「レジ係」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

第１のレジスタ群１０１に記憶された被除多項式を第２のレジスタ群１０２に記憶された除多項式で除算し、その剰余を第２のレジスタ群１０２にシフトさせ、次いで、この除多項式の係数を第１のレジスタ群１０１にシフトさせる。例文帳に追加

The divi-dent polynomial stored in the 1st register group 101 is divided by the divisor polynomial stored in the 2nd register group 102, its remainder is shifted to the 2nd register group 102 and the coeffi-cients of the divisor polynomial are shitted to the 1st register group 101. - 特許庁

又、レジスタ２３、比較器２４、レジスタ２５でノイズレベル特定手段を構成し、非飽和パルスＰ_H と最小値ロードパルスＰ_L2’でばらつき係数（減算器２２の出力）の最小値をレジスタ２３に記憶し、レジスタ２５からそれをノイズ指標Ｎとして出力する。例文帳に追加

A noise level specifying means is constituted of a register 23, a comparator 24 and a register 25, and the minimum value of the dispersion coefficient (output from the subtracter 22) is stored in the register 23 in each of a non-saturated pulse PH and the minimum load pulse PL_2', to be output as the noise index N from the register 25. - 特許庁

メイン・レジスタ・ファイルとレジスタ・キャッシュとに階層化された階層型レジスタ・ファイルを有するプロセッサにおいて、レジスタ・キャッシュのアクセスに係るインデクスを、メイン・レジスタ・ファイルの物理レジスタ番号から一義的に決定するとともに、未使用の物理レジスタ番号のモジュロ・ソートを行って、命令のフェッチ順にインデクスがラウンド・ロビンとなるように、レジスタ・リネーミング中の命令に対する物理レジスタ番号の割り当てるようにした。例文帳に追加

In the processor having a hierarchical register file stored in a main register file and a register cache, an index relating to the access of a register cache is uniquely determined from the physical register number of the main register file, and the modulo sorting of unused physical register numbers is performed, and the physical register numbers are assigned to instructions in register renaming so that the indexes achieves round robin in the order fetching the instructions. - 特許庁

本発明に係るレジスタ装置１００は、商品代金の精算に使用されるレジスタ装置１００において、精算済みに係る商品か未精算に係る商品かを判別するため、精算済みに係る商品の一部分を変色させる変色処理手段１０を備えたことを特徴とする。例文帳に追加

This register device 100 which is used to check out for an article price is equipped with a discoloration processing means 10 which discolors part of the article having been paid for so as to discriminate between the article that is settled and the article that is not settled yet. - 特許庁

組み合わせ回路２５３では、(ＮＫ)段レジスタ２５１の上位２ｐシンボルから逐次ｑ_j（ｘ^2p）の係数を得て、これらの２ｐ個の係数と生成多項式を乗算した値を、レジスタ出力および新たな２ｐ個の情報シンボルからなる値より減算することによって、次のレジスタ入力値に用いる。例文帳に追加

A combination circuit 253 obtains coefficients of q_j(x^2p) one by one from higher rank 2p symbols of a (NK) step register 251, subtracts multiplied values of these coefficients of 2p piece and generator polynomials from values composed of register output and information symbols of new 2p pieces, then, uses them as input values to the next register. - 特許庁

レジスタアッシーは、インストゥルメントパネル３に設けた複数の被係合部３１０にそれぞれ係合してレジスタアッシーをインストゥルメントパネル３に固定するための複数の爪部を有する。例文帳に追加

The register assy has a plurality of claw parts which fix the register assy to the instrument panel 3 by respectively engaging with a plurality of engaged parts 310 arranged in the instrument panel 3. - 特許庁

シフトレジスタ１４０は非同期サンプリングされたデータサンプルＸを逐次取り込み、各乗算器１６０はシフトレジスタ１４０の各タップ１２０からの出力に、係数テーブル２００から出力されたタップ係数を掛ける。例文帳に追加

The shift register 140 sequentially captures asynchronously sampled data samples X and each multiplier 160 multiplies an output from each tap 120 of the shift register 140 by a tap coefficient outputted from a coefficient table 200. - 特許庁

要求手段４４は、再生作動の再開が検出されると、レジューム情報に係るデジタルコンテンツについてレジューム情報に係る中断位置からのデータの送信要求をメディア用サーバ装置４６又は５０へ出す。例文帳に追加

When the resumption of playback operation is detected, a requesting means 44 submits a request to send data from the interruption position related to resume information about digital contents concerning the resume information to the server devices for media 46 or 50. - 特許庁

又、乗算器１３、加算器１4 、レジスタ１5 、１6 、乗算器１7 、加算器１8 、レジスタ１9 、２０、乗算器２１、減算器２２でばらつき係数検出手段を形成し、分散（ばらつき係数）を算出する。例文帳に追加

A dispersion coefficient detecting means is formed of a multiplier 13, an adder 14, registers 15, 16, a multiplier 17, the adder 18, the registers 19, 20, a multiplier 21 and a subtracter 22 to calculate a dispersion (dispersion coefficient). - 特許庁

比較用レジスタ２１は、動作モードレジスタ１１に対して所望のデータを書き込む前に、該所望のデータと所定の関係、例えば、該データと否定（ＮＯＴ）の関係を持つ比較用データが書き込まれる。例文帳に追加

Before writing desired data into an operating mode register 11, data for comparison having a prescribed relation with the desired data such as a negative (NOT) relation with these data, for example, are written in the register 21 for comparison. - 特許庁

拡散符号シフト制御手段６００ａが係数レジスタ２０１〜２０４に格納される拡散符号を循環させて、係数レジスタ２０１〜２０４に格納される拡散符号を乗算部３００に出力させる。例文帳に追加

A spread code shift control means 600a circulates a spread code stored in coefficient registers 201-204 to provide the output of the spread code stored in the coefficient registers 201-204 to a multiplier section 300. - 特許庁

次に、多項式α^ｉ−１・Ａ（α）の係数系列の各係数を１次数分だけ高次数側へシフトさせ、そのシフト結果である係数系列を、多項式α^ｉ・Ａ（α）の係数系列としてレジスタに格納する。例文帳に追加

Each coefficient of the coefficient series of a polynomial α^i-1A(α) is shifted to the higher degree side by one degree, and the shifted coefficient series is stored in the register as the coefficient series of a polynomial α^iA(α). - 特許庁

書き換え回路１５ではマイコンから入力されたアドレス、係数データなどを係数レジスタ３０に格納し、係数データ数カウンタ１０によって係数データの数を数える。例文帳に追加

In a rewrite circuit 15, an address, coefficient data and the like that are inputted from a microcomputer are stored in a coefficient register 30, and the number of the piece of the coefficient data is counted with a coefficient data number counter 10. - 特許庁

この発明に係る電子材料の印刷膜形成方法は、基板１上にレジストを塗布してレジスト膜２を形成し、レジスト膜２の所要部分を除去し、レジスト膜２の除去した部分に電子材料のインキ４を注入して印刷膜を形成し、しかる後にインキ４を硬化させ、この硬化後にレジスト膜２を除去するか又はそのままとする。例文帳に追加

In the method for forming a printed film of an electronic material, a resist is applied on a substrate 1 to form a resist film 2, the required part of the resist film 2 is removed, ink 4 of the electronic material is injected into the part freed of the resist film 2 to form a printed film, the injected ink 4 is cured and the resist film 2 is optionally removed. - 特許庁

レジストパターンの方向、疎密差等に関係なく、しかもレジストパターン厚肉化材料の種類に依存することなく、該レジストパターン厚肉化材料により均一に厚肉化され、露光装置の光源における露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジスト組成物等の提供。例文帳に追加

To provide a resist composition or the like for inexpensively, easily and efficiently forming a resist cut-out pattern exceeding the exposure limit by a light source of an exposure apparatus, the pattern which is thickened uniformly, by a resist pattern thickening material regardless of directions or the pattern density of a resist pattern, and moreover without depending on the kind of the resist pattern thickening material. - 特許庁

レジスタを変更頻度に応じてスキャンパスに接続し、初期化データの変更を行うレジスタのみの設定を変更することで、ＣＰＵ１１に係る負担を軽減でき、レジスタの初期化データの設定を迅速に行うことができる。例文帳に追加

When a register is connected with the scan path depending on the frequency of alteration and setting is altered only for a register where the initialization data is altered, burden on the CPU 11 is lessened, and the initialization data of the register is set quickly. - 特許庁

基板上に粘性係数が２ポアズ以上４０ポアズ未満のレジストを塗布する工程と、表面に凹凸を有するスタンパを前記レジストに押圧することによって、前記スタンパの凹凸を前記レジストに転写する工程と、を備えたことを特徴とする。例文帳に追加

The imprint method includes a process for applying a resist having a coefficient of viscosity of ≥2 poise and <40 poise onto a substrate and a process for pressurizing the stamper having ruggedness on the surface thereof to the resist to transfer the ruggedness to the resist. - 特許庁

ポジ型フォトレジストを使用したときに光潜像Ａｓ，Ｂｓ，Ｃｓ、及びネガ型フォトレジストを使用したときの光潜像Ｄｓ，Ｅｓ，Ｆｓと、定在波の節から入射界面への距離（レジスト厚さ）との間には相関関係がある。例文帳に追加

Light latent images As, Bs, Cs when using a positive type photoresist, light latent images Ds, Es, Fs when using a negative type photoresist, and distance (resist thickness) from the node of standing waves to an incident interface are correlated one another. - 特許庁

この演算結果とレジスタ１０とレジスタ２０のデータをシフター５０、ゼロ挿入ユニット６０でシフト或いは係数の一部を消去して最後にシーケンサー４０によってセレクタ７０とセレクタ８０を制御することにより、再びレジスタ群に格納する。例文帳に追加

This arithmetic results and data in the registers 10 and 20 are shifted by a shifter 50 and a zero inserting unit 60, or part of coefficients is erased and finally, selectors 70 and 80 are controlled by a sequencer 40, thereby storing them in a register group again. - 特許庁

レジストを印刷するときに用いる印刷マスク１９に係り、印刷マスク１９は、１枚のシートにおいて、印刷形状に形成されレジストを通過させる開口部２９と、レジストを通過させない遮蔽部２８と、を有し、開口部２９には複数の孔が配置されている。例文帳に追加

In the printing mask 19 used when printing the resist, the printing mask 19 has an opening portion 29 for allowing the resist formed in a printed pattern pass through and a blocking portions 28 for not allowing the resist pass through in one sheet, a plurality of holes are arranged in the opening portion 29. - 特許庁

上記課題を解決するために、本発明に係るレジストパターン形成装置の代表的な構成は、基板１を搬送する基板搬送手段10と、前記基板１にレジストパターンを転写する転写手段11と、前記転写手段11にレジストインクを吐出するディスペンサー12とを備えたことを特徴とする。例文帳に追加

A representative configuration in the resist pattern forming apparatus comprises a substrate-carrying means 10 for carrying a substrate 1; a transferring means 11 for transferring the resist pattern to the substrate 1; and a dispenser 12 for discharging a resist ink to the transferring means 11. - 特許庁

測長ＳＥＭを用いて測定された隣接するレジストパターン１０２間の高さｈ１での寸法ＣＤｓと、レジストパターン１０２の断面画像から求められたレジストパターン１０２間の高さｈ２での寸法ＣＤｄとの相関関係を予め取得する。例文帳に追加

A correlative relationship between the dimension CDs at the height of h1 between adjacent resist patterns 102 measured by a length measurement SEM and the dimension CDd at the height of h2 between resist patterns 102 obtained from a cross-sectional image of the resist pattern 102 is preliminarily obtained. - 特許庁

設定レジスタ１４は、第２レーザビームに対するサブテーブルを保持し、このサブテーブルに記述されている値は、レジスタ値生成手段１５により上記設定レジスタ１２に保持されている基準テーブルの値と予め決定されている補正係数Ｎに基づいて生成された値である。例文帳に追加

The setting register 14 holds a sub-table for the second laser beam and the value described in the sub-table is generated by a register value generating means 15 based on the value of the reference table held in the setting register 12 and a predetermined correction coefficient N. - 特許庁

本発明に係るパターン形成方法は、感光性レジスト材料１３Ｂを露光、現像してパターン層１５を形成する方法において、基板１１の上に感光性レジスト材料１３Ｂを塗布する工程の前に、基板の上に同一又は他の感光性レジスト材料からなる下地層１３Ａを形成する。例文帳に追加

The pattern forming method includes exposing and developing a photosensitive resist material 13B to form a patterned layer 15, wherein before a step of applying the photosensitive resist material 13B on a substrate 11, an underlayer 13A comprising the same or another photosensitive resist material is formed on the substrate. - 特許庁

本発明に係るレジスト現像液中の炭酸塩の除去方法は、ＴＭＡＨ及び炭酸塩を含むレジスト現像液をＮＦ膜で濾過する濾過工程を備える。例文帳に追加

The method for removing carbonates in the resist developing solution includes a filtration step of filtering a resist developing solution containing TMAH and carbonates through an NF (nano filtration) membrane. - 特許庁

アルカリ可溶性ノボラック樹脂とキノンジアジド基を有する感光剤化合物を含むフォトレジストにおいて、該フォトレジストの露光用光に対する吸収係数α[μm]^-1を ０．５ ≦ α ≦ ７ とする。例文帳に追加

In the photoresist comprising an alkali-soluble novolak resin and a sensitizer compound having a quinonediazido group, the absorption coefficient α[μm]^-1 of the photoresist to light for exposure is adjusted to 0.5≤α≤7. - 特許庁

レジューム情報記憶手段４２は、デジタルコンテンツの再生中断が検出されると、該デジタルコンテンツ及び中断位置に係るレジューム情報を記憶する。例文帳に追加

When the playback interruption of the digital contents is detected, a resume information storage means 42 stores resume information concerning the digital contents and the interruption position. - 特許庁

まず（ｉ）反射防止膜１２とフォトレジスト１３との界面における、フォトレジスト１３側から見た反射係数の絶対値が第１の値以下となるように、シリコン酸化膜１１の膜厚を設定する。例文帳に追加

(i) The thickness of the silicon oxide film 11 is set so that the absolute value of a reflection coefficient from the side of the photoresist 13 at the interface between the antireflection film 12 and the photoresist 13 equals or goes below a first value. - 特許庁

本発明に係る多階調フォトマスクは、露光装置から露光光Ｉを照射することにより、レジスト膜を形成した露光対象基板３０上にレジストパターンを形成するために用いられる。例文帳に追加

This multi-gradation photomask is used to form a resist pattern on the substrate 30 having a resist film already formed by radiating exposing light I from the exposing device. - 特許庁

ポリエステル系樹脂及び加熱硬化型硬化剤を含むレジスト液によるレジスト層が金属箔の一部又は全部に形成されているエッチング用金属箔積層体に係る。例文帳に追加

In the metal foil stacked body for etching, a resist layer by a resist liquid containing a polyester based resin and a hot-curing agent is formed on a part or the whole of metal foil. - 特許庁

レジ係りが、商品に付随するバーコードをＰＯＳレジ２で読み取る等すると、ＰＯＳサーバ３を介して、当該商品の売上商品情報と価格がホストサーバ１に送信される。例文帳に追加

When the cashier reads a bar code affixed to the commodity by a POS register 2, a sales commodity information of the commodity and a price are transmitted to the host server 1 through the POS server 3. - 特許庁

また、プランジャ３の係合溝３３ａ〜３３ｄに対するレジスタリング７のかかり代を、レジスタリング７の線径の３０〜５０％の範囲内に設定する。例文帳に追加

An engaged width of the register ring 7 against connecting grooves 33a to 33d of a plunger 3 is set within a range of 30 to 50% of a wire diameter of the register ring 7. - 特許庁

ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤を含むレジスト液によるレジスト層が金属箔の一部又は全部に形成されているエッチング用金属箔積層体に係る。例文帳に追加

In the metallic foil stacked body for etching, a resist layer by a resist liquid comprising a polyester based resin and an isocyanate based hardening agent is formed on part or whole of metallic foil. - 特許庁

複数台のスロットマシン１での対戦ゲームにおいて、通信装置９０を介して、対戦ゲームを行っているスロットマシン１間で、当該対戦ゲームで使用したクレジットに係る消費クレジット情報を送受信する。例文帳に追加

In a match game in the plurality of slot machines 1, credit consumption information relating to credits used in the match game is transmitted and received between the slot machines 1 playing the match game through the communication equipment 90. - 特許庁

レジスタ１０、及びレジスタ２０に多項式Ｒ_ｉ（ｚ）とＢ_ｉ（ｚ）の係数を格納し、それらに対し演算ユニット３０でガロア体演算を行う。例文帳に追加

Coefficients of polynomials R_i(z) and B_i(z) are stored in registers 10 and 20 and Galois field arithmetic is performed thereon by an arithmetic unit 30. - 特許庁

複数の制御モジュール対応にコマンドを書き込むレジスタおよび複数の制御モジュール対応にその占有状態およびツリー状の従属関係を管理するレジスタをそれぞれ集中して配置する。例文帳に追加

Registers where commands are written corresponding to control modules and registers where occupation states and tree-shaped subordination relation are managed corresponding to the control modules are centralized and arranged. - 特許庁

ポインタリスト管理部は、上記割り当てられた仮想ベクトルレジスタの各要素毎に物理レジスタ上の任意のデータ領域を割り当て、各要素と割り当てられたデータ領域との対応関係を示すポインタリストを管理する。例文帳に追加

A pointer list management part assigns arbitrary data areas on a physical register for respective elements of the assigned virtual vector register and manages a pointer list showing the correspondence relation between respective elements and assigned data areas. - 特許庁

露光により形成されたレジストパタ−ンとウエハとの絶対的な位置関係の確認は、レジストマ−クと、下地マ−ク510とのずれ量を重ね合わせ精度測定機により測定することにより行う。例文帳に追加

The absolute positional relation between the resist patterns formed by exposure and a wafer is confirmed by measuring the deviation of the resist marks and the base mark 510 by a superposition precision measuring instrument. - 特許庁

このとき、制御部７により、図２のレジスト剥離液Ｈ１の粘度μと水分率Ｐとの相関関係から、レジストの溶け込み量に依存せずに、粘度計６で測定した粘度μから水分率Ｐを正確に求める。例文帳に追加

By this, the control part 7 correctly evaluates the moisture percentage P from the viscosity μ measured by the viscometer 6 not depending on a dissolved amount of the resist from a correlation between the viscosity μ and the moisture percentage P of the liquid H1 shown in Fig.2. - 特許庁

レジスト液を吐出するノズル３ａ、３ｂ、および３ｃについて、吐出されたレジスト液により平行かつ等間隔の液膜２１が形成されるように、それぞれの配置関係と、駆動方向を定める。例文帳に追加

Relation in placement and driving direction of resist liquid- discharging nozzles 3a, 3b and 3c are relatively determined so that liquid films 21 are formed parallel and at equal intervals of discharged resist liquid. - 特許庁

第１の積和回路（２３６，２３７）の一方の入力には係数用レジスタを接続し、他方には２つの入力データ用レジスタを毎サイクル切り替えて交互に接続する。例文帳に追加

A register for a coefficient is connected to one input of the 1st product sum circuits 236 and 237, and two registers for input data are alternately connected to the other while switched in each cycle. - 特許庁

次に、非接触リーダライタ５が、購入した商品に係るクーポンＩＤの取得命令をレジ端末９に送信すると、レジ端末９は、クーポンＩＤを非接触リーダライタ５に一括送信する。例文帳に追加

Then, when the non-contact reader/writer 5 transmits the acquisition instruction of coupon ID related with the purchased merchandise to a register terminal 9, the register terminal 9 transmits the coupon ID in a batch to the non-contact reader/writer 5. - 特許庁

レジスタ群２およびＡＬＵ１の各々は、切替制御信号１０１と、時間的に変化するとともにレジスタ群２に格納されたソースデータとは無関係な切替データ信号１０２とを受ける。例文帳に追加

Each of the register group 2 and the ALU 1 receives a switching control signal 101, and a switching data signal 102 that changes in time and is irrelevant to source data stored in the resister group 2. - 特許庁

推定エコー算出部は、前記帰還レジスタの格納値及び前記係数レジスタの格納値を使用して前記推定エコーを算出する。例文帳に追加

Relating to an estimation echo operation part 45, inner product operation of a feedback register vector Zk stored in the register part 42 and a coefficient vector Ck is performed, an estimation echo signal gk is generated and is supplied to the adder 15. - 特許庁

フィードロール対とレジロール対とが用紙の搬送経路上で並んで配設された場合であっても、フィードロールの摩耗による用紙の搬送遅れやレジロール対との搬送速度関係の変化等が生じないようにする。例文帳に追加

To preclude occurrence of a delay in sheet transport due to wear of a feed roller, a change in the transporting speed relationship with a resist roller pair, etc. even if a feed roller pair and the resist roller pair are arranged lying in line on the sheet transporting path. - 特許庁