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surface formationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4130件
In the backside metal film formation step, a backside metal film is formed on the second primary surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加
裏面金属膜形成工程では、半導体ウェハの第二主面に裏面金属膜を形成する。 - 特許庁
At the time, the formation area of the capacitor 120 is made larger than the mounting area of the IC 112 on the opposite surface.例文帳に追加
その際、コンデンサ120の形成エリアは、反対面のIC112の実装領域よりも大きくする。 - 特許庁
The moisture conditioning material is manufactured by formation or deposition of zeolite on the surface of polyalumino-silicate alkali metal salt.例文帳に追加
ポリアルミノ珪酸アルカリ金属塩の表面にゼオライトが生成または析出してなる調湿材。 - 特許庁
A ferrite film is formed on the inner surface having a contact with the film formation aqueous solution in the recirculation system pipe.例文帳に追加
再循環系配管の皮膜形成水溶液と接触する内面にフェライト皮膜が形成される。 - 特許庁
The modifier is a material for complex formation that composes a complex with a metal ion on the active surface.例文帳に追加
改質剤は、活性表面の金属イオンと錯体を構成する錯体形成用物質である。 - 特許庁
The bit line 14 has a stereoscopic structure that is in contact with a film formation initiation surface 15a of the recording layer 15.例文帳に追加
ビット線14は、記録層15の成膜開始面15aと接する立体構造を有している。 - 特許庁
To provide a surface lighting system capable of avoiding formation of moire and bright and dark fringes.例文帳に追加
モアレの発生および明暗縞の発生を抑えることのできる面状照明装置を提供する。 - 特許庁
In formation of the tile panel, a tile 3 is stuck to a surface 2a of a porous lightweight base material 2 by means of an adhesive 4.例文帳に追加
多孔質軽量型基材2の表面2aに接着剤4によりタイル3を貼り付ける。 - 特許庁
Then, preprocessing for negative electrode formation on an "N" surface, for example, plasma treatment by an ICP device is performed.例文帳に追加
その後、N面にn電極形成の前処理、たとえば、ICP装置によるプラズマ処理を加える。 - 特許庁
To suppress the formation of heat spots on a surface of a housing without affecting component mounting of a substrate.例文帳に追加
基板の部品実装に影響を与えることなく、筐体表面のヒートスポットの形成を抑える。 - 特許庁
In the flexible conductor, a first elastic layer 126 (for example, elastic adhesive) is formed on a contact formation surface of the terminal section 112, and a second elastic layer 128 (for example, foaming form) is formed on a surface opposite to the contact formation surface of the terminal section 112.例文帳に追加
フレキシブル導体は、端子部112の接点形成面に第1弾性層126(例えば、弾性接着剤)が形成され、端子部112の、接点形成面と反対側の面に第2弾性層128(例えば、発泡フォーム)が形成されている。 - 特許庁
The panel member 3 is completed by forming multiple EL elements 33 on one surface 31 of a main substrate 5, by forming a seal part 7 on the one surface 31 after the formation of the elements, and by forming a recessed part 37 on the other surface 36 of the main substrate 5 after the formation of the seal part 7.例文帳に追加
パネル部材3は、主基板5の一方面31に複数のEL素子33を形成し、素子形成後に該一方面31にシール部7を形成し、シール部形成後に主基板5の他方面37に凹部37を形成して、完成する。 - 特許庁
To provide a metal surface treatment method which enables the formation of an excellent zinc phosphate film on a metal surface, preferably, the surface composed of an iron surface and a zinc surface by a spray treatment method and is also suitable for a closed system.例文帳に追加
金属、特に鉄系金属表面と亜鉛系金属表面を同時に有する金属表面にスプレー処理方法で優れたリン酸亜鉛皮膜を形成させ、かつ、クローズドシステムに好適な金属表面処理方法を提供する。 - 特許庁
A covered surface 102 covering a surface of the lower side paint layer 3 with the upper side paint layer 4 is formed in the curly grain formation protrusion part 22.例文帳に追加
木目形成凸部22には,下側塗料層3の表面を上側塗料層4が覆った被覆表面102が形成されている。 - 特許庁
A lower surface of a thick portion in each of the external terminal formation portions 11-13 is formed on the same plane as an outer surface 712 of the bottom portion of the case 7.例文帳に追加
外部端子形成部11〜13の厚肉部14の下面は、ケース7の底部外面712と同一平面上に形成される。 - 特許庁
A lubricant exposing space part 10 for preventing the scraping-off of the lubricant at the wall surface side for formation, is arranged on the non-exposing wall surface.例文帳に追加
非露出壁面に、成形用壁面側の潤滑剤が掻き取られるのを防止するための潤滑剤逃がし空間部10を設ける。 - 特許庁
Although the formation is made in the passivation film in Figure, an antireflection structure can be provided on the surface of the photodiode 2 and on the surface of the insulating film 3.例文帳に追加
図ではパッシベーション膜に形成するが、フォトダイオード2の表面、絶縁膜3の表面に反射防止構造体を設けることができる。 - 特許庁
Also, when texture formation is made only at the side of the light reception surface MPS, the film thickness of the silicon nitride film 4 at the rear surface side is set to 100 nm-300 nm.例文帳に追加
また、受光面MPS側にのみテクスチャ形成される場合、裏面側の窒化シリコン膜4の膜厚を100nm〜300nmとする。 - 特許庁
The oil repellent agent is applied to either or both of the first space formation surface 7b forming the first space 16 and the lower end surface 11b.例文帳に追加
第1隙間16を形成する第1隙間形成面7bと下端面11bの一方あるいは双方には撥油剤が塗布される。 - 特許庁
Accordingly, as the temp. at the bottom of the shoulder part 3a of the boat-shaped vessel 3 can be increased, the formation of a hollow surface at the solid-liquid boundary surface can be avoided.例文帳に追加
この結果、ボート状容器3の肩部3aの底部の温度を上げることができ、固液界面の凹面化を防止することができる。 - 特許庁
Further, when the paper is detected as a both-surface coated paper, image formation conditions of fixation, development, transfer, etc., are changed for the both-surface coated paper.例文帳に追加
さらに、両面コート紙であると検知した場合には、両面コート紙用に定着、現像、転写などの画像形成条件を変更する。 - 特許庁
SURFACE TREATMENT AGENT FOR FORMING RESIST PATTERN, RESIST COMPOSITION, AND SURFACE TREATMENT PROCESS FOR RESIST PATTERN AND FORMATION PROCESS FOR RESIST PATTERN BY USE OF THEM例文帳に追加
レジストパターン形成用表面処理剤、レジスト組成物、それらを用いたレジストパターンの表面処理方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁
A silicide layer 20d is formed on the upper surface and the side surface of a gate electrode wiring 14b located in the shared contact formation region.例文帳に追加
シェアードコンタクト形成領域に位置するゲート電極配線14bの上面上及び側面上にはシリサイド層20dが形成されている。 - 特許庁
To selectively form a semiconductor layer of high quality on the surface of a wafer while preventing the formation of the semiconductor layer on the rear surface of the wafer.例文帳に追加
ウェハの裏面に半導体層が形成されることを防止しつつ、ウェハの表面に高品質の半導体層を選択的に形成する。 - 特許庁
To stably form a shear surface of a semiconductor device at a lead cutting position and raise a formation ratio of a plated film on the shear surface.例文帳に追加
半導体装置のリード切断箇所のせん断面を安定的に形成するとともに、せん断面へのめっき被膜の形成比率を高める。 - 特許庁
To provide a buried member capable of being easily pulled out when the buried member is pulled out and a coated membrane formation agent used for coated membrane formation of the surface of the buried member.例文帳に追加
埋設部材引き抜きの際に容易に引き抜くことができる埋設部材及び埋設部材表面の被覆膜形成に用いられる被覆膜形成剤を提供する。 - 特許庁
A surface which is exposed after the second substrate 200 is removed is in level in a lens formation region 20a and a non-lens-formation region 20b at its periphery.例文帳に追加
第2基板200が除去されることによって露出する面は、レンズ形成領域20a及びその周囲の非レンズ形成領域20bに渡って面一である。 - 特許庁
Impurity ions are additionally implanted into the surface of the RESURF layer 14, which is lessened in impurity concentration due to the formation of an oxide film for the formation of an additional layer 21.例文帳に追加
酸化膜18の形成により不純物濃度の低下したRESURF層14表面側に追加のインプラを行うことにより追加層21を形成する。 - 特許庁
The formation of the surface of the space part 51 into non-porous one and the formation of a dam part 53 for preventing ink from going along at both the ends of the recessed groove 25, are especially preferable.例文帳に追加
なお、スペース部51の表面を非多孔質面としたり、凹溝25の両端をインキ伝いを防止するための堰堤部53に形成しておくことが特に好ましい。 - 特許庁
An image carrying belt 21 has a no-image formation area 69 where no toner image is carried and a sheet separation part 71 is formed on the outer circumferential surface of the no-image formation area 69.例文帳に追加
画像担持ベルト21がトナー像を担持しない非画像形成領域69を有し、非画像形成領域69の外周面にはシート分離部71が形成されている。 - 特許庁
The temperature adjustment disk is raised or lowered according to the composition of a thin film to be formed, whereby the formation of the thin film formation is performed while controlling the surface temperature of the counter plate.例文帳に追加
成膜する薄膜の組成に応じて温度調整用ディスクを上昇もしく下降させ、対向板表面温度を制御して薄膜形成を行う。 - 特許庁
O_2 ions are poured into the whole surface of the substrate including a silicide formation scheduled region to obtain an oxygen concentration of 0.05-5 atom% in Si of the silicide formation scheduled region.例文帳に追加
シリサイド化予定領域を含んだ基板全面にO_2をイオン注入し、シリサイド化予定領域のSi中の酸素濃度が0.05〜5atom%になるようにする。 - 特許庁
Also, after the whole surface formation of a reflection preventing member film 12a, the ion implantation can be performed before the formation of the reflection preventing film 12 by selective etching.例文帳に追加
尚、反射防止材膜12aの全面形成より後、その選択的エッチングによる反射防止膜12の形成前にそのイオン注入を行うようにしても良い。 - 特許庁
The catalyst mixture 4 is contacted with a part for the formation of plating as one part of the surface of the element assembly 1 of the chip type electronic component to form a catalyst surface part 1a on the part for the formation of plating.例文帳に追加
触媒混合物4に対しチップ型電子部品の素体1の表面一部であるめっき形成用部分を接触させて、上記めっき形成用部分に触媒表面部1aを形成する。 - 特許庁
To provide a membrane formation apparatus for forming a uniform thin membrane with suppressed drying unevenness and coating unevenness attributed to the surface shape or surface material of an object, and a membrane formation method using the apparatus.例文帳に追加
対象物の表面形状や表面材質等に起因して発生する乾燥ムラ、塗布ムラが防止され、均一な薄膜を形成することができる膜形成装置、及び、それを用いた膜形成方法を提供する。 - 特許庁
A method for manufacturing a semiconductor device can increase a surface area of a capacitor to increase the capacitance per unit area of a capacitor by forming at least one or more uneven capacitor formation groove 4a on the surface of a capacitor formation area.例文帳に追加
キャパシタ形成領域の表面に、少なくとも1つ以上の凸凹なキャパシタ形成溝4aを形成することでキャパシタの表面積を増加し、単位面積当たりのキャパシタの容量の向上を可能とする。 - 特許庁
To provide a key top surface part formation method and key top formation method capable of preventing a synthetic resin film from being clouded or the like even when raising a key top surface part formed on the synthetic resin film by drawing.例文帳に追加
絞り加工によって合成樹脂フイルムに形成されるキートップ表面部の高さを高くしても、合成樹脂フイルムが白濁等しないキートップ表面部形成方法及びキートップ形成方法を提供する。 - 特許庁
A cap 23 is provided in an ink-jet printer having a recording head 19, which jets out the ink from the nozzles 20 formed on the nozzle formation surface 19a, so that the nozzle formation surface 19a can be sealed.例文帳に追加
キャップ23は、ノズル形成面19aに形成されたノズル20からインクを噴射する記録ヘッド19を有するインクジェット式プリンタに備えられ、ノズル形成面19aを封止可能に構成される。 - 特許庁
Inclinations θa1 to θan of mirror formation areas 8 relative to a screen normal are made different so that the inclination angles of the mirror formation areas 8 nearer to a projector are larger than those of the mirror formation areas 8 farther from the projector within a cross section orthogonal to the mirror formation areas 8 in a screen surface.例文帳に追加
鏡形成エリア8のスクリーン法線に対する傾きθa1〜θanを、スクリーン面内の鏡形成エリア8に直交する断面内で、プロジェクタから遠い位置の鏡形成用エリア8よりもプロジェクタに近い側の鏡形成用エリア8の方が大きくなるように、異ならせる。 - 特許庁
The formation area R of operation buttons 1 to 5 provided to the console panel P of the operation device U is projected slightly from a panel reference surface S and identification projections (a) to (e) are formed further projecting from the surface of the button formation area R along the edge part (r) of the button formation area R.例文帳に追加
操作装置Uの操作パネルPに設けた複数の操作ボタン1〜5の形成領域Rをパネル基準面Sより若干突出させ、識別突子a〜eをボタン形成領域Rの縁部rに沿ってボタン形成領域R表面よりさらに突出するよう形成する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus equipped with a wiping mechanism which can wipe a nozzle formation surface in each short recording head without staining the nozzle formation surface, wherein at least two short recording heads are arranged so that the nozzle formation surfaces may become partially adjacent to each other.例文帳に追加
少なくとも2つの短尺記録ヘッドがノズル形成面の一部が隣り合うように配置され画像形成装置において、各短尺記録ヘッドにおけるノズル形成面を汚損することなく払拭することができるワイピング機構を備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁
By encapsulating a formation surface of the upper electrode layer and a formation surface of the conductive layer in a state that the both formation surfaces are opposed to each other, at least a part of an electrode layer overlapped with the convex structure body contacts with the conductive layer, and a resistivity of the upper electrode layer is drastically reduced.例文帳に追加
そして、上部電極層形成面と導電層形成面が対向した状態で両者を封止することで、凸状構造体と重畳する電極層の少なくとも一部が導電層と接触し、上部電極層の抵抗率が大きく減少する。 - 特許庁
To provide a thin film formation device for fixing formation conditions of an oxide film formed on the surface of an object treated by preventing oxidizing gas used for a thin film formation device from being spent on the oxidization of the internal wall of a vacuum treatment chamber or the surface of a component.例文帳に追加
薄膜形成装置に使用される酸化性気体が真空処理室内壁や部品表面の酸化に費やされない様にすることにより、被処理物の表面に形成される酸化皮膜の形成条件を一定にすることができる薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁
Here, the equivalent oxidation film thickness of the gate insulating film 5 in the low-voltage transistor formation region A is thinner than the equivalent oxide film thickness of the gate insulating film 5 in the high-voltage transistor formation region B, and the substrate surface height in the low-voltage transistor formation region A is higher than the substrate surface height in the high-voltage transistor formation region B.例文帳に追加
低電圧系トランジスタ形成領域Aのゲート絶縁膜5の等価酸化膜厚は、高電圧系トランジスタ形成領域Bのゲート絶縁膜5の等価酸化膜厚よりも薄く、低電圧系トランジスタ形成領域Aの基板表面高さは、高電圧系トランジスタ形成領域Bの基板表面高さよりも高い。 - 特許庁
To provide a surface modification method of an article composed of a liquid crystalline polymer material to obtain a surface having high adhesiveness with metal and allowing formation of a metal thin film with surface smoothness.例文帳に追加
金属との密着性が高く、かつ、表面平滑性のある金属薄膜を形成することができる、液晶ポリマー材料からなる物品の表面改質方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a surface treating method for corrosion protection which enables early formation of a stabilized rust layer on the surface of a steel stock under the environment for chlorides to come flying, and a steel stock having a corrosion protection-treated surface.例文帳に追加
塩化物が飛来する環境下で、鋼材の表面に安定さび層を早期に形成させる防食表面処理法、および防食表面処理鋼材を提供する。 - 特許庁
In the whisker formation heat sink, whiskers are formed on the surface of a metal substrate and the surface area of a whisker forming portion is 5-1,000 times as large as the surface area only of the substrate.例文帳に追加
金属基体の表面にウィスカーを形成し、ウィスカー形成部分の表面積は基体のみの表面積に対して5〜1000倍であるウィスカー形成放熱体である。 - 特許庁
From the measurement result, a control part judges whether the surface is an image-formable surface and feeds the transfer paper P as it is to an image formation part 1 when the surface is the image-formable surface to form an image.例文帳に追加
その結果に基づいて、その面が画像形成可能面であるか否かを制御部で判断し、画像形成可能面であればそのまま転写紙Pを画像形成部1へと給紙し、画像形成を行う。 - 特許庁
Due to presence of the stainless steel plates 10 and 20 on outer side surfaces of the car, formation of flaws on the car body surface can be restricted.例文帳に追加
これによれば、車外側面にステンレス板10,20があるので、車体表面の傷付きを抑制できる。 - 特許庁
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