「"じあぞ"」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

インク組成物中に、例えば式（I-1）に示す青色染料化合物、式（III-1）に示す黄色染料化合物、及び５−スルホアントラニル酸又はその塩類と２−アミノ−５−ナフトール−７−スルホン酸またはその塩類，４−ジアミノベンゼンスルホン酸から合成したジアゾ化合物を赤色染料化合物として含む黒色インク組成物。例文帳に追加

In the black ink composition, the dye compounds include a blue dye compound of formula (I-1), a yellow dye compound of formula (III-1), and a red dye compound of a diazo compound which is synthesized from 5-sulfoanthranilic acid or its salts, 2-amino-5-naphthol-7-sulfonic acid or its salts, and 4-diaminobenzene sulfonic acid. - 特許庁

少なくともジアゾニウム塩、カプラー、塩基性物質、および重合性物質と光重合開始剤のうち、１つ以上を含む熱応答性カプセルとその他の材料を内包するマイクロカプセルを含む記録層を支持体上に塗布したことを特徴とするフルカラー記録媒体を用いて、感光感熱発色・光定着方式によってフルカラー画像を形成する。例文帳に追加

A full color image is formed by using the full color recording medium obtained by coating a support with a recording layer containing heat responsive microcapsules each containing at least a diazonium salt, a coupler, a basic substance and one or more of a polymerizable substance and a photopolymerization initiator, and microcapsules each containing the other material according to a photosensitive heat-sensitive color developing and photofixing system. - 特許庁

式（１） （式中、Ｒ^1はハロゲン原子またはニトロ基を表し、Ｒ^2は水素原子またはハロゲン原子を表す。）で示されるピリドン化合物と、式（２）Ｎ_2ＣＨＣＯＲ^3 （２）（式中、Ｒ^3は低級アルコキシ基を表す。）で示されるジアゾ酢酸エステル化合物とを酸の存在下で反応させることを特徴とする式（３） （式中、Ｒ^1、Ｒ^2およびＲ^3は前記と同じ意味を表す。）で示されるピリジン化合物の製造法。例文帳に追加

The pyridine compound expressed by formula (3) (wherein R^1 expresses a halogen or nitro; R^2 expresses H or a halogen; R^3 expresses a lower alkoxy) is produced by reacting a pyridone compound expressed by formula (1) with a diazoacetic acid ester compound expressed by formula (2): N_2CHCOR^3, in the presence of an acid. - 特許庁

酸発生剤と、ポリビニルフェノール誘導体でアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂とを含有し、上記酸発生剤がジアリールヨードニュウム塩型酸発生剤と、スルホニルオキシイミドおよびジスルホニルジアゾメタンより選ばれる少なくとも１つの酸発生剤とを含む混合酸発生剤である。例文帳に追加

The positive type radiation-sensitive resin composition comprises an acid generator and an acid-dissociable group-containing resin which is a polyvinyl phenol derivative and is insoluble or scarcely soluble in alkali but becomes alkali-soluble by the action of an acid, wherein the acid generator is a mixed acid generator containing a diaryl iodonium salt type acid generator and at least one acid generator selected form sulfonyloxyimide and disulfonyldiazomethane. - 特許庁

増ちょう剤、基油、及び添加剤を含む電気接点用グリース組成物において、基油として４０℃における動粘度が９〜４０ｍｍ^2／ｓである合成炭化水素油を含み、添加剤としてチアジアゾール系化合物を含む電気接点用グリース組成物、好ましくは、さらにチタネート系カップリング剤及び／又はアルミニウム系カップリング剤を含む。例文帳に追加

This grease composition for the electric contact, containing a thickener, a base oil and an additive is provided by containing a synthetic hydrocarbon oil having 9 to 40 mm^2/s dynamic viscosity at 40°C as the base oil, a thiadiazole-based compound as the additive and preferably further a titanate-based coupling agent and/or an aluminum-based coupling agent. - 特許庁

（Ａ）酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、上記（Ｂ）成分が、（ｂ_1）シアノ基含有オキシムスルホネート化合物類と、（ｂ_2）ビススルホニルジアゾメタン類又はオニウム塩類、あるいはその両方との混合物であるポジ型レジスト組成物とする。例文帳に追加

In a positive resist composition comprising (A) a resin component having solubility in an alkaline aqueous solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with a radiation, the component (B) is a mixture of (b_1) cyano-containing oximesulfonate compounds and (b_2) bissulfonyldiazomethanes and/or onium salts. - 特許庁

ジアゾニウム化合物を含む溶液とカップリング剤を含む溶液とを反応させてアゾ顔料が分散するアゾ顔料分散体を製造する方法であって、前記反応を、前記アゾ顔料を溶媒中に分散させるための分散剤及びアルカリ性下で緩衝作用のあるｐＨ緩衝剤の存在下で行うアゾ顔料分散体の製造方法。例文帳に追加

The process for preparing the azo pigment dispersion comprises the step of causing a solution containing a diazonium compound to react with a solution containing a coupling agent to prepare an azo pigment dispersion in which an azo pigment is dispersed, wherein the reaction is carried out in the presence of a dispersing agent for dispersing the azo pigment in a solvent and a pH buffering agent having a buffering action under alkaline conditions. - 特許庁

一般式（２） で示されるオレフィン類と一般式（３） Ｎ_2ＣＨＣＯＯＲ^19 （３） で示されるジアゾ酢酸エステル類とを、ジベンゾチオフェン類の光学活性体および銅塩または遷移金属塩の存在下に反応させる一般式（４） で示される光学活性シクロプロパンカルボン酸誘導体の製造法。例文帳に追加

This method for producing an optically active cyclopropanecarboxylic acid derivative expressed by formula (4) comprises reacting an olefin represented by the general formula (2) with a diazoacetate ester represented by the general formula (3), N2CHCOOR19 in the presence of an optically active substance of benzothiophene and a copper salt or a transition metal salt. - 特許庁

下記の一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００質量部に対し、下記の一般式（２）、（３）、及び（４）で表される化合物群から選択される少なくとも１つのカルボニル基を有する化合物０．１〜３０質量部と、感光性ジアゾキノン化合物１〜１００質量部とを含有するポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition comprises 100 pts.mass of a hydroxypolyamide having a repeating unit represented by general formula (1); 0.1-30 pts.mass of a compound having at least one carbonyl group selected from the group of compounds represented by general formulae (2), (3) and (4); and 1-100 pts.mass of a photosensitive diazoquinone compound. - 特許庁

（１）一般式で示されるピリミジン化合物若しくは一般式で示される１，２，４−チアジアゾール化合物と、（２）（Ｓ）−α−シアノ−３−フェノキシベンジル （１Ｒ，３Ｒ）−３−（２，２−ジブロモビニル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボキシラートとを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除組成物等。例文帳に追加

This pest control composition is characterized by containing (1) a pyrimidine compound represented by formula (I) or a 1,2,4-thiadiazole compound represented by formula (II) and (2) (S)-α-cyano-3-phenoxybenzyl (1R, 3R)-3-(2,2-dibromovinyl)-2,2-dimethylcyclopropanecarboxylate as active ingredients. - 特許庁

トリアリールカルベニウムカチオンと１価のアニオンとからなるトリアリールカルベニウム化合物の存在下に、脂肪族炭素数１〜２０を示す（置換基を有していても良い）カルボン酸化合物にオルソ位に酸素原子、硫黄原子、又はイミノ基（置換されていても良い）を有する芳香族アミン化合物とを反応させるベンゾジアゾール化合物（置換されていても良い）の製造方法。例文帳に追加

The method for producing a benzoazole compound (which may be substituted) comprises reacting an aromatic amine compound having an oxygen atom, sulfur atom, or an imino group (which may be substituted) at the ortho position with a carboxylic acid compound (which may have an substituent) of an aliphatic carbon number of 1-20, in the presence of a triarylcarbenium compound consisting of a triarylcarbenium cation and a monovalent anion. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、ジアゾナフトキノン化合物（Ｂ）、フェノール性水酸基を含まず−ＣＨ_2ＯＨ基を含む化合物（Ｃ）を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物であり、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、特定の構造を有するポリアミド樹脂であり、化合物（Ｃ）が−ＣＨ_2ＯＨ基を２つ以上有するものが好ましい。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition contains an alkali-soluble resin (A), a diazonaphthoquinone compound (B) and a compound (C) containing -CH_2OH but not containing a phenolic hydroxyl group, wherein the alkali-soluble resin (A) is preferably a polyamide resin having a specified structure and the compound (C) preferably has two or more -CH_2OH groups. - 特許庁

又は少なくとも１種のジアゾニウム塩と多官能イソシアネート化合物と有機溶媒とを含む分散相を、保護コロイド含有水溶液を含む連続相中に膜乳化させて、前記多官能イソシアネート化合物を重合させてなり、前記分散相への水の溶解度が２５℃において１％以下であるマイクロカプセル。例文帳に追加

Alternatively, the microcapsule is obtained by film-emulsifying a dispersion phase containing at least one type of a diazonium salt, a poly-functional isocyanate compound and an organic solvent in a continuous phase containing a protective colloid-containing aqueous solution and polymerizing the polyfunctional isocyanate compound, the water solvent degree to the dispersion phase being not larger than 1% at 25°C. - 特許庁

酸無水物に無機充填剤及び硬化促進剤を配合した組成物をＡ剤、エポキシ樹脂をＢ剤とする酸無水物硬化型エポキシ樹脂組成物であって、Ｂ剤に縮合アゾ構造を有する有機顔料及びジアゾ系染料を配合したことを特徴とするエポキシ樹脂組成物並びにこのエポキシ樹脂組成物を注入し、硬化させてなる高圧電気電子部品。例文帳に追加

An acid anhydride-curing epoxy resin composition comprises: agent A having a composition which compounds an inorganic filler and a curing accelerator with an acid anhydride; and agent B containing an epoxy resin wherein the agent B has an organic pigment with a condensed azo structure and a diazo dye as components, and electronic parts of high-pressure electricity made from pouring and curing of the epoxy resin composition. - 特許庁

本発明は、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、酸化チタン等を含有する中性紙をジアゾ感光紙用の支持体として用いても、その最大の欠点である保存時のプレカッリング（保存性の劣化）を防止することができ、さらに高発色性で発色画像が鮮明なジア感光紙を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide diazo photosensitive paper, which prevents pre-coupling in storage (the deterioration of preservability), as defects caused by neutralized paper, and has even if the neutralized paper containing calcium carbonate, kaolin, talc, titanium dioxide or the like, is used as a base for the diazo photosensitive paper, has high color developing property and gives a sharp developed color image. - 特許庁

感光性樹脂組成物の組成を、(ａ)けん化度７０〜９５mol％の部分けん化ポリビニルアルコール水溶液と、(ｂ)光重合開始剤と、(ｃ)オキサイド変性ビスフェノールアクリレート、または、オキサイド変性ビスフェノールアクリレートおよび６以上のアクリロイル基および１以上のカプロラクトン基を有するアクリレートと、(ｄ)ジアゾ光架橋剤とを含有する組成とする。例文帳に追加

The photosensitive resin composition comprises: (a) a partially saponified polyvinylalcohol aqueous solution having 70 to 95mol% saponification degree; (b) a photopolymerization initiator; (c) oxide-modified bisphenol acrylate or oxide-modified bisphenol acrylate and acrylate having six or more acryloyl groups and one or more caprolactone groups; and (d) a diazo photo-crosslinking agent. - 特許庁

化学溶剤（ジアゾニウム塩）を用いて，有害化合物（重金属化合物，半金属化合物，ハロゲン化物）を化学反応により分解，分離し，次に溶剤等（例えばグラファイト等）によって，再結合化（再結晶化）を計り．安定固化状態にする処理法，即ち，無害処理化する処理法で，紫外線，可視光線による分解，分裂が起こらない処理法ある。例文帳に追加

This is a processing method to make stable solidified state, namely to detoxicate, by decompose and separate hazardous compounds (heavy- metal, metalloid and halogenated compounds) with chemical reactions by means of a chemical solvent (diazonium salt), followed by recombination (recrystallization) using a solvent (graphite for instance) or the like, which causes no decomposition nor fission by UV light or visible light. - 特許庁

光学記録媒体１０は、波長３５０〜５３０ｎｍのレーザ光を吸収し得るものであって、一般式[Ｉ]に示すピリジンＮ−オキシド化合物をジアゾ成分として少なくとも含んでいることを特徴とする金属錯体化合物からなる色素ａを光記録材料とすることにより記録層２を構成したものである。例文帳に追加

An optical recording medium 10 is capable of absorbing a laser beam with a wavelength of 350 to 530 nm, and comprises a recording layer 2 which is formed by using, as an optical recording material, a pigment a containing a metal complex compound containing at least a pyrazine N-oxide compound represented by the general formula [I] as a diazo component. - 特許庁

感光性樹脂のフォトマスクとして使用した時に、耐傷性と耐溶剤性が十分に高く、未硬化の液状感光性樹脂と接触しても傷が付いたりそのモノマーや溶剤によって侵されることがなく、また感光性樹脂が付着することもない、長時間繰り返し使用することができ耐久性が高いフォトマスクとして好適なジアゾ感光フィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a diazo photosensitive film suitable as a photo mask and with high durability which shows high scratch resistance and high solvent resistance used as a photo mask of a photosensitive resin and which is not torn even in contact with a non-curing liquid photosensitive resin nor eroded by a monomer or a solvent and on which no photosensitive resin is attached so that the repeating use can be performed. - 特許庁

基板上に、特定構造のポリカーボネート樹脂及びジアゾナフトキノンなどの光酸発生剤を含むフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクし、このパターン面に紫外線を照射したのち、テトラ置換アンモニウムヒドロキシド、低分子アルコール及び水を含む溶媒から成る現像液を用いて現像することによりネガ型のフォトレジストを得る。例文帳に追加

A negative photoresist is obtained through steps of: providing a photoresist layer containing a polycarbonate resin having a specified structure and a photoacid generator such as diazonaphthoquinone on a substrate; masking the layer with a desired pattern; irradiating the pattern surface with UV rays; and then developing the resist by using a developing solution comprising a tetra-substituted ammonium hydroxide, a low molecular weight alcohol, and a solvent containing water. - 特許庁

水性媒体中に６員環ヘテロ環がジアゾ基に結合した特定構造のアゾ染料と沸点が100℃以上の水混和性有機溶媒を10質量％以上含有し、かつ特定の尿素化合物、ジアミノスルホ化合物及びジアミノホスホ化合物の含有量がインク全量の０．０１質量％以下であることを特徴とするインクジェット記録用インク。例文帳に追加

The ink for ink-jet recording contains an azo dye that has a specific structure that a 6-membered heterocyclic ring is bonded to a diazo group and a water-miscible solvent that boils at ≥100°C in amounts of ≥10 mass % in an aqueous medium, while the total amounts of specific urea compound, diaminosulfo compound and diaminophospho compound are kept ≤0.01 mass %. - 特許庁

特定構造のポリイミドユニットからなるポリイミド樹脂と、メラミンシアヌレート類縁体と、ジアゾアフトキノン類縁体とを含有し、該メラミンシアヌレート類縁体が、ポリイミド樹脂１００重量部に対し５〜５０重量部である弱アルカリ性水溶液でポジ型現像が可能で且つ有機溶媒に可溶な感光性ポリイミド樹脂組成物。例文帳に追加

A photosensitive polyimide resin composition comprises a polyimide resin comprising a polyimide unit of specific structure, a melamine cyanurate analogue and a diazonaphthoquinone analogue, which can be positive-tone developable with a weakly alkaline aqueous solution, and which is soluble in an organic solvent; and in the composition, the melamine cyanurate analogue is contained in an amount of 5-50 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the polyimide resin. - 特許庁

酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、特定の構造で表されるオキシムスルホネート構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の構造で表されるジアゾジスルホン構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains a resin which is decomposed by the action of acids and increases its solubility in an alkali developing solution, a compound having an oxime sulfonate structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation and a compound having a diazodisulfone structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation. - 特許庁

原料としてシクロペンテニルイミドジカーボネート誘導体を使いジエステル体としこれを塩酸で処理したのちジメトキシプロパンと加熱還流することによってジオキソール体とし、これにジイソプロプルアミンと４−ジクロロ−５−ニトロ−２−（プロピルチオ）ピリミジンとを反応させさらに亜硝酸の金属塩でジアゾ化することによって目的の中間体化合物を生成する。例文帳に追加

A cyclopentenylimidedicarbonate derivative is used as a raw material to afford a diester substance thereof, which is then treated with hydrochloric acid and heated to reflux with dimethoxypropane to provide a dioxole substance thereof, which is then reacted with diisopropylamine and 4-dichloro-5-nitro-2-(propylthio)pyrimidine and further, the reaction product is diazotized with a metal salt of nitrous acid to produce the objective intermediate compound. - 特許庁

ジアゾニウム塩（Ｉ）と、亜硫酸塩及び亜硫酸水素塩からなる群より選ばれる少なくとも１種とを水の存在下に反応させた後、得られた反応混合物を酸との接触処理に付し、次いで、０〜２０℃で塩基と混合してｐＨ８〜１１の範囲に調整することを特徴とするフェニルヒドラジン類（ＩＩ）の製造方法。例文帳に追加

There is provided a method for producing a phenylhydrazine (II) comprising reacting a diazonium salt (I) with at least one selected from the group consisting of sulfites and hydrogensulfites in the presence of water, subjecting the obtained reaction mixture to a contact treatment with an acid, and adjusting the pH to a range of 8-11 by mixing with a base at 0-20°C. - 特許庁

組成物の総重量に対して外割５％となるゴム液をあらかじめ混和用の容器に入れておき、次いで、ジアゾジニトロフェノールを３０重量％、テトラセンを１０重量％、硝酸バリウムを２５重量％、ケイ化カルシウムを１５重量％、三硫化アンチモンを１０重量％、ガラス粉を１０重量％を加え、混和棒を用いて混和して無鉛爆粉を作製する。例文帳に追加

The lead-free detonator is formed by preliminarily filling a rubber liquid in a mixing container in a quantity of 5% externally to total weight of a composition and next, adding 30 wt.% diazodinitrophenol, 10 wt.% tetracene, 25 wt.% barium nitrate, 15 wt.% calcium silicate, 10 wt.% antimony trisulfide and 10 wt.% glass powder and mixing with a mixing rod. - 特許庁

重合性モノマー、分光増感色素、有機ホウ素化合物およびジアゾ化合物とカップリングする化合物であってカップリング部位にハロゲン系離脱基を有するカプラー化合物を含有する光重合組成物、および光記録が可能な感光感熱記録層を有する感光感熱記録材料であって該感光感熱記録層が前記光重合性組成物を含有する感光感熱記録材料。例文帳に追加

In photopolymerization composition, containing a coupler compound having halogen-based desorption group at a coupling site in a compound for coupling a polymerized monomer, spectrally sensitized pigment, organic boron compound, diazo compound, and the light-sensitive and thermoplastic recording material, having a light-sensitive and thermosensitive layer enabling optical recording, and the light-sensitive and thermoplastic recording layer contains the photopolymerization composition. - 特許庁

メッキ部材の製造方法は、金属部材に金銅メッキを施すメッキ工程と、前記メッキ工程後の金属部材を、ベンゾトリアゾール類、トリアゾール類、チアジアゾール類、ジチオカルバメート類、アリザニン類、およびキニザリン類から選ばれる少なくともいずれか一種の化合物を含有する溶液に浸漬する浸漬工程と、前記浸漬工程後の金属部材を乾燥する乾燥工程と、を備える。例文帳に追加

The method for manufacturing the plated member comprise: a plating step of subjecting a metal member to gold-copper plating; an immersion step of immersing the metal member after the plating step into a solution containing at least one compound selected from benzotriazoles, triazoles, thiadiazoles, dithiocarbamates, alizarins and quinizarins; and a drying step of drying the metal member after the immersion step. - 特許庁

（Ａ）アルカリ可溶性フェノール樹脂、及びポリヒドロキシスチレンまたはポリヒドロキシスチレン誘導体からなる群より選択される重合物１００質量部に対して、特定の（Ｂ）感光性ジアゾナフトキノン化合物１〜１００質量部、及び（Ｃ）有機溶剤１００〜１０００質量部を含む感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition comprises (A) 100 parts by mass of a polymer selected from the group consisting of an alkali-soluble phenolic resin and polyhydroxystyrene or polyhydroxystyrene derivatives, (B) 1-100 parts by mass of a specific photosensitive diazonaphthoquinone compound and (C) 100-1,000 parts by mass of an organic solvent. - 特許庁

ジアゾ化試薬としては、１−アミノアントラキノン、ｐ−ニトロアニリンおよび３’−アミノアセトフェノン等のケトン基若しくはニトロ基を有する芳香族第一級アミン化合物群と３−アミノ−２−シクロヘキセン−１−オン等の３−アミノ−２−シクロヘキセン−１−オン骨格含有化合物群とからなる群から選ばれた化合物を用いる。例文帳に追加

As the diazotization reagent, a compound selected from a group composed of an aromatic primary amine compound group having ketone groups such as 1-aminoanthraquinone, p-nitroaniline and 3'-aminoacetophenone or nitro groups and a 3-amino-2-cyclohexene-1-on bone containing compound group such as 3-amino-2-cyclohexene-1-on is used. - 特許庁

あるいは不純物芳香族アミン化合物を含むインドール誘導体を酸性溶液とした後に、含有する不純物芳香族アミン化合物の量に応じた、亜硝酸ソーダ水溶液を加えその後生成したジアゾ化合物が分解する条件にすることにより、不純物芳香族アミン化合物を分解除去する。例文帳に追加

In another embodiment, an indole derivative including aromatic amine as impurity is made acidic in an aqueous solution, then an aqueous solution of sodium nitrite is added to the solution in an amount responding to the aromatic amine, then the diazo compound formed is decomposed under the conditions that diazo compound can be decomposed, thus removing the aromatic amine as impurity. - 特許庁

化学増幅型レジストの感放射線性酸発生剤として、特にＫＲＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線に対して高感度（低露光エネルギー量）で酸を発生でき、かつ優れた解像性能およびパターン形状をもたらしうる、新規なジアゾジスルホン化合物、並びに当該化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain a new compound useful as a radiation-sensitive acid generator for chemical amplification-type resists useful in microfabrication using far- ultraviolet rays such as KrF excimer laser (wavelength: 248 nm), charged particle beams such as electron beams, radiation such as X-rays. - 特許庁

テレフタル酸、イソフタル酸と１−ヒドロキシ−１，２，３−ベンゾトリアゾールとを反応させて得られたジカルボン酸誘導体と２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンとを重縮合させて得られたポリアミド樹脂と感光性ジアゾキノン化合物を配合してなるポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The resin composition is obtained by reacting terephthalic acid, isophthalic acid and 1-hydroxy-1,2,3-benzontriazole to give a dicarboxylic acid derivative, and subjecting this derivative and 2,2-bis(3-amino-4- hydroxyphenyl)fluorene to polycondensation to give a polyamide resin, and blending this resin with a photosensitive diazoqunone compound. - 特許庁

（メタ）アクリレート反復単位を有するポリマーと、前記反復単位に化学的に結合されているジアゾキノン系の光吸収基と、光酸発生剤と、熱によって前記ポリマーを架橋させ、酸により架橋されたポリマーから脱架橋される架橋剤と、前記ポリマーの架橋反応を促進させるための触媒とを含む反射防止用光吸収膜形成組成物。例文帳に追加

The composition forming an antireflective light absorbing film comprises a polymer having a (meth)acrylate repeating unit, a diazoquinone type light absorbing group bonded chemically to the repeating unit, a photoacid generator, a crosslinking agent which crosslinks the polymer under heat and is decrosslinked from the crosslinked polymer by an acid and a catalyst for promoting the crosslinking reaction of the polymer. - 特許庁

下記式に代表される５−ブロモメチル−３−（３−ｐ−トリルウレイド）−チオフェン−２−カルボン酸メチルエステルや５−ｔ−ブチル−３−〔３−（５−トリフルオロメチル−〔１，３，４〕−チアジアゾール−２−イル）ウレイド〕−チオフェン−２−カルボキシル酸メチルエステルなどのウレイド−チオフェン−カルボキシル酸メチルエステル誘導体。例文帳に追加

The compounds are ureido-thiophene-carboxylic acid methyl esters represented by the formula, such as 5-bromomethyl-3-(3-p-tolylureido)-thiophene-2-carboxylic acid methyl ester, 5-tert-butyl-3-[3-(5-trifluoromethyl-[1, 3, 4]-thiadiazol-2-yl)ureido]-thiophene-2-carboxylic acid methyl ester, or the like. - 特許庁

陽極酸化し、ポリビニルホスホン酸水溶液処理したアルミニウム支持体上にネガ型感光層を設けたネガ型感光性平版印刷版であって、該アルミニウム支持体と該感光層との間に少なくとも一つのジアゾニウム基を有する化合物を含有する中間層を有することを特徴とする上記ネガ型感光性平版印刷版。例文帳に追加

The negative type photosensitive planographic printing plate is obtained by disposing a negative type photosensitive layer on an aluminum substrate subjected to anodic oxidation and treatment with an aqueous solution of a polyvinylphosphonic acid and interposing a middle layer containing a compound having at least one diazonium group between the aluminum substrate and the photosensitive layer. - 特許庁

ポリベンゾオキサゾール前駆体と感光性ジアゾキノン化合物からなる感光性樹脂組成物を塗布、プリベーク、露光、現像し、パターンを作成した後、プリベーク温度より高い温度、ただし、最終硬化温度より低い温度にて硬化を行い、その後、エッチングし、感光性樹脂組成物を最終硬化する感光性樹脂組成物の加工方法である。例文帳に追加

In the processing method, a photosensitive resin composition comprising a polybenzoxazole precursor and a photosensitive diazoquinone compound is applied, prebaked, exposed and developed to form a pattern, curing is carried out at a temperature higher than the prebaking temperature and lower than the final curing temperature, and after etching, the photosensitive resin composition is finally cured. - 特許庁

本発明は高いｉ線透明性を有するポリ（アミド酸−イミド）共重合体を有機溶媒に溶解して得られる安定なワニスにジアゾナフトキノン系感光剤を均一に溶解して成る感光性樹脂組成物とその塗膜、および該塗膜より得られる、微細パターン化されたポリイミド膜およびその製造方法を提供するものである。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition and its coating film prepared by dissolving a poly(amide acid-imide) copolymer having high i-line transparency in an organic solvent to obtain a stable varnish and uniformly dissolving a diazo naphthoquinone photosensitive agent in the varnish, and to provide a finely patterned polyimide film obtained from the above coating film, and a production method of the film. - 特許庁

(a)ジアゾ樹脂及び(b)有機高分子、好ましくは酸基を有する変性ポリビニルアセタール樹脂を含む感光層を支持体上に有するネガ型感光性平版印刷版を、画像露光した後、アルカノールアミンを２００mmol/L以上含むアルカリ水現像液で現像処理する平版印刷版の作成方法。例文帳に追加

In the method for manufacturing a planographic printing plate, a negative type photosensitive planographic printing plate having a photosensitive layer containing (a) a diazo resin and (b) an organic polymer, preferably a modified polyvinyl acetal resin having an acid group on the base is imagewise exposed and developed with an aqueous alkali developing solution containing ≥200 mmol/l alkanolamine. - 特許庁

４−アミノ−３−メトキシ−６−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンゼンスルホンアミドなどの芳香族アミンとそのスルホン化物との混合ジアゾ成分と、５−（３′−ヒドロキシ−２′−ナフトイルアミノ）ベンズイミダゾロンまたはこれとそのスルホン化物との混合物をカップラーとしてカップリング反応させてなるインクジェット記録用ベンズイミダゾロン系モノアゾ顔料組成物。例文帳に追加

The benzimidazolone-based monoazo pigment composition for use in inkjet recording comprises a product of a coupling reaction of mixed diazo components of an aromatic amine such as 4-amino-3-methoxy-6-N,N-dimethylbenzene sulfonamide and a sulfonated compound thereof with 5-(3'-hydroxy-2'-naphthoylamino)benzimidazolone or a mixture thereof with the sulfonated compound as a coupler. - 特許庁

ジアゾ化合物を内包するマイクロカプセルであって、真空冷却下にて、マイクロカプセル表面にパルスにしたイオンビームを照射し、該照射によって前記マイクロカプセル表面から発生するイオンの質量および強度を測定して得られる前記マイクロカプセル表面におけるカチオン性化合物のカウント数が、単位平方μｍ当たり０．０１５以下であることを特徴とするマイクロカプセル。例文帳に追加

In the micro-capsule containing a diazo compound, the surface of the micro-capsule is irradiated with pulsed ion beams under cooling in a vacuum, and the count number of a cationic compound in the surface of the micro-capsule which is obtained by measuring the mass and intensity of ions produced from the surface of the micro-capsule by the irradiation is 0.015 or below per a unit square micron. - 特許庁

（Ａ）アルカリ可溶なフェノール樹脂と、（Ｂ）フェノール性水酸基を有するポリアミド樹脂と、（Ｃ）感光性ジアゾキノン化合物と、（Ｄ）多官能メチロール化合物と、（Ｅ）溶剤とを含有し、高温硬化、低温硬化の両方に対応可能であり、得られる塗膜の耐薬品性、基板との密着性が良好であるポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition comprises (A) an alkali-soluble phenolic resin, (B) a polyamide resin having a phenolic hydroxyl group, (C) a photosensitive diazoquinone compound, (D) a polyfunctional methylol compound and (E) a solvent, is adaptable to both high temperature curing and low temperature curing, and ensures good chemical resistance of an obtained film and good adhesion of the film to a substrate. - 特許庁

凹凸パターン形成装置２は、感熱記録紙１０を局所的に加熱するサーマルヘッド１７と、感熱記録紙１０のイエロー感熱発色層３１に含有されるジアゾニウム塩化合物が吸収する発光ピークが３２０〜４５０ｎｍの近紫外の青色光を照射する定着器２２とを備える。例文帳に追加

The uneven pattern forming device 2 is provided with a thermal head 17 for locally heating a heat-sensitive recording sheet 10, and a fixing device 22 which radiates a near-ultraviolet-ray blue light of 320 to 450 nm at the light emission peak absorbed in a diazonium salt compound contained in the yellow heat-sensitive color developing layer 31 of the heat-sensitive recording sheet 10. - 特許庁

（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂、（Ｃ）硬化促進剤、（Ｄ）無機質充填材及び（Ｅ）一般式（１）で示される５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオールを必須成分とすることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物、及びそれを用いて半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置。例文帳に追加

This epoxy resin composition for sealing the semiconductor is characterized by containing as essential ingredients (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin, (C) a curing accelerator, (D) an inorganic filler and (E) 5-amino-1,3,4-thiaziazole-2-thiol having general formula (1), and the semiconductor device is characterized by sealing a semiconductor element using this resin composition. - 特許庁

多孔質基材（Ａ）に、グルコン酸系化合物、グルコン酸塩系化合物、トリアゾール系化合物、ピラゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、ポリリン酸系化合物、ポリリン酸塩系化合物から選ばれる１種類以上の化合物（Ｂ）を、含浸及び／又は包接させてなることを特徴とする防錆剤（Ｃ）。例文帳に追加

The rust preventive (C) is prepared by impregnating a porous base material (A) with a compound (B) of at least one kind selected from a gluconic acid-base compound, gluconate-base compound, triazole-base compound, pyrazole-base compound, thidiazole-base compound, a polyphosphoric acid-base compound and polyphosphate-base compound and/or including the compound described above into the base material. - 特許庁