「格パターン」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

基本情報処理部３１は、工具設計情報２３、加工仕様特徴（パターン）情報２５、及びＮＣＰＧ（プログラム）２６に基づいて、ＮＣＰＧ（プログラム）２６から、既存パターンには無い加工仕様パターン部分を抽出した場合には、これをライブラリ化してデータベースに格納する。例文帳に追加

When a working specification pattern part not present in an existing pattern is extracted from an NCPG (program) 26 based on tool design information 23, working specification feature (pattern) information 25 and the NCPG (program) 26, a basic information processing part 31 stores it in a database by forming it into a library. - 特許庁

塗装パターンに基づいて膜厚のシミュレーションを行う場合に、塗装パターンの測定点を格段に少なくして測定の面倒を軽減すると共に、その塗装パターンのデータに基づきより正確で簡単なデータ処理を行えるようにする。例文帳に追加

To remarkably reduce measuring points in a coating pattern to reduce a trouble in measurement, and to accurately and simply conduct data processing based on the data in the coating pattern, when simulating a film thickness based on the coating pattern. - 特許庁

モデル変形用データ生成部４は、指定された道路箇所に対応するパターンデータをパターンモデル格納部５から読み出し、当該パターンデータを参照しつつ上記抽出されたパラメータデータを加工することで、モデル変形用データを生成する。例文帳に追加

The model deformation data originating part 4 originates model deformation data by reading from a pattern model storage part 5 the pattern data which correspond to the designated portion of the road, and processing the extracted parameter data while consulting the pattern data. - 特許庁

視野マスクのマスク形状をビットパターンとしてシリアルＥＥＰＲＯＭ１２１に格納すると共に、シリアルＥＥＰＲＯＭ１２１からビットパターンを読み出してそのビットパターンに基づいて映像信号に視野マスクを施すマスク形成手段１１，１２，１２２を設けた。例文帳に追加

The mask shape of the visual field masking is stored in a serial EEPROM 121 as a bit pattern and mask formation means 11, 12 and 122 for reading the bit pattern from the serial EEPROM 121 and performing the visual field masking to the video signals on the basis of the bit pattern are provided. - 特許庁

発熱抵抗体１２が形成された絶縁基板１１の他方面上に、耐熱性のガラスパターン１６１，１６２と、このガラスパターン１６１，１６２を挟む格好で、耐熱性、摺動性の高い例えばポリイミド系の樹脂パターン１７１〜１７３とからなる摺動層１８を形成する。例文帳に追加

On the other face of the insulation substrate 11, a sliding layer 18 consisting of heat-resistant glass patterns 161, 162 and resin patterns 171 to 173 with high heat resistance and slidability, for instance, of a polyimide system, is formed in a state pinching the glass patterns 161, 162. - 特許庁

回折格子１の格子面にはホログラフィック露光用のレーザー干渉系を用いて不等間隔の溝パターンが形成される。例文帳に追加

A pattern of irregularly spaced grooves is formed on the grating face of the diffraction grating 1 by a laser interference system for holographic exposure. - 特許庁

また、軸補正用回折格子１０２は、各波長のレーザ光の回折効率が適正範囲となるようホログラム格子パターンが設定されている。例文帳に追加

A hologram grating pattern is set to the diffraction-grating 102 so that the diffraction efficiency of the laser beam of each wavelength may range reasonably. - 特許庁

格子ピッチが高精度で微細化された格子パターンを有する擬似ブレーズ化回折素子を提供することである。例文帳に追加

To provide a pseudo-blazed diffraction element having a grating pattern with fine grating pitches with high accuracy. - 特許庁

回折格子パターンが形成されたレジスト層３をマスクに基板１をエッチングして回折格子を形成する。例文帳に追加

The substrate 1 is etched so as to form the diffraction grating by using the resist layer 3 on which the diffraction grating pattern is formed as a mask. - 特許庁

少なくとも１つの格子を有するフォトマスクを利用して、ウェハー上に複数の格子パターンがプリントされる。例文帳に追加

A plurality of grating patterns is printed onto a wafer by using a photomask having at least one grating. - 特許庁

微細回折格子パターンの格子ピッチを高精度に描画できる電子ビーム描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam lithography device capable of writing the lattice pitch of a micro diffraction grating pattern with high accuracy. - 特許庁

隣接する六角格子の格子並進ベクトルは所定角度ずつ変化するように凸パターン２０をそれぞれ配設する。例文帳に追加

Projecting patterns 20 are so arranged that grid translation vectors of adjacent hexagonal grids are changed by a prescribed angle. - 特許庁

１）基板上に規則的な二次元の格子状パターンを持つポリマーを有し、その格子の孔の部分に機能性色素を含有する有機薄膜。例文帳に追加

1) The organic thin film having a polymer possessing regular two-dimensional lattice-like patterns on a substrate and containing functional dyestuffs in the segments of the pores of the lattice. - 特許庁

周期と向きとが互いに異なる複数の１次元格子１〜３毎に色を変えて被測定物に格子パターンを同時に投影する。例文帳に追加

Lattice patterns are projected simultaneously onto a measuring object with changed colors relative to each of plural one-dimensional lattices 1-3 having mutually different cycles and directions. - 特許庁

第１及び第２半導体パターンはシリコンの格子幅に比べて少なくとも一方向に広い格子幅を有する。例文帳に追加

The primary and secondary semiconductor patterns have a wider lattice width at least in one direction than the silicon lattice width. - 特許庁

回折格子（２）は、同様の格子縞パターンを有しており、光検出器アレイ（４）に干渉縞を与える。例文帳に追加

The diffraction grating is provided with a similar lattice striped pattern so as to give interference fringes to a photodetector array (4). - 特許庁

配向層２は、凹部（溝）と凸部によって形成された互いに平行する複数の格子からなる格子様パターンが設けられている。例文帳に追加

A lattice-like pattern constituted of a plurality lattices parallel each to other formed of concave portions (grooves) and convex portions in the oriented layer 2. - 特許庁

比較回路１３３は、レジスタ１３２に格納されるデータとＲＯＭ１３１に格納されるデータパターンとの比較を順次行っていく。例文帳に追加

A comparison circuit 133 sequentially compares the data stored in the register 132 with the data patterns stored in the ROM 131. - 特許庁

光検出器直前もしくは復路光路中に特殊な格子溝パターンを備えた回折格子を配置する。例文帳に追加

A diffraction grating including a special grating groove pattern is disposed just before an optical detector or in a returning optical path. - 特許庁

それにより、格子が結像されなくなり、位相格子の各溝の深さや幅等で表現された露光パターンが感光材料に転写される。例文帳に追加

The grating is therefore not imaged and an exposed pattern expressed by the depth or width of each of the grooves of the phase grating is transferred to a photosensitive material. - 特許庁

反対に、セット指定エリアのデータがＲＯＭに格納のセットデータを指定している場合には、パターンデータのみをそのまま格納する。例文帳に追加

When the data of the set specifying data specify the set data stored in a ROM, only the pattern data are stored as they are. - 特許庁

リズム辞書格納部１０３は、装置の制御内容と登録リズムパターンとを対応させたリズム辞書テーブルを格納する。例文帳に追加

A rhythm dictionary storage section 103 stores a rhythm dictionary table in which the control contents of an apparatus and registered rhythm patterns are homologized. - 特許庁

２つの頂部を有する格子パターンからなる回折格子を備えた回折型集光フィルム１を提供する。例文帳に追加

A diffraction type condensing film 1 is provided with a diffraction grating comprising a grating pattern having two apexes. - 特許庁

スライドＮｏ．と、これに対応するスライド進行パターンは予めスライド順序戦略格納部１４に格納されている。例文帳に追加

Slide numbers and the slide advance pattern corresponding to these are stored in advance in a slide sequence strategy storage part 14. - 特許庁

本装置は、パターンデータを解釈してＳＲＡＭ、ＤＲＡＭに格納する格納手段を有することを特徴とする装置である。例文帳に追加

The generator is characterized in that it has a storage means for storing in the SRAM and the DRAM the pattern data after interpreted. - 特許庁

画像調整用のトナーパターン像を転写するための画像調整シートＳと、該シートＳを格納する格納通路Ｃとを備えている。例文帳に追加

The image forming apparatus includes an image-adjusting sheet S, to which a toner pattern image for image adjustment is transferred, and an accommodating path C in which the sheet S is accommodated. - 特許庁

格納回路２３は、各メモリワードブロックを活性化するか否かを示す情報が複数のパターン格納されている。例文帳に追加

Information of a plurality of patterns indicating whether each memory word block is activated or not is stored in a storing circuit 23. - 特許庁

価格帯の下限額から上限額までの幅がそれぞれ異なる複数種類の価格帯パターンを予め記憶する。例文帳に追加

Plural kinds of price range patterns where the width of the price ranges from a lower limit amount to an upper limit amount is respectively different are stored preliminarily. - 特許庁

冷温情報表示体１２の前方には、光透過板の一方の面に価格パターンを施した価格表示体１４を設ける。例文帳に追加

A price display body 14 wherein a price pattern is applied to one face of a light transmission plate is provided in front of the cold/hot information display body 12. - 特許庁

冷温情報表示体１９の前側には、透過板の一方の面に価格パターンを有した価格情報表示体４５を設ける。例文帳に追加

A price information indicator 45 having the price pattern on one face of a transparent plate is arranged at the front side of the cooling/warming information indicator 19. - 特許庁

画像処理により二次元格子パターン３の縦線、および横線の重心位置を検出し、ここから各格子点の画像上の位置を求める。例文帳に追加

The gravity position of longitudinal and horizontal lines of the two-dimensional grid pattern 3 is detected by image processing, and positions of respective grid points on the image are obtained from the gravity position. - 特許庁

本発明による回折格子マスクは、光学的に透明な材料より成るマスク基板と、前記マスク基板の一部に形成された回折格子パターンと、前記回折格子パターン周囲の少なくとも一部に形成された光吸収層より成る回折格子マスクである。例文帳に追加

The diffraction grating mask comprises a mask substrate made of an optically transparent material, a diffraction grating pattern formed on part of the mask substrate, and a light absorbing layer formed at at least part of the circumference of the diffraction grating pattern. - 特許庁

テストデータ格納手段としてのＣＰＵ８は、テストデータ格納メモリ６に格納されたテストデータと不良発生パターン記憶メモリ５に格納された不良発生パターンとを照合し、不良発生パターンと相似のテストデータが存在する場合にブロック不良と判定し、これによりブロック不良を検出する。例文帳に追加

A CPU 8 as a test data storing means detects a block failure by checking the test data stored in the test data storing memory 6 against the failure occurrence patterns stored in the memory 5 for storing failure occurrence patterns and determining a block failure in the case that test data similar to a failure occurrence pattern is present. - 特許庁

検証処理部１３では、分割情報からテストパターン格納用メモリ１１に格納された分割テストパターン数及びその格納位置を認識し、テストパターン格納用メモリ１１からの読出領域を読出領域切替回路１２によって順次切り替えて各テストベクタを読み出し、これにしたがって被テスト回路２０に対する検証を行う。例文帳に追加

In the verification processing part 13, the number of division of the test patterns and the location of its storage stored in the memory 11 for storing the test patterns are recognized on the basis of the division information, and read regions from the memory 11 for storing the test patterns are sequentially changed by a read region switch circuit 12 to read each test vector and verify the circuit to be tested 20 accordingly. - 特許庁

従来と同様の全判定グラフ形式を踏襲しつつも、必要十分な複数種のパターンを用意して表示することにより、どの不合格パターンで不合格になったのか、あるいはどの合格パターンで合格になったのかを、１つのグラフ上で容易に識別することのできる電源高調波エミッションの判定結果表示方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of displaying a result of determination of power source harmonic component emission capable of easily distinguishing a rejected pattern in rejection and an accepted pattern in acceptance on one graph by preparing and displaying a plurality of necessary and sufficient kinds of patterns, while continuing using the total determination graph format similar to a conventional one. - 特許庁

基材上に設けた金属蒸着層上に、ウェットエッチング用レジストインクをパターン積層し、次いで、該レジストインクを熱乾燥させ、しかるのち、ウェットエッチングにより金属蒸着層からなるパターンを形成させるパターン形成方法において、該レジストインクが、バインダー樹脂と、特定の基本骨格を持つ化合物（Ａ）を含有するパターン形成方法。例文帳に追加

In the method for forming a pattern comprising the steps of: pattern-stacking resist ink for wet etching on a metal-deposited layer provided on a base material; thermally drying the resist ink; and forming a pattern composed of a metal-deposited layer by wet etching, the resist ink comprises a binder resin and a compound (A) having a specified fundamental skeleton. - 特許庁

その通常露光に用いるマスクパターンの生成に際し、高解像度露光用マスク上の微細パターンに対応した位置に重ねられる当該通常露光用マスク上の遮光パターン（ゲート電極）のサイズを、微細パターンの疎密性に応じて生じる解像後の線幅格差を縮小する方向に変化させる。例文帳に追加

In forming the mask patterns to be used for the ordinary exposure, the sizes of the light shielding patterns (gate electrodes) on a mask for the ordinary exposure superposed on the positions corresponding to the fine patterns on the mask for the high-resolution exposure are changed in the direction of reducing the line width difference after the resolution which occurs according to the crude density of the fine patterns. - 特許庁

送信装置２−１は、ＴＳパケットの所定位置に、フレーム同期パターンと同じビットパターンが存在する場合、そのビットパターンを、拡散符号を用いて演算したビットパターンに置き換えてデータスロットに格納し、置き換えたことを示すデータ置き換え情報をＴＳＭＦヘッダに付与して送信する。例文帳に追加

When there is a bit pattern identical to a frame synchronization pattern at a predetermined position of a TS packet, a transmission apparatus 2-1 replaces the bit pattern by a bit pattern computed by using a spread code to store the computed pattern in a data slot, and gives data replacement information indicating the replacement to a TSMF header to transmit the information. - 特許庁

識別方式にパーシャル・レスポンス・アンド・マキシマム・ライクリーフッド（PRML）識別方式を用いた情報記録再生装置において、評価値算出器２００は、正パターンとその理想信号、これに対応する誤パターンとその理想信号、前記正パターンと誤パターンとのユークリッド距離Eｊのテーブルを格納した参照テーブル２０４を有する。例文帳に追加

In the information recording and reproducing device using a partial response and maximum likelihood (PRML) identification system as an identification system, an evaluation value calculation 200 has a reference table 204 storing the table of the correct pattern, its ideal signal, the erroneous pattern corresponding thereto and its ideal signal and the Euclid distance Ej between the correct pattern and the erroneous pattern. - 特許庁

前記第１レチクルパターンＲＰ１の投影像を前記第１センサパターンを介して検出する位置検出時には、前記第２センサパターンを介して前記第２レチクルパターンＲＰ１の投影像における一定面積の領域内の光量変化を監視し、その監視結果に基づいて前記位置検出の結果を規格化する。例文帳に追加

At the time of position detection for detecting the projected image of the first reticle pattern RP1 through the first sensor pattern, light quantity change within a region whose area is fixed in the projected image of the second reticle pattern RP1 is monitored through the second sensor pattern, and the result of the position detection is specified based on the monitored result. - 特許庁

メモリ２には、単位パルスパターン長を規定するLENデータと、単位パルスパターンの繰り返し数を規定するLOOPデータと、単位パルスパターンを繰り返させるRETURNデータと、駆動パルスDPのデータが格納されており、アドレス発生回路１からのアドレスADに応じたパルスパターンの駆動パルスDPがメモリ２から出力される。例文帳に追加

In a timing pulse generator, the memory 2 stores LEN data for prescribing unit pulse pattern length, LOOP data for prescribing the number of repetitions of the unit pulse pattern, RETURN data for repeating the unit pulse pattern, and the data of the drive pulse DP, and the drive pulse DP of the pulse pattern according to an address AD from an address generation circuit 1 is outputted from the memory 2. - 特許庁

そして、取得した受信データビットパターンと、格納済みのエフェメリスを用いて生成した照合用ビットパターンとをビット単位で順番に照合していき、照合によって連続して一致したと判定されたビット長及び連続して不一致と判定されたビット長を合算した累積連続ビット長に基づいて、受信データビットパターンと照合用ビットパターンとの適否を判定する。例文帳に追加

The acquired reception data bit pattern is collated successively in each bit unit with a collation bit pattern generated by using a stored ephemeris, and suitability between the reception data bit pattern and the collation bit pattern is determined based on an accumulated continuous bit length acquired by adding a bit length determined to be continuously consistent by collation to a bit length determined to be continuously inconsistent. - 特許庁

光透過型のアクティブマトリックス液晶表示部と、前記表示部に表示するための複数のパターンデータを格納する記憶部と、記憶部から任意のパターンデータを選択する選択部と、選択されたパターンデータに対応するパターンを前記表示部に表示させる描画回路とを備える。例文帳に追加

The optical element is provided with a light transmissive active matrix liquid crystal display part, a memory part to store a plurality of pattern data for displaying them on the display part, a selection part to select an arbitrary pattern data from the memory part, and a drawing circuit to display a pattern corresponding to the selected pattern data on the display part. - 特許庁

照明パターンの制御をするホログラム拡散体や照明パターン内の散乱強度を制御する回折格子など異なる拡散特性を持つホログラムを積層することにより、散乱光に照明パターンがありかつパターン内で散乱強度が一様となるような散乱特性を持つ拡散反射板が得られる。例文帳に追加

By laminating holograms having different diffusing characteristic such as the hologram diffusing body for controlling an illumination pattern and the diffraction grating for controlling scattering intensity in the illumination pattern, the diffuse reflection plate having such scattering characteristic that the illumination pattern exists in scattered light and the scattering intensity is uniform in the pattern is obtained. - 特許庁

フォトマスク面内におけるパターンの寸法分布に応じ、ウエーハ上に転写されるパターンの寸法計測位置を決定するシミュレータと、寸法計測位置においてパターンの寸法を計測する寸法検査装置と、フォトマスク面内におけるパターンの寸法分布に関するデータを格納するフォトマスクデータベースとを有する。例文帳に追加

The pattern measuring system is provided with a simulator which determines the dimension measuring position of a pattern to be transferred on a wafer in accordance with dimensional distribution of the pattern within photomask surface, gauging equipment which measures dimension of the pattern in the dimension measuring position, and photomask database which stores data concerning dimensional distribution of the pattern within the photomask surface. - 特許庁