「化学的特徴」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

常温溶融塩のカチオン種の一電子還元体のＳＯＭＯ準位を半経験的手法または非経験的手法により計算することを特徴とする常温溶融塩の電気化学的安定性の決定方法。例文帳に追加

This determination method of the electrochemical stability of salt melting at room temperature is characterized by calculating the SOMO level of one-electron reductant of the cation species in the salt melting at room temperature by a semi-empirical method or a non-empirical method. - 特許庁

基材の表面にＣＨ_3 ＳＯ_3 基を有する有機ケイ素化合物が基材とシロキサン結合またはウレタン結合により化学的に結合され、かつ、シロキサン結合を有する有機ケイ素化合物が基材とシロキサン結合またはウレタン結合により化学的に結合されてなることを特徴とする。例文帳に追加

This surface-treated substrate is obtained by chemically bonding an organic silicon compound having CH3SO3 group on the surface of the substrate by a siloxane bond or a urethane bond, and further chemically bonding an organic silicon compound having the siloxane bond to the substrate by the siloxane bond on the urethane bond. - 特許庁

少なくとも炭素材料を含有し、該炭素材料の表面に含窒素官能基が配向し、かつ該窒素官能基に電気化学的に酸化還元されうる補助化合物が固定化されていることを特徴とする電気化学的表示素子用電極。例文帳に追加

The electrode for electrochemical display elements contains at least a carbon material and has a nitrogen-containing functional group aligned on a surface of the carbon material and has an auxiliary compound which can be electrochemically changed to the nitrogen-containing functional group by redox reaction, fixed thereto. - 特許庁

水銀滴を一方の電極とする電気化学的分析装置において、測定セル内に他方の電極に対して下方に配置した上部開放型水銀キャピラリーから水銀滴を上向きに押し出してこれを水銀電極とすることを特徴とする水銀電極式電気化学的分析装置。例文帳に追加

In an electrochemical analyzer using a mercury droplet as one electrode, a mercury droplet is upwardly pushed out from a top-open type mercury capillary disposed below the other electrode in a measurement cell, and used as a mercury electrode. - 特許庁

中距離秩序が特徴であるかなりの量の断片を含む微細構造を有し、非常に高貯蔵量を示している無秩序多成分ＭｇＮｉに基づいた電気化学的水素貯蔵物質及びその製造方法及びその電気化学的水素貯蔵物質を用いた電単電池。例文帳に追加

The following are provided: the disordered multicomponent MgNi-based electrochemical hydrogen storage material which has a microstructure including a substantial volume fraction characterized by intermediate range order and exhibits extraordinary storage capacity; a method for fabricating the electrochemical hydrogen storage material; and the electrochemical cell using the electrochemical hydrogen storage material. - 特許庁

ウエハ表面に凹凸のパターンが形成され、その凹部を埋め込むように該ウエハ表面に形成された金属膜３２を研磨する研磨方法において、前記金属膜３２の研磨を電解研磨と化学的機械研磨もしくは化学的バフ研磨とを交互に行うことを特徴とする。例文帳に追加

In a polishing method to polish a metal film 32, which is formed on a surface of a wafer, where a concave-convex pattern is formed, and to embed the recess, the polishing of the metal film 32 is conducted by performing the electrolytic polishing and the chemical mechanical polishing or chemical buffing by turns. - 特許庁

アルミニウム原材の溶解鋳造時において、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂのうち、少なくとも一種の金属または該金属の酸化物、窒化物、炭化物のうち少なくとも一種の微粒子を添加し、分散させたのち、圧延により箔状とし、電気化学的または化学的にエッチングしたことを特徴としている。例文帳に追加

At dissolving casting to aluminium materials, at least one kind of metal among Ti, Zr, Hr and Nb or the particles of at least one kind of oxide, nitride and carbide of this metal are added, dispersed, made into a foil by subsequent drawing and etched electrochemically or chemically. - 特許庁

親水性支持体上に、化学的活性シェルと軟化点が該化学的活性シェルより４０℃低いコアを有するコア／シェル構造微粒子及び親水性ポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料。例文帳に追加

The image forming material comprises an image forming layer, which is provided on a hydrophilic substrate, contains core/shell structure particulates which comprises a chemically active shell and a core with a softening point lower by 40°C than that of the chemically active shell, and a hydrophilic polymer. - 特許庁

物理化学的パラメータにより特徴づけられた化学製品クレームについては、もし記載されたパラメータに基づいて、当該パラメータにより特徴づけられた製品を、対比文献において開示された製品と比較することができず、また、当該パラメータにより特徴づけられた製品と対比文献における製品との相違が確定できない場合には、当該パラメータにより特徴づけられた製品クレームは、専利法22条2項にいう新規性を備えないものと推定される。例文帳に追加

For the claim of a chemical product characterized by physical/chemical parameter(s), if it is impossible to compare the product characterized by said parameter(s) with that disclosed in a reference document based on the parameter(s) described and to determine the difference between them, it is deduced the product claim characterized by said parameter(s) does not possess novelty as required in Article 22.2.  - 特許庁

物理化学的パラメータにより特徴づけられた化学製品クレームについては、もし記載されたパラメータに基づいて、当該パラメータにより特徴づけられた製品を、対比文献において開示された製品と比較することができないことで、当該パラメータにより特徴づけられた製品と対比文献における製品との相違が確定できない場合には、当該パラメータにより特徴づけられた請求項は、専利法22条2項にいう新規性を備えないと推定される。例文帳に追加

For the claim of a chemical product characterized by physical/ chemical parameter (s), if it is impossible to compare the product characterized by said parameter (s) with that disclosed in a reference document based on the parameter (s) described and to determine the difference between them, it is deduced the product claim characterized by the said parameter (s) does not possess novelty as required in Articleb 22.2.  - 特許庁

温泉の三要素は温泉の特徴を理解するために有益であるが、詳しくは物理的・化学的な性質等に基づいて種々の分類及び規定がなされている。例文帳に追加

As the three elements of hot springs are useful for understanding the characteristics of each hot spring, various categorization and regulations are stipulated based upon physical & chemical characteristics.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

電気化学的分析のために血清から鉄を解放するための組成物において、低級脂肪族アルコールと約5.5～8.5モル毎リットルのHCLとの実質的に鉄を含まぬ混合物からなることを特徴とする血清から鉄を解放するための組成物。例文帳に追加

Iron-free reagent to free iron from serum for electrochemical analysis of serum iron level comprising low-grade fatty alcohol and about 5.5-about 8.5 N HCl.  - 特許庁

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨に用いられ、窒素原子を３または４つ有するアゾール基を側鎖に有するポリマー、酸化剤および有機酸を含有することを特徴とする金属用研磨液。例文帳に追加

The polishing solution for metals is used for the chemical mechanical polishing in a semiconductor device manufacturing process, and contains a polymer having an azole group with three or four nitrogen atoms at a side chain, an oxidant, and organic acid. - 特許庁

半導体集積回路用基板の化学的機械的平坦化に用いられ、下記式（Ｉ）で表されるアミノ酸誘導体を含有することを特徴とする金属用研磨液。例文帳に追加

Polishing solution for metal used in chemical mechanical planarization of a substrate for semiconductor integrated circuit contains an amino acid derivative represented by formula (I). - 特許庁

本発明は、放射線分解の低減やオートクレーブ処理能力など、^１８Ｆ−フルオロ−デオキシ−グルコース（^１８Ｆ−ＦＤＧ）−溶液の１またはそれ以上の物理的／化学的特徴を改良する方法に関する。例文帳に追加

The method is for improving physical and chemical characteristics of one or more of ^18F-fluoro-deoxy-glucose (^18F-FDG) solutions such as reduction of radiolysis and an autoclave processing capability. - 特許庁

このインプラントは、金属質の特徴物（例えばコバルトクロム合金から作られる）を有することができ、化学的及び／又は物理的改質を結果として生じる１つ以上の製剤に暴露される表面を含むことができる。例文帳に追加

The implants, which can have a metallic character (for example, made of a cobalt chromium alloy), can include a surface that is exposed to one or more formulations that results in a chemical and/or physical modification. - 特許庁

半導体デバイスの製造における化学的機械的研磨に用いる研磨液であって、チオエーテル化合物を含有することを特徴とする金属用研磨液。例文帳に追加

The polishing solution being used for chemical mechanical polishing in the fabrication of a semiconductor device contains a thioether compound. - 特許庁

半導体デバイスの化学的機械的平坦化において、主として銅配線の研磨に用いられる使用される金属用研磨液であって、下記一般式（Ｉ）で表される化合物のうちの少なくとも一つを含むことを特徴とする。例文帳に追加

The polishing solution for metal is mainly used for polishing copper wiring in the chemical mechanical flattening of a semiconductor device, and contains at least one compound expressed by a general formula (I). - 特許庁

半導体デバイスの化学的機械的平坦化に使用される金属用研磨液であって、下記一般式（Ｉ）で表される化合物と、酸化剤とを含有することを特徴とする金属用研磨液。例文帳に追加

The metal polishing solution is used for the chemical mechanical flatness of a semiconductor device, and contains a compound shown in general formula (I) and an oxidizer. - 特許庁

半導体集積回路用基板の化学的機械的平坦化に用いる、下記式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする金属用研磨液である。例文帳に追加

The metal polishing solution is used for chemical-mechanical planarizing a substrate for a semiconductor integrated circuit, and contains a compound expressed by formula (I). - 特許庁

白金族系金属膜を化学的機械的研磨法により研磨するための金属用研磨液であって、酸化剤と表面の一部がアルミニウムで覆われているコロイダルシリカを含有することを特徴とする。例文帳に追加

The polishing solution for metal is used for polishing a platinum group-based metal film by a chemical-mechanical polishing method, and contains oxidant and colloidal silica a part of the surface of which is covered with aluminum. - 特許庁

半導体デバイスの製造における化学的機械的研磨に用いる研磨液材料であって、 酸化剤、砥粒および砥粒へ吸着する界面活性剤を含有することを特徴とする金属用研磨液材料。例文帳に追加

The polishing solution material is used for chemomechanical polishing in manufacturing a semiconductor device, and comprises an oxidant, an abrasive grain and a surfactant for absorption to the abrasive grain. - 特許庁

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨に用いられ、下記一般式（１）で表される化合物、酸化剤、複素芳香環化合物、および、有機酸を含有することを特徴とする金属用研磨液。例文帳に追加

The polishing solution for the metal is used for chemical mechanical polishing in a semiconductor device manufacturing process, and contains a compound indicated by general formula (1), an oxidant, a complex ring compound, and organic acid. - 特許庁

半導体デバイスの製造における化学的機械的研磨に用いる研磨液であって、特定構造の有機カルボン酸の鉄（ＩＩＩ）錯体を酸化剤として含有することを特徴とする金属用研磨液。例文帳に追加

The polishing solution being used for chemical mechanical polishing in the fabrication of a semiconductor device contains an iron(III) complex of an organic carboxylic acid having a specified structure as an oxidizing agent. - 特許庁

（ａ）エネルギー線の照射により、直接的あるいは間接的にラジカル（Ａ）を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型化学増幅レジスト組成物。例文帳に追加

Each of the negative type chemical amplification resist compositions contains (a) a compound which directly or indirectly generates a radical (A) when irradiated with energy beams. - 特許庁

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄液であって、下記一般式（Ｉ）で表される化合物と有機酸とを含有することを特徴とする半導体デバイス用基板の洗浄液である。例文帳に追加

The cleaning solution is used after a chemical mechanical polishing process in production of a semiconductor device, and contains a compound represented by a general formula (I) and an organic acid. - 特許庁

（ａ）エネルギー線の照射により、直接的あるいは間接的にラジカル（Ａ）を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型化学増幅レジスト組成物。例文帳に追加

The positive chemically amplifying resist composition contains a compound (a) which directly or indirectly produces radicals (A) by irradiation of energy rays. - 特許庁

化学的組成を特徴とする洗浄剤を使用しなくても理想的な洗浄が可能であり、環境汚染の問題を起こさない、歯科ユニットのための洗浄水供給装置を提供する。例文帳に追加

To provide a washing water supply apparatus for a dental unit which is ideally washed without using a detergent characteristic of a chemical composition and does not cause environmental pollution problems. - 特許庁

半導体デバイスの製造における化学的機械的研磨に用いる研磨液であって、メソイオン化合物を含有することを特徴とする金属用研磨液。例文帳に追加

The polishing solution being used for chemical mechanical polishing in the fabrication of a semiconductor device contains a mesoionic compound. - 特許庁

本発明の研磨剤は、単結晶シリコンを含む被研磨面を化学的機械的に研磨するための研磨剤であり、酸化セリウム粒子と水溶性ポリアミンと水をそれぞれ含有し、ｐＨが８〜１３の範囲にあることを特徴とする。例文帳に追加

The abrasive is the one for chemically and mechanically polishing the surface to be polished, containing the single-crystal silicon, and contains cerium oxide particles and water-soluble polyamine and has a pH of 8 to 13. - 特許庁

また、本発明の金属用研磨液を、被研磨面と接触させ、被研磨面と研磨液および／又は研磨パッドを相対運動させて研磨することを特徴とする化学的機械的研磨方法である。例文帳に追加

The polishing is conducted by contacting the polishing liquid for the metal to the surface to be polished, and relatively moving the surface to be polished to the polishing liquid and/or a polishing pad. - 特許庁

サイドダム材料の機械的または化学的に摩耗した表面を公知の方法でクリーニングし、次いで破砕および粉砕によりサイドダムをＢＮ−含有粉末にすることを特徴とする方法。例文帳に追加

The surface weared mechanically and chemically of a side dam material is cleaned by the public known method, then subjected to crushing and pulverization so that the side dam is made into BN-containing particles. - 特許庁

イカの硬組織の物理的処理物、又は化学的処理物を有効成分として含有することを特徴とする糖尿病性腎症治療・予防剤。例文帳に追加

The therapeutic/prophylactic agent for diabetic nephropathy comprises a physically treated material or a chemically treated material of hard tissue of squid as an active ingredient. - 特許庁

多孔質膜自体の化学的・物理的特徴に極力影響を与えず、かつ特殊な装置や真空工程を必要としない簡易な工程により、表面に封止層を有する多孔質膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of producing a porous film having a shielding layer on its surface by a simple step which does not have the least effect on chemical and physical features of the porous film and eliminates the need for a specific apparatus and a vacuum step. - 特許庁

醤油オリに含有するタンパク質の凝集体を破壊したものを、酵素的または化学的に加水分解した後、固形分を除去して調味液を得ることを特徴とする製造方法を提供する。例文帳に追加

This method for producing a seasoning liquid is characterized by enzymatically or chemically hydrolyzing a crushed coagulated material of proteins contained in the soy sauce settling and removing the solid component to obtain the seasoning liquid. - 特許庁

物理化学的排水処理装置の特徴を活かし、し尿、下水、畜産排水や工業用排水等の産業用排水等の種々の排水を効率的に浄化するようにした排水処理装置及び排水処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a wastewater treatment apparatus and a wastewater treatment method constituted so as to clean various wastewaters such as excretion, sewage, livestock waste water, industrial wastewater or the like by putting the characteristics of a physicochemical wastewater treatment apparatus to practical use. - 特許庁

(c) 中間生成物を含む化学物質であって，化学式で表される構成要素及び構成要素間の関係によって，代替基，分子構造，立体的異性，分子量又はそれらを個性化する又は特定化する他の特徴の意義によって，定義されるもの例文帳に追加

c) chemical substances, including intermediates defined by the component elements and their relationship, symbolized by chemical formulae, by the significance of the substituting radicals, molecular structure, stericisomerism, molecular weight or by other features which individualize or identify them; - 特許庁

(4) また要約には，適宜，明細書に記載する化学式のうち当該発明を最も適切に特徴付ける化学式を記載するが，ただし，当該発明についての利点若しくは価値に関する記載又は当該発明の投機的利用に関する記載は含めない。例文帳に追加

(4) Where appropriate, the abstract shall also contain the chemical formula which, among those contained in the specification, best characterises the invention but shall not contain statements on the alleged merits or value of the invention or on its speculative application. - 特許庁

本発明の養殖方法の特徴は、前記養殖水槽に供給されるオゾン処理された海水の流れに対して、それが養殖水槽に到達する前に、還元性の化学種をインサイチュ且つ連続的に添加することによって、化学処理（３０，３１，７０，７１）を施すところにある。例文帳に追加

A reducing chemicals is in situ and continuously added to the flow of ozone-treated seawater to be fed to the culture tank before the seawater reaches the culture tank to carry out a chemical treatment (30, 31, 70 and 71). - 特許庁

化学パルプを機械的処理することで短繊維化し、短繊維化した化学パルプをセルラーゼ系酵素による処理を行った後に、高速回転式解繊機または高圧ホモジナイザーで微細化処理を行うことを特徴とする微細繊維状セルロースの製造方法である。例文帳に追加

A method for producing a microfibrous cellulose comprises the steps of: mechanically processing chemical pulp into shortened fibers; treating the shortened fibers of the chemical pulp with a cellulase-based enzyme; and pulverizing the treated product with the cellulase-based enzyme using a high-speed rotary defibrating apparatus or a high-pressure homogenizer. - 特許庁

本発明の電気化学測定用電極は、少なくとも一部が測定対象となる溶液に接触されて、この溶液の電気化学反応により生じる電気的変化を検出する電極であり、基板上にアモルファス状の炭素薄膜が形成されたことを特徴とする。例文帳に追加

This electrode for electrochemical measurement is characterized by amorphous carbon thin film formed on its substrate, wherein at least a part of it is contact with a measured liquid solution to detect any electrical change caused by electrochemical reaction of this solution. - 特許庁

本発明は、サンプル吸収層と、試薬層と、サンプル測定用電極とを、上方からこの順で含む積層構造を有することを特徴とする、電気化学的に直接検出することのできない被測定物質についての電気化学分析に用いられる分析チップである。例文帳に追加

The electrochemical analysis chip, which is used in the electrochemical analysis related to the substance to be measured which cannot be subjected to direct electrochemical detection, includes a laminated structure including a sample absorbing layer, a reagent layer and a sample measuring electrode in this order from above. - 特許庁

表面提示法により得られる物質Bを物質Bに対し、特異的に親和性を持つ物質Aを用いて選択する生化学物質の選択方法において、前記物質Aを粒子に固定化してなることをを特徴とする生化学物質相互作用の選択方法とする。例文帳に追加

This method for selecting a biochemical substance, i.e., a substance B obtained by the surface presentation method, using a substance A which has affinity specifically to the substance B is a selecting method of biochemical substance interaction characterized by fixing the substance A to grains. - 特許庁

商品の説明は，次のものから成る。商品及び場合により原料の基本的な物理的，化学的，微生物学的及び／又は感覚的特徴に関する情報，商品の現地における伝統的な生産方法の説明，商品の特徴であって，商品と地理的環境又は地理的原産との間の関係を示すもの。例文帳に追加

The description of the goods shall comprise: data on the basic physical, chemical, microbiological and/or organoleptic characteristics of the goods and, where appropriate, of the raw materials; a description of the traditional local method of production of the goods; the characteristics of the goods indicating their relationship with the geographical environment or geographical origin.  - 特許庁

電気化学的な還元又は酸化とこれに伴う析出又は溶解とによって発色又は消色する発色材料を含有する高分子電解質層４が、第１極１と第２極５との間に挟持されている電気化学的調光装置において、少なくとも有機物で表面処理された二酸化チタンが高分子電解質層４に含有されていることを特徴とする、電気化学調光素子。例文帳に追加

In an electrochemical dimming device which has a macromolecular electrolytic layer 4, containing a coloring material colored or discolored by electrochemical reduction or oxidation and deposition or dissolution accompanying it, held between a 1st electrode 1 and a 2nd electrode 5, the macromolecular electrolytic layer 4 contains at least titanium dioxide whose surface is treated with an organic substance. - 特許庁