 7.例文帳に追加

スピンテーブル４の円筒状の回転軸５は、その内周面が本体フレーム２に設けた支持軸３に一対の軸受６,７を介して回転可能に支持されている。 - 特許庁

To provide spin treating apparatus capable of preventing increase of pressure in a treatment bath, even if the number of rotation of a rotating table is increased.例文帳に追加

この発明は回転テーブルの回転数を増大させても、処理槽内の圧力が上昇するのを防止できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

As a result, the spin table 4 is rotated with a substrate 8, a coating liquid applied on the substrate 8 is spread by the centrifugal force to be applied on the whole upper surface of the substrate 8.例文帳に追加

これにより、スピンテーブル４が基板８とともに回転し、基板８上に塗布されたコーティング液が遠心力で拡がり、基板８の上面全体に塗布される。 - 特許庁

To provide a spin processing device capable of preventing pressure in a processing tank from increasing even if the revolution speed of a rotary table is increased.例文帳に追加

この発明は回転テーブルの回転数を増大させても、処理槽内の圧力が上昇するのを防止できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

In a spin cleaner 1, a cleaning fluid is fed on the upper and lower surfaces of a silicon wafer W from an upper-side cleaning fluid nozzle 6 and a lower-side cleaning fluid nozzle 12 while the silicon wafer W is supported horizontally on a spin table 4 and is rotated at high speed, and the both surfaces of the silicon wafer are cleaned.例文帳に追加

スピン洗浄装置１は、スピンテーブル４上にシリコンウェーハＷを水平に支持して高速回転させつつ、上側洗浄液ノズル６および下側洗浄液ノズル１２から、シリコンウェーハの上面および下面に洗浄液を供給し、シリコンウェーハの両面を洗浄する。 - 特許庁

To provide a spin treating device which can uniformly perform rinse treatment of the portion which faces the underside of the substrate of a rotating table at the time of rinse treatment of the substrate underside.例文帳に追加

この発明は基板の下面をリンス処理する際、回転テーブルの基板の下面に対向する部分を満遍なくリンス処理することができるスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

This spin-dryer has a structure in which a mattress 30 is firmly held in the thickness direction between a mount table 34 of a holding mechanism 31 and a pressing body 35 inside a spin-drying chamber 26, and is spin-dried by a rotary drive mechanism 32 which rotates the mattress 30 about an axis in the width direction along the longitudinal direction at high speed.例文帳に追加

脱水室２６内において、挟み込み機構３１の載置台３４と押え体３５とによりマットレス３０を厚さ方向から挟み込んだ状態で、回転駆動機構３２により、そのマットレス３０を、これの幅方向の中央部でかつ長手方向に沿った中心線を中心として高速回転させることにより、マットレス３０を脱水する構成とする。 - 特許庁

In the single-wafer cleaning apparatus for feeding the surface of the wafer on a spin table surrounded with a cleaning chamber, a feeding means of the cleaning solution has a plurality of nozzles for spouting the cleaning solution to the wafer surface, and each nozzle located around the spin table is adjustable in its cleaning-solution spouting direction and its angle.例文帳に追加

周囲を洗浄チャンバで囲まれたスピンテーブル上のウエハの表面へ洗浄液を供給する枚葉式の半導体ウエハ用洗浄装置において、洗浄液を供給手段は、洗浄液をウエハ表面に向けて吐出するための複数個のノズルを含み、各ノズルはそれぞれ洗浄液吐出方向および角度を変更調節可能にスピンテーブル周りに設置されているものとした。 - 特許庁

This apparatus for manufacturing disk includes a spin coating section which applies a resin to a disk substrate attached to a spindle table and a resin curing section which cures the resin applied to the disk substrate on the state that the disk substrate is attached to the spindle table.例文帳に追加

本発明のディスク製造装置は、スピンドルテーブルに装着されたディスク基板に樹脂を塗布するスピンコーティング部と、前記ディスク基板が前記スピンドルテーブルに装着された状態で前記ディスク基板に塗布された樹脂を硬化させる樹脂硬化部とを含む。 - 特許庁

An XY-directional moving table 13 causes the spin chuck 4 to move reciprocatively in X and Y-directions to vibrate the substrate W held by the substrate hold part 3 in the X and Y-directions.例文帳に追加

ＸＹ方向移動テーブル１３はスピンチャック４全体をＸ方向、Ｙ方向に往復移動させて、基板保持部３に保持された基板ＷにＸ方向、Ｙ方向の振動を与える。 - 特許庁

An oxidization cell 205 which contains an oxidizer 209 consisting of an element belonging to the group I or the group II of the periodic table is provided in an interior of a film forming furnace of a liquid-phase film forming furnace 109, such as a spin coating equipment.例文帳に追加

スピンコータ等の液相成膜室１０９の成膜室内に周期表の１族または２族に属する元素からなる酸化剤２０９を設けた酸化セル２０５が設けられている。 - 特許庁

The spin processing device for processing the substrate W while turning the same is provided with a turn table 3 driven to be turned, a plurality of supporting members 4 provided on the turn table to retain the peripheral part of the substrate supplied to the turn table, and a detecting means 35 for detecting the retaining state of the substrate retained by the supporting members.例文帳に追加

基板Ｗを回転させながら処理するためのスピン処理装置において、回転駆動される回転テーブル３と、この回転テーブルに設けられ回転テーブルに供給される上記基板の周辺部を保持する複数の支持部材４と、この保持部材に保持された上記基板の保持状態を検出する検出手段３５とを具備する。 - 特許庁

The spin processor performing a processing by rotating a disc-like substrate is provided with: a rotary table 11; a plurality of holding members 18 with rotatably provided holding rollers 22 that are provided at predetermined intervals along a circumferential direction on this rotary table 11 and each holds the peripheral surface of the substrate, and a control motor 4 for rotating and driving the rotary table 11.例文帳に追加

円盤状の基板を回転させながら処理するスピン処理装置であって、 回転テーブル１１と、この回転テーブルに周方向に沿って所定間隔で設けられそれぞれに基板の外周面を保持する保持ローラ２２が回転可能に設けられた複数の保持部材１８と、上記回転テーブルを回転駆動する制御モータ４とを具備する。 - 特許庁

According to this manufacturing method, in the spin coating step (C) of spreading an ultraviolet curing resin (44) on a disk substrate (41) by rotating a spin table (2) at a high speed, the ultraviolet curing resin spread to the peripheral edge of the disk substrate is coated up to the peripheral end surface of the disk substrate by an end surface coating means.例文帳に追加

本発明の製造方法では、スピンテーブル（２）を高速回転させてディスク基板（４１）上に紫外線硬化樹脂（４４）を拡がらせるスピンコーティング工程（Ｃ）の際に、ディスク基板の周縁部にまで拡がってきた紫外線硬化樹脂を端面塗布手段によってディスク基板の周端面にまで塗布する。 - 特許庁

Then, the ultraviolet ray temporary application step (D) of applying ultraviolet rays to the ultraviolet curing resin while reducing the speed of the spin table so as to prevent the application to an outer side slightly inside the outer diameter of the disk substrate is carried out.例文帳に追加

次にスピンテーブルを減速させながら、前記ディスク基板の外径よりわずかに内側から外方を照射しないように紫外線硬化樹脂に紫外線照射を行う紫外線仮照射工程（Ｄ）を行う。 - 特許庁

A disk substrate 1 is placed on a spin table 2 and fixed, a center hole of the disk substrate 1 is closed by a center cap 8, and a resin material is dropped on the center cap 8 so as to come into contact with a peripheral plane of a resin contact part 15.例文帳に追加

ディスク基板１をスピンテーブル２に載置して固定し、ディスク基板１のセンターホールを、センターキャップ８で閉塞し、樹脂接触部１５の周面に接触するようにセンターキャップ８上に樹脂材料を滴下する。 - 特許庁

When a sirocco fan 15 and a chuck table 12 are coaxially rotated together for spin-drying, a negative pressure directed outward is generated on the chuck table 12 in the radial direction by the rotation of the fan 15, and droplets flying from a silicon wafer W are forcibly exhausted through vanes 18.例文帳に追加

スピン乾燥時に、シロッコファン１５をチャックテーブル１２と同軸的に回転させると、このファン１５の回転により、チャックテーブル１２上に半径方向外側へ向かう負圧力が発生し、この負圧力により、シリコンウェーハＷから飛散した水滴を羽根板１８間から外へ強制的に排出させる。 - 特許庁

The lower apparatus 10 is composed of a rotatable spin table 11 with a semiconductor wafer W, a heater 11a and pipe arrangements 15, 16 and 17 which supply (a) pure water, (a) a pre-treating liquid and an electroless plating liquid, respectively on the wafer.例文帳に追加

下部装置１０は、半導体ウェーハＷを保持し回転可能なスピンテーブル１１と、ヒータ１１ａと、ウェーハＷ上に、純水、前処理液、無電解メッキ液をそれぞれ供給する配管１５、１６、１７から構成されている。 - 特許庁

The spin treatment apparatus for performing drying treatment of the substrate treated by the treatment liquid is provided with a rotating table 3 for holding the substrate in detachable manner, a control motor 11 for driving the rotating table 3 to rotate, and a controller 14 which controls the control motor 11 to rotate the rotating table and to increase and reduce its rotation speed to disperse residual liquid droplets which are stuck to the substrate.例文帳に追加

処理液によって処理された基板を乾燥処理するスピン処理装置において、上記基板を着脱可能に保持する回転テーブル３と、この回転テーブルを回転駆動する制御モータ１１と、この制御モータを制御して上記回転テーブルを回転させるとともにその回転速度を増減させて上記基板に付着残留する液滴を飛散させる制御装置１４とを具備する。 - 特許庁

A dicing processing device 1 comprises ion blow means 14 having an adjustment part 144 that adjusts a direction of an exhaust nozzle 143 so as to spray an ionized air from the exhaust nozzle 143 to a workpiece on a spinner table 101 of spin cleaning means 10 and a workpiece on a temporary placing part 11.例文帳に追加

ダイシング加工装置１は、噴出口１４３からのイオン化されたエアが、スピンナ洗浄手段１０のスピンナテーブル１０１上のワークおよび仮置部１１上のワークに吹き付けるように調整する調整部１４４を有するイオンブロー手段１４を備える。 - 特許庁

The spin processing device that rotates and processes a semiconductor wafer 10 includes a processing chamber 1, a cup body 2 provided in the processing chamber, the rotary table 5 that is provided in the cup body to support the semiconductor wafer and is rotation driven by a drive motor 8, and a controller 35 that controls the pressure in the processing chamber that varies with a rotational speed of the rotary table.例文帳に追加

半導体ウエハ１０を回転させて処理するスピン処理装置において、 処理チャンバ１と、この処理チャンバ内に設けられたカップ体２と、このカップ体内に設けられ上記半導体ウエハを保持して駆動モータ８により回転駆動される回転テーブル５と、この回転テーブルの回転速度に応じて変化する上記処理チャンバ内の圧力を制御する制御装置３５とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The processing apparatus for the semiconductor wafer which grinds or polishes a reverse surface of the semiconductor wafer having a mark indicating crystal orientation at an outer periphery includes a positioning means having a rotatable holding table and detecting the mark of the semiconductor wafer to position the semiconductor wafer in the predetermined direction, and a spinner cleaning device having a spinner table for cleaning or spin-drying the semiconductor wafer having been ground or polished.例文帳に追加

外周に結晶方位を示すマークを備えた半導体ウエーハの裏面を研削又は研磨する半導体ウエーハの加工装置であって、回転可能な保持テーブルを有し、半導体ウエーハのマークを検出して半導体ウエーハを所定の向きに位置付ける位置合わせ手段と、研削又は研磨された半導体ウエーハを洗浄及びスピン乾燥するスピンナテーブルを有するスピンナ洗浄装置を備えている。 - 特許庁

A spin drum unit 370 rotatably equipped with a reel body 372B3 having a plurality of pictures on the outer circumferential surface thereof is detachably disposed into a table type cabinet body 310 having a working opening 310C1 which is opened slightly inclinedly from the level and is made openable or closable with a lid body 320.例文帳に追加

水平面に対して若干傾斜する状態に開口し蓋体３２０にて開閉可能な作業開口３１０Ｃ１を有したテーブル型の筐体３１０内に、外周面に複数の絵柄を有したリール本体３７２Ｂ３を回転可能に備えた回胴ユニット３７０を着脱可能に配設する。 - 特許庁

The spin drum unit 370 rotatably equipped with the reel body 372B3 having a plurality of pictures on the outer circumferential surface is detachably installed into a table type cabinet body 310 having a working opening 310C1 which is opened slightly inclinedly from the level and made openable and closeable with a lid body 320.例文帳に追加

水平面に対して若干傾斜する状態に開口し蓋体３２０にて開閉可能な作業開口３１０Ｃ１を有したテーブル型の筐体３１０内に、外周面に複数の絵柄を有したリール本体３７２Ｂ３を回転可能に備えた回胴ユニット３７０を着脱可能に配設する。 - 特許庁