w-paとは 意味・読み方・使い方

A substrate P having a liquid repellent part H and a lyophilic part Pa to a functional fluid is coated with the functional fluid to form a pattern W.例文帳に追加

機能液に対する親液部Ｐａ及び撥液部Ｈを有する基板Ｐに機能液を塗布してパターンＷを形成する。 - 特許庁

In the method, a side door beam Pb is connected to a door inner panel Pa by a spot welding and assembled as an intermediate assembly body W.例文帳に追加

ドアインナパネルＰａにサイドドアビームＰｂをスポット溶接にて結合して中間組立体Ｗとして組み立てる方法である。 - 特許庁

A plasma generator 30 releases plasma by the control of a general controller 94 and removes particles PA adhered to the work W.例文帳に追加

プラズマ発生部３０は、全体制御部９４の制御の下、プラズマを放出し、ワークＷに付着したパーティクルＰＡを除去する。 - 特許庁

Then, the workpiece W is machined while the rotary tool T is moved on a tool travel path L in accordance with the machining program to avoid the workpiece W, so that the machining load becomes lower than the first setting value Pa after the machining load exceeds the first setting value Pa (2) (5).例文帳に追加

そして、加工負荷が第一設定値Ｐａを超えた後に加工負荷が第一設定値Ｐａ以下となるように、被加工物Ｗに対して回転工具Ｔを加工プログラムによる工具移動経路Ｌから回避移動させながら被加工物Ｗを加工する（２）（５）。 - 特許庁

When the distance between the prescribed positions Pa, Pb is set to L and the distance from the prescribed position Pa to a present point (a present parts conveyance position) is set to a, the width W of the conveyance area of the present point is obtained by operation of W=Wa-(Wa-Wb)×a÷L.例文帳に追加

例えば、所定位置Ｐａ，Ｐｂ間の距離をＬ、所定位置Ｐａから現在点（現在の部品搬送位置）までの距離をａとし、現在点の搬送エリアの幅Ｗを、Ｗ＝Ｗａ−（Ｗａ−Ｗｂ）×ａ÷Ｌの演算で求める。 - 特許庁

After the positions of a maximum eccentricity part PA and a notch NT are detected by a sensor 44 during the rotation of the substrate W, the substrate W is rotated so that the maximum eccentricity part PA is located at a position that opposes a press block 41.例文帳に追加

基板Ｗの回転の間に最大偏心部位ＰＡおよびノッチＮＴの位置がセンサ４４により検出された後、該最大偏心部位ＰＡが押圧ブロック４１と対向する対向位置に位置するように基板Ｗが回転される。 - 特許庁

The cooling wind (W) which is increased in temperature by depriving heat from the liquid crystal panels (9A to 9C) and polarizing plates (PA to PC and QA to QC) is discharged to the outside of the projector through wind guide paths (19A and 19B) on the discharge side disposed between the optical block (20) and the liquid crystal panel driving substrate (16).例文帳に追加

液晶パネル(9A〜9C)や偏光板(PA〜PC,QA〜QC)から熱を奪って温度が高くなった冷却風(W)は、光学ブロック(20)と液晶パネル駆動基板(16)との間に設けられている排気側の導風路(19A,19B)を通ってプロジェクター外へ排出される。 - 特許庁

The exposure apparatus irradiates a workpiece W with a light beam of exposure light from an illumination optical system 160 through a mask M, and transfers a pattern Pa of the mask M to the workpiece W.例文帳に追加

露光装置は、照明光学系１６０からの露光光の光束をマスクＭを介してワークＷに照射し、マスクＭのパターンＰａをワークＷに転写する。 - 特許庁