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該当件数 : 12件
Further, a cooling process after hot-forging in the plurality of processes is performed while controlling the cooling speed according to the hot-forging parameter P_F.例文帳に追加
また、複数工程の熱間鍛造の後の冷却工程は、熱間鍛造パラメータＰ_F に応じて冷却速度を制御しつつ行う。 - 特許庁
Further, the cooling step after the hot forging in the plurality of steps is performed while controlling cooling velocity in accordance with the hot forging parameter P_F.例文帳に追加
また、複数工程の熱間鍛造の後の冷却工程は、熱間鍛造パラメータＰ_F に応じて冷却速度を制御しつつ行う。 - 特許庁
Subsequently, additional driving of an injector 14 is started and an injection flow rate Q_f is operated from differential pressure ΔP between cylinder internal pressure P_cyl and fuel pressure P_f (a step 110).例文帳に追加
続いて、インジェクタ１４の追加駆動が開始され、筒内圧Ｐ_ｃｙｌと燃圧Ｐ_ｆとの差圧ΔＰから、噴射流量Ｑ_ｆが演算される（ステップ１１０）。 - 特許庁
The fresnel lens includes fresnel lens elements concentrically arranged at an arrangement pitch P_F, and the light diffusion part includes diffusion optical elements arranged in parallel at an arrangement pitch P_L.例文帳に追加
フレネルレンズは配置ピッチＰ_Ｆで同心円状に配列されたフレネルレンズ要素を有し、光拡散部は配置ピッチＰ_Ｌで並列して配列された拡散光学要素を有する。 - 特許庁
A power control means calculates products between a signal p_f(n) after Fourier transform of an output of the amplitude measurement means and a plurality of the before-modulation signals s_f(n) to output the control signal.例文帳に追加
電力制御手段は、振幅測定手段の出力のフーリエ変換後の信号ｐ_ｆ（ｎ）と、複数の変調前信号ｓ_ｆ（ｎ）との積を算出し、前記制御信号を出力する。 - 特許庁
In the plurality of hot-forgings, the hot-forging at the last process is performed while controlling the working temperature of the based part S of a flange 10 for fitting the wheel, an introduced von-Mises strain quantity and a hot-forging parameter P_F.例文帳に追加
複数工程の熱間鍛造のうち最終工程の熱間鍛造は、車輪取り付け用フランジ１０の付け根部分Ｓの加工温度、導入されるｖｏｎ Ｍｉｓｅｓ歪の量、熱間鍛造パラメータＰ_F を制御しつつ行う。 - 特許庁
In the hot forging in the plurality of steps, the hot forging in the final step is performed while controlling the working temperature of the part T to be cold-worked on which the cold working is performed, the amount of the von Mises strain to be introduced and a hot forging parameter P_F.例文帳に追加
複数工程の熱間鍛造のうち最終工程の熱間鍛造は、冷間加工が施される被冷間加工部位Ｔの加工温度、導入されるｖｏｎ Ｍｉｓｅｓ歪の量、熱間鍛造パラメータＰ_F を制御しつつ行う。 - 特許庁
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p/f
体育をやる.
ヤマホウレンソウ
uj
the characteristic of dignity and grace
the batting order
the rate of utilization
the sylph
the fob
pf
uj
a rope
がってんだ.
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該当件数 : 12件
When a pitch of the pixel to which the expansion projection is performed on the screen is assumed to be P_P, Fresnel lens pitch P_F and lenticular lens pitch P_L are set as values to simultaneously satisfy one inequality of a first group of conditional expressions, and one inequality of a second group of conditional expressions.例文帳に追加
スクリーン上に拡大投写された画素のピッチをＰ_Pとしたとき、フレネルレンズピッチＰ_F、及びレンチキュラーレンズピッチＰ_Lを、第一の条件式の群のうちの一つの不等式と、第二の条件式の群のうちの一つの不等式とを同時に満足する値に設定する。 - 特許庁
When a pitch of the pixel to which the expansion projection is performed on the screen is assumed to be P_P, Fresnel lens pitch P_F and lenticular lens pitch P_L are set as values to simultaneously satisfy one inequality of a first group of conditional expressions and one inequality of a second group of conditional expressions.例文帳に追加
スクリーン上に拡大投写された画素のピッチをＰ_Pとしたとき、フレネルレンズピッチＰ_F、及びレンチキュラーレンズピッチＰ_Lを、第一の条件式の群のうちの一つの不等式と、第二の条件式の群のうちの一つの不等式とを同時に満足する値に設定する。 - 特許庁
In this fluoroscopy for a patient 4 disposed at variable distances 38a, 38b to the X-ray source 20, a dosage rate (P_A to P_F) emitted from the X-ray source 20 is reduced when the distance 38a, 38b is decreased, and/or enlarged when the distance 38a, 38b is increased.例文帳に追加
Ｘ線源（２０）に対して可変の距離（３８ａ，３８ｂ）に配置可能な患者（４）のＸ線透視方法において、Ｘ線源（２０）から放出される線量率（Ｐ_A〜Ｐ_F）が、距離（３８ａ，３８ｂ）の減少時に低減され、および／または距離（３８ａ，３８ｂ）の増加時に増大される。 - 特許庁
Hot forging is executed while controlling a heating temperature of the element on starting the hot forging, a processing temperature of a non-heat treated section which is used with a surface state just as it is treated by the hot forging, a quantity of von Mises torsion introduced for the non-heat treated section and a hot forging parameter P_F.例文帳に追加
熱間鍛造は、熱間鍛造を開始するにあたっての素材の加熱温度、熱間鍛造が施されたままの表面状態で使用される非調質部位の加工温度、非調質部位に導入されるｖｏｎ Ｍｉｓｅｓ歪の量、熱間鍛造パラメータＰ_F を制御しつつ行う。 - 特許庁
The X-ray apparatus 8 for fluoroscopy for the patient 4 disposed at variable distances 38a, 38b to the X-ray source 20 includes: a dosage rate varying device for varying the dosage rate (P_A to P_F) emitted from the X-ray source 20 depending upon the distance (38a, 38b).例文帳に追加
線源（２０）に対して可変の距離（３８ａ，３８ｂ）に配置可能な患者（４）のＸ線透視のためのＸ線装置（８）は、Ｘ線源（２０）から放出可能な線量率（Ｐ_A〜Ｐ_F）を距離（３８ａ，３８ｂ）に依存して変更する線量率変更装置を備えている。 - 特許庁
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