「反方位」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

制御コードを受信することによって反射状態を変更可能な位置検出用タグ１２が用いられるので、輝度画像処理部１４によって反射波３４の強度が変更指令に対応して変化する相対方位が特定される。例文帳に追加

Since a tag 12 for position detection is used whose reflection state can be changed by receiving a control code, a relative direction is determined by a luminance image processing part 14 in which the intensity of a reflected wave 34 changes correspondingly to a change command. - 特許庁

スピーカ収容部１４の側面と対向する音反射板１２の面がラッパ型に湾曲し、音反射面１４ａと協働して上部音出力開口部１４ｃから出力される音を水平方向、全方位に拡散する。例文帳に追加

A face of a sound reflective plate 12 opposing to a side face of a loudspeaker containing part 14 is characterized in that the plane is curved in a funnel-shape to omni-azimuthally sound out the sound outputted from an upper part sound output opening 14c in a horizontal direction in cooperation with a sound reflection plane 14a. - 特許庁

もし、ある適切な方位を選ぶための特別な注意がはらわれるならば、厚い結晶に対しては2つの強いビームの中にブラッグ(反射)ビームのエネルギーの99%が含まれることがあり得る。例文帳に追加

If special care is taken to choose an appropriate orientation, it is possible that as much as 99% of the energy of the Bragg beams may be contained in two strong beams for a thick crystal.  - 科学技術論文動詞集

方位角において、滑走路灯列線を含む鉛直面から滑走路中心線側へ十一度まで及びその反対側へ二度までの範囲並びに光源の中心を含む水平面から上方七度までの範囲例文帳に追加

In azimuth angles, a range of 11 degrees from a vertical plane comprising a runway edge lights array line toward the runway centerline, another range of 2 degrees toward the opposite side, and a range of 7 degrees upward from a horizontal plane comprising the light source  - 日本法令外国語訳データベースシステム

方位角において、滑走路灯列線を含む鉛直面から滑走路中心線側へ九度まで及びその反対側へ二度までの範囲並びに光源の中心を含む水平面から上方七度までの範囲例文帳に追加

In azimuth angles, a range of 9 degrees from a vertical plane comprising a runway edge lights array line toward the runway centerline, another range of 2 degrees toward the opposite side, and a range of 7 degrees upward from a horizontal plane comprising the light source  - 日本法令外国語訳データベースシステム

その結果、目標物によって反射されて受信アンテナ１２により受信された信号は、目標物の方位によって異なる周波数スペクトルを有する。例文帳に追加

Consequently, the signal reflected by the target and received by the reception antenna 12 has a frequency spectrum different with the azimuth of the target. - 特許庁

反転されたコンテナユニット７内の複数個の各茸栽培ボトル３の開口３Ａに対応する下方位置に複数個の回転ブラシが設けられている。例文帳に追加

Plural rotating brushes are provided at a lower position corresponding to the opening 3A of each of the plural mushroom cultivation bottles 3 in the reversed container unit 7. - 特許庁

レーダ装置は、レーダ波を発射すると共に、レーダ波が物体に反射して戻ってくる各到来波をアレーアンテナで受信し、この受信信号に基づき、到来波の方位を検出する。例文帳に追加

A radar device emits radar waves, receives incoming waves of radar waves, which return after reflected at an object, at the array antenna, and detects the direction of the incoming waves on the basis of reception signals. - 特許庁

面方位（１００）面を有する単結晶シリコン基板に、マイクロサイズの開口部と貫通孔から構成される反応空間を複数配置して形成したことを特徴とするマイクロリアクター。例文帳に追加

The microreactor is formed by arranging a plurality of reaction spaces composed of micro-size opening and through-hole on a single crystal silicon substrate having a crystal orientation (100). - 特許庁

また、螺旋軸方位が膜平面の略法線方向にある前記液晶組成物からなり、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に反射する偏光選択膜である。例文帳に追加

The polarization-selective film comprises the liquid crystal composition having an axial direction of the helix in the almost normal direction of the film plane and selectively transmits a prescribed polarized light and selectively reflects the other polarized light. - 特許庁

光結合部１２０において形成された回折格子１３０は、第１光導波路１１１および第２光導波路１１２それぞれを導波する特定波長の光のうちの特定方位の偏波光をブラッグ反射させる。例文帳に追加

A diffraction grating 130 formed at the optical coupling part 120 makes a Bragg reflection of polarized light of a specified direction among specified wavelength light which are guided in the first waveguide 111 and the second waveguide 112, respectively. - 特許庁

携帯時には、電源メインスイッチ４６をＯＦＦ操作した後、レンズユニット２２をカメラケース１４の前面位置からモニタ３０の側方位置に反転移動させる。例文帳に追加

When the camera is carried, after the power supply main switch 46 is turned off, the lens unit 22 is inversely moved to the side of the monitor 38 from the front of the camera case 14. - 特許庁

たとえば分離サーボ・バンドのパターンは、他のサーボ・バンドに対して、横方向に反転しているなどの異なる方位角配向の検出可能遷移を有する。例文帳に追加

For example, a pattern of the separated servo band has the detectable transition of a different azimuth orientation such as inversion in the horizontal direction for the other servo band. - 特許庁

反射鏡１３に向けて赤外線を発光する赤外線照射源１５を全方位カメラ１０内に装備して（図７）、車両の周囲が暗いときは、赤外線照射源１５から赤外線を照射することもできる。例文帳に追加

An infrared ray irradiation source 15 for irradiating the infrared lay to the reflecting mirror 13 is arranged in the omnidirectional camera 10, and the infrared ray can be irradiated from the infrared ray irradiation source 15 when it is dark around the vehicle. - 特許庁

広い観察方位及び観察角にわたって、コントラスト反転が無く、しかも高コントラストの表示を得ることができる液晶表示素子を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid crystal display device which causes no contrast inversion and, moreover, obtains high contrast in a wide observation direction and observation angle. - 特許庁

レーダの検出視野内に複数の物体が存在し、それらによる反射波のドップラー周波数が同一となる状況でも、各ターゲットの方位を精度良く求めることが可能なレーダ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a radar apparatus for accurately obtaining an orientation of each target, even if there are a plurality of objects within a detecting visual field of a radar and Doppler frequencies of reflected waves from those objects become identical. - 特許庁

この時検出される散乱強度の分布は、試料１２の膜厚、密度および表面・界面のラフネスや結晶方位といった構造が不均一である場合、その不均一性を反映したスペックルとなる。例文帳に追加

If the structure of the sample 12, such as film thickness, density, the roughness of a surface or interface, and crystal orientation, is nonuniform, the distribution of the scattering intensities detected becomes a speckle that reflects the nonuniformity. - 特許庁

反射赤外線の面方位依存性を測定する際には、試料表面上で赤外線があたる領域を一定にするために、試料を測定領域を中心にして面内回転する。例文帳に追加

For measuring the orientation dependency of reflection infrared rays, the sample is rotated within the surface with a measurement region as a center to make constant a region where infrared rays are applied on the sample surface. - 特許庁

本発明の目的は、検出感度が高く、感度のばらつきを少なくし、座標精度を向上させ、膜種、厚さ、結晶方位、反り量の異なる多種多様なウェハに対応できるウェハ表面検査装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a wafer surface inspection device having high detection sensitivity, little sensitivity dispersion, and improved coordinate accuracy, which can be used for various wafers whose film kind, thickness, crystal azimuth and warpage are different respectively. - 特許庁

アレイ素子の間隔がλ／２より大きく配置された物体位置検出装置において、送信波を周囲に漏れなく送信すること、及び、反射波の各素子間の位相差から物体の方位を一意に決定すること。例文帳に追加

To transmit transmission waves in all directions to periphery in an object location detection apparatus in which the interval between array elements is larger than λ/2 and univocally determine the direction to an object on the basis of a phase difference of reflected waves between elements. - 特許庁

レーザレーダ装置７は、検知領域内の物体を検知して（Ｓ１０１）、反射光量データを得るとともに（Ｓ１０３）、自車１０１から物体までの距離および方位を取得する（Ｓ１０３）。例文帳に追加

A laser radar device 7 detects the object inside a detection area (S101), obtains a reflected light amount data (S103), and acquires a direction and a distance from its own vehicle 101 to the object (S103). - 特許庁

基板表面に照明を照射し、散乱光や反射光を複数の方位、仰角で検出することで基板の表面あれを表面あれの周波数帯域ごとに計測する。例文帳に追加

The surface roughness of the substrate is measured in each frequency band of the surface roughness by applying illumination to the substrate surface and detecting scattered light or reflected light at a plurality of azimuths or elevation angles. - 特許庁

第１の光ビーム照射部２８は、フォトレジスト膜の表面で反射可能な所定の波長を有する光ビームＬaを検査位置Ｐに向けて第１の照射方位＜Ｔa＞から照射する。例文帳に追加

A first light beam irradiating part 28 irradiates a light beam La that is reflected on a surface of a photo resist film and has a specified wavelength, from a first irradiation direction Ta toward an inspection position P. - 特許庁

デジタルカメラ１０の撮影時には電源メインスイッチ４６をＯＮ操作した後、レンズユニット２２をヒンジ部１８を利用してモニタ３８の側方位置からカメラケース１４の前面位置に反転移動させる。例文帳に追加

During the photographing of a digital camera 10, after a power supply main switch 46 is turned on, a lens unit 22 is inversely moved to the front of a camera case 14 from the side of a monitor 38 using a hinge 18. - 特許庁

第２の光ビーム照射部３０は、フォトレジスト膜を透過可能で、かつ酸化膜の表面で反射可能な所定の波長を有する光ビームＬbを検査位置Ｐに向けて第２の照射方位＜Ｔb＞から照射する。例文帳に追加

A second light beam irradiating part 30 irradiates a light beam Lb that is transmitted through the photo resist film reflected on a surface of an oxide film, and has a specified wavelength from a second irradiation direction Tb toward the inspection position P. - 特許庁

結晶方位認識マークを形成する外周余剰領域を小さくしてデバイス領域を最大限に大きく確保することができ、なおかつ反射式のマーク認識方法に最適な半導体ウエーハを提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor wafer which secures a device region maximally and reducing the area of an outer peripheral surplus region for forming crystal orientation recognition mark, while being optimum for the recognizing method of a reflection type mark. - 特許庁

太陽の仰角が所定値より大きいと判断されると、反射体９を太陽の方位・仰角の方向に向けるような制御信号を送出する。例文帳に追加

When it is determined that the elevation of the sun is larger than designated, a control signal for directing the reflector 9 toward the azimuth and elevation of the sun is transmitted. - 特許庁

少ない枚数の半導体ウェハーによって擬似位相整合効果を発現し、方位反転軸の平行度の高い、効率的な差周波光を生成するための電磁波発生素子を提供する。例文帳に追加

To provide an electromagnetic wave generating element for manifesting a quasi phase matching effect by a small number of semiconductor wafers and generating efficient difference frequency light with a high parallelism of a direction inversion axis. - 特許庁

単結晶製造装置１は、所定の結晶方位を有する種結晶１０と、昇華用原料２０とを収容する反応容器３０と、蓋部４０とを有する円筒状の坩堝５０を備える。例文帳に追加

The single crystal producing apparatus 1 includes a cylindrical crucible 50 having: a reaction container 30 housing a seed crystal 10 having a prescribed crystal orientation and a raw material 20 for sublimation; and a lid part 40. - 特許庁

一方、この踏み板３の上方位置に手すりを設ける必要があるのでこのコーナー用梁６を上下反転させて特定支柱２ｐ，２ｓ間に架設する。例文帳に追加

Since the handrail has to be provided in a position above the tread 3, the beam 6 for the corner is turned upside down and laid between the specific supports 2p and 2s. - 特許庁

ウェハの反り量が小さく、かつ、ウェハ面内の結晶方位が揃っており、デバイス作製用ウェハとして適用した場合に高いデバイス性能とデバイス歩留りを実現できるSiC単結晶ウェハの提供。例文帳に追加

To provide a SiC single crystal wafer that has a small wafer warp and uniform crystal orientations in a wafer surface and can achieve high device performance and device yield when it is applied as a wafer for manufacturing a device. - 特許庁

モノクロメータ１０をＬ形の支持台１２に載せるときの姿勢を変えることで反射の面方位を変えることができ、モノクロメータ１０をω回転させることでＸ線の入射角を変えることができる。例文帳に追加

The face direction of reflection can be changed by changing the attitude of the monochromator 10 in placing on an L-shaped support table 12, and the incident angle of X-ray can be changed by ω-turn the monochromator 10. - 特許庁

光源（ＦＴ−ＩＲ装置４）から出射し、試料薄膜（試料９）に入射した赤外線の反射光の偏光状態の入射方位依存性を測定することにより、薄膜の分子配向状態を決定する。例文帳に追加

The incidence orientation dependency of the polarization state of the reflection light of infrared rays that are emitted from a light source (FT-IR device 4) and are applied to a sample thin film (sample 9) is measured to determine the molecular orientation state of a thin film. - 特許庁

真空吸着ステージ２の上方位置に、楔状の爪部７ｂを下端に有する係止爪部材７を基板載置領域１３に近接、離反する方向と昇降方向に動作可能に備えてなるワーク昇降手段６を設ける。例文帳に追加

In a position over the vacuum suction stage 2, work lifting/lowering means 6 is disposed in which engaging claw members 7 having wedge-shaped claw portions 7b at lower ends are movable in directions toward and away from the substrate mount region 13 and in vertical directions. - 特許庁

一方、位置検出手段は、昇降機構７ａに備えるエンコーダ１３ａから送られる情報から、反射型センサ１０の位置を検出する。例文帳に追加

On the other hand, a position detecting means detects the position of the reflecting sensor 10 by means of information sent from an encoder 13a provided to an up-down mechanism 7. - 特許庁

ＬＥＤ１１Ａ，１１Ｂからの光は、鏡面１２Ａ，１２Ｂの中心から半径方向の全方位に向かい、鏡面１２Ａ，１２Ｂの内面に到達して反射する。例文帳に追加

Light from the LEDs 11A and 11B directs in all radially directions from the central parts of the mirror planes 12A and 12B, reaches the inner surfaces of the mirror planes 12A and 12B, and reflects. - 特許庁

反射板２の湾曲の内方位置に、光の直進を阻止する仕切り板４を配置して個々の光源毎に光路を区画し、前方部分に個々の光源に対応する集光レンズ３，３を配置する。例文帳に追加

A partition plate 4 for preventing the direct advance of light is arranged at an inner position of the curve of the reflecting plate 2 to partition an optical path for each light source; and condensing lenses 3, 3 corresponding to the individual light sources are arranged in front portions. - 特許庁

天板の化粧面をそのまま活用することができ、表裏反転した使用や取付方位を変更した使用などを簡単、適切に採用し得るようにした天板取付構造を提供する。例文帳に追加

To provide a top plate mounting structure in which the facing of a top plate is utilizable as it is and enables the employment, in which inside and outside are reversed, and that, in which an attachment direction is altered, to be simply and appropriately adopted. - 特許庁

リソグラフィ工程において、極短紫外光が反射型マスクに対して斜め入射する場合であっても、マスクパターンの方位によって生じる転写像の位置ずれや変形（パターン幅の歪み）等の発生を回避する。例文帳に追加

To prevent a misregistration and transformation of a transferred image (distortion of a pattern width) and the like arising from the direction of a mask pattern even if extremely short ultraviolet light is obliquely incident upon a reflection type mask in lithography. - 特許庁

加工用レーザ光の光スポットの加工方向前方位置に検査用レーザ光を照射し、その反射光の強度に基づいてレーザ加工直前位置における異常部を検出する。例文帳に追加

Laser beam for inspection is applied to the forward position in the machining direction of a beam spot of laser beam for machining, and any abnormal part at the position immediately before the laser beam machining is detected based on the intensity of its reflected beam. - 特許庁

広い観察方位及び観察角にわたって、コントラスト反転が無く、しかも高コントラストの表示を得ることができる液晶表示素子を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid crystal display element which is not accompanied with contrast reversal extending over a wide observation direction range and a wide observation angle range and with which a high contrast display is obtainable. - 特許庁

二重反転回転翼の回転数を検出して制御装置にフィードバックすることなく、自動的に浮揚体の方位回転を制御することができる浮揚体を提供する。例文帳に追加

To provide a floating body the orientation revolution of which is automatically controlled without detecting the number of revolutions of double reverse revolution wings and feeding it back to a controller. - 特許庁

凸面鏡である半径ｒの球面鏡の監視側半面から成る反射鏡５と、２次元ＣＣＤカメラ等から成る撮像手段６とにより特定方位視覚センサ１０を構成する。例文帳に追加

A particular direction visual sensor 10 is composed of a reflector 5 which is a convex mirror comprising a monitoring side hemihedry of a spherical mirror with a radius r and an image pickup means 6 comprising a two dimensional CCD camera or the like. - 特許庁

そして、表示処理部は、表示用データのうち方位および反射強度を過去の複数ののものについて累加して画面表示する手段を備えている。例文帳に追加

The part (DSP) is provided with a means which screen-displays the azimuth and the reflection intensity from among the display data in such a way that a plurality of azimuths and reflection intensities in the past are cumulatively added. - 特許庁

更に、前記１次反射ミラー支持装置１６を、太陽の方位に追従する旋回台２０と、太陽の高度に追従する雲台２１により構成する。例文帳に追加

Furthermore, the supporting device 16 is constituted of a swivel base 20 tracing the direction of the sun and a platform 21 tracing the height of the sun. - 特許庁