「格パターン」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

撮像レンズ６で集光された光は、反射プリズム７で２つの周波数領域に振り分けられ、位置格子パターンはＣＣＤセンサ１０で撮像され、測定格子パターンはＣＣＤセンサ１４で撮像される。例文帳に追加

Light collected by an imaging lens 6 is divided into two frequency regions by a reflecting prism 7, and the position lattice pattern is image picked up by a CCD sensor 10, and the measuring lattice pattern is image picked up by a CCD sensor 14. - 特許庁

高品質のデータを放送する場合、予め格納されている放送パターンの選択情報を伝送し、格納されている放送パターンのデータの中から選択するようにする。例文帳に追加

When data of high quality are broadcasted, the previously stored broadcast pattern selecting information is transmitted so as to select data out of the previously stored broadcast pattern data. - 特許庁

各構造体は、基体表面において複数列の円弧状トラックをなしている共に、隣接する３列の円弧状トラック間において四方格子パターンまたは準四方格子パターンをなしている。例文帳に追加

Each structure forms a plurality of lines of circular-arcuate tracks on the base surface and, at the same time, forms a square grid pattern or a quasi-square grid pattern among adjoining three lines of circular-arcuate tracks. - 特許庁

パターン間距離算出手段３はこの部分領域と、予め辞書格納手段５に格納した登録画像の部分領域とのパターン間距離を各部分領域について算出する。例文帳に追加

An inter-pattern distance calculation means 3 calculates an inter-pattern distance between this sub-region and a sub-region of a registration image pre-filed in a dictionary filing means 5 for each sub-region. - 特許庁

各構造体は、基体表面において複数列のトラックをなすように配置されているとともに、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを形成する。例文帳に追加

Respective structures are so arranged as to make a plurality of rows of tracks on the surface of the substrate and to form a hexagonal lattice pattern or a quasi-hexagonal lattice pattern. - 特許庁

網点パターンの格納領域を小さくして、同一メモリ領域内により多くの網点パターンを格納できる網点画像生成回路を提供する。例文帳に追加

To provide a dot image generation circuit capable of storing more dot patterns in the same memory area by reducing a storing area required for a dot pattern. - 特許庁

利用者からの音声を受話部３２に受けると、ＣＰＵ２１は受話部３２で受けた音声を音声パターン格納メモリ２５内に格納されている音声パターンデータに照らし合わせ、解読する。例文帳に追加

When receiving a voice from a user by a receiving part 32, a CPU 21 collates the voice received by the receiving part 32 with voice pattern data stored within a voice pattern storage memory and decodes the data. - 特許庁

パターン間距離算出手段３はこの部分領域と、予め辞書格納手段５に格納した登録画像の部分領域とのパターン間距離を各部分領域について算出する。例文帳に追加

An inter-pattern distance calculating means 3 calculates an inter-pattern distance between the sub-region and the sub-region of a registration image pre-filed in a dictionary filing means 5 for each sub-region. - 特許庁

インタフェース３１Ｃは、転送パターンを示す情報に示される転送パターンに基づく格納方法で、制御データを、転送フォーマットに格納し、フロントエンド３４のマイコン５１に転送する。例文帳に追加

The interface 31C stores the control data to a transfer format by a storage method, on the basis of the transfer pattern denoted by the information representing the transfer pattern and transfers the data to a microcomputer 51 of the front end 34. - 特許庁

プラズマエッチングなどの手法を用いて、格子状の初期レジストパターン２２を等方的にエッチングし、線幅が縮小された格子状レジストパターン２３を、さらに、プラズマエッチングをさらに進め、交点部にピラー形状のレジストパターン２４及び所望の寸法のピラー形状レジストパターン２５を形成する。例文帳に追加

The initial resist pattern 22 in the lattice shape is anisotropically etched by using a method for plasma etching etc., to form a lattice-shaped resist pattern 23 which is reduced in line width and further the plasma etching is carried on to form a resist pattern 24 in a pillar shape and a pillar-shaped resist pattern 25 of desired shape at an intersection part. - 特許庁

予めパターンデータ格納部２１に格納されたマスクパターンデータから、領域抽出部２２ａ、…により材料または加工プロセス別にそれぞれの領域が抽出され、抽出された複数の領域にて、マスクパターンの他材料を含めた隣接パターン距離が制御部２０内で算出される。例文帳に追加

In the mask pattern correction system, respective regions according to materials or processes are extracted by a region extracting unit 22a from mask pattern data preliminarily stored in a pattern data storing unit 21, adjacent pattern distances including other materials of the mask pattern are calculated in the extracted regions by a control unit 20. - 特許庁

電子透かしパターン生成部４は、埋め込み情報格納部１０から送られてくる埋め込み情報に対応する位置情報で示される元パターン記憶部６内のランダムパターン上の領域を切り出して電子透かしパターンを生成し、これを元画像格納部１２から送られてくる画像データに埋め込む。例文帳に追加

A digital watermark pattern generating part 4 generates a digital watermark pattern by segmenting a section on a random pattern in an original pattern storing part 6 indicated by location information corresponding to embedding information sent from an embedding information storing part 10, and embeds it into image data sent from an original image storing part 12. - 特許庁

回折格子パターンを有する画像表示体において、レリーフ型回折格子からなる回折格子パターンを少なくとも一つ配置すると共に、前記回折格子パターンの上部には回折格子の回折効率が最大となる波長を中心とする光を選択的に透過する透明性着色インキでカラー画像を形成しておく。例文帳に追加

In the image display body having the diffraction grating pattern, at least one diffraction grating pattern constituted of a relief type diffraction grating is arranged, and also, a color image is formed on the diffraction grating pattern with transparent color ink capable of selectively transmitting light mainly having a wavelength for making the efficiency of the diffraction grating maximum. - 特許庁

回折格子パターンを有するディスプレイは、平面状の基板を備え、前記基板の表面に形成された回折格子パターンであって、前記回折格子パターンが複数の微小なドットに分割され、各ドットのピッチ、回折格子の空間周波数、各ドットの並び方が所望に変化していて、前記ドットに形成された回折格子の方向が各ドット毎に変化している。例文帳に追加

The display having the diffraction grating pattern is provided with a planar substrate, and the diffraction grating pattern is the one formed on the surface of the substrate and is divided into a plurality of minute dots, where each dot pitch, the spatial frequency of the diffraction grating, and each dot arrangement are varied as desired, and the direction of the diffraction grating formed of the dots varies at each dot. - 特許庁

フォトマスクは、ウェーハに実際に転写される第１の方向のライン／スペース回路パターン及び第２の方向のライン／スペース回路パターンそして偏光子として作用し、スペースに設けられ、ラインに垂直である格子パターンを含む。例文帳に追加

The photomask includes a line/space circuit pattern in the first direction and a line/space circuit pattern in the second direction actually transferred to a wafer, operates as a polarizer and includes a lattice pattern that occupies spaces and is perpendicular to lines. - 特許庁

表面の微細な凹凸により形成される光散乱パターンと回折格子パターンとを有するディスプレイにおいて、双方のパターンが同様に白色で光って見えるようにし、観察条件の変化に伴って、両者の差異が明らかとなるような視覚効果を持たせる。例文帳に追加

To give sensation of sight which clarifies a difference in two patterns in a display which has a light scattering pattern formed by surface fine ruggedness and a grating pattern upon the change of observation conditions by brightening both patterns white similarly. - 特許庁

ＲＯＭ１３１は、ＢＣＡデータ用の同期パターン（ＳＢ_ＢＣＡ：２バイト）、ＢＣＡデータの先頭を示す先頭データ（８バイト）及びこの先頭データに付される同期パターン（ＲＳ_ＢＣＡ１：２バイト）に対応する３つのデータパターンを格納する。例文帳に追加

A ROM 131 stores three data patterns that correspond to a synchronous pattern (SB_BCA: 2 bytes) for BCA data, a front data (8 bytes) showing the front of the BCA data, and a synchronous pattern (RS_BCA1: 2 bytes) added to the front data. - 特許庁

パケットのセット内の少なくとも１つのパケットが失敗した場合、パケットごとに、失敗したパケットを、ＣＲＣ検証に合格した１つのパケットと比較することによって誤りパターンＥを生成し、この誤りパターンを既知の誤りパターンのセットと比較する。例文帳に追加

If at least one packet in a set of packets fails then an error pattern E is generated for each packet by comparing the failed packet with one packet that has passed the CRC verification, and comparing the error pattern to a set of known error patterns. - 特許庁

まず、製造対象となる筒状の金型ロール基材のロール面を加工してレンチキュラーレンズシートのレンズパターン（複数の半球状レンズが格子状に配置されたパターン）に対応する成型パターンを製版する（工程１０１）。例文帳に追加

Firstly, a molding pattern corresponding to the lens pattern of a lenticular lens sheet (a pattern arranging a plurality of semispherical lenses in a lattice) is processed at the process 101 by working the roll surface of a tubular mold roll base material as a production object. - 特許庁

モデル変形用データ生成部４は、指定された道路箇所に対応するパターンデータをパターンモデル格納部５から読み出し、当該パターンデータを参照しつつ上記抽出されたパラメータデータを加工することで、モデル変形用データを生成する。例文帳に追加

The data generating part 4 reads a pattern data corresponding to the specified road part from a pattern model storage part 5, and generates data for the model deformation by processing the extracted parameter data referring to the pattern data. - 特許庁

このマイクロビーズ自動識別方法では、さらに、マイクロビーズの円形面の画像において、マイクロビーズの裏表及び／又は傾きに関する情報に基づき、識別パターンを検出するための格子を回転させて識別パターンとのパターンマッチングを行う。例文帳に追加

In the micro bead automatic identification method, and in the image of the circular surface of the micro bead, the pattern matching with the identification pattern is performed by rotating a lattice for detecting the identification pattern based on information about both sides and/or tilting of the micro bead. - 特許庁

パターンデータ記憶部２５には、過去に量産された車体に関するパネル材の形状を標準化した形状パターンデータ、パネル材のスポット打点とこれに対応する溶接装置とを標準化した工程パターンデータが格納される。例文帳に追加

In a pattern data storage part 25, there are stored shape pattern data in which the shapes of panel materials concerning vehicles produced in the past are standardized and processing pattern data in which spot points of the panel materials and the related welding equipment are standardized. - 特許庁

格納されたメモリ上の画像データのパターンとあらかじめ取り込まれたパターンとの照合を行い、そのパターンがマッチするように、モーションコントロール部２１よりXステージモータ２６とYステージモータ２３を駆動させるために各電源ドライバ駆動２５、２２に指示を送信する。例文帳に追加

A pattern of image data on the stored memory is collated with a previously fetched pattern, and an instruction is transmitted to respective power-supply devices 25, 22 in order to drive an X-stage motor 26 and a Y-stage motor 23 by a motor control unit 21 so that the patterns are matched. - 特許庁

モデル変形用データ生成部４は、指定された道路箇所に対応するパターンデータをパターンモデル格納部５から読み出し、当該パターンデータを参照しつつ上記抽出されたパラメータデータを加工することで、モデル変形用データを生成する。例文帳に追加

The data creating part 4 for deforming the model reads pattern data corresponding to the specified road location from a pattern model storage part 5 and creates data for deforming the model by processing the extracted parameter data while making reference to the pattern data. - 特許庁

工程Ｓ１０３では、第１〜第ｎのパターン部を含むパターンの配列を有する第１のマスクを用いて半導体領域をエッチングして、第１〜第ｎのパターン部にそれぞれ対応する回折格子用の第１〜第ｎの周期構造を半導体領域の各素子区画に形成する。例文帳に追加

In the process S103, a semiconductor region is etched using a first mask having the array of patterns including first-nth pattern parts and first-nth periodic structures for a diffraction grating corresponding to the first-nth pattern parts respectively are formed in the respective element sections of the semiconductor region. - 特許庁

制御装置１０の合成演算装置１１は、Ｘ軸指令値メモリ１２Ａ，Ｙ軸指令値メモリ１２Ｂの指令値を合成して１つ指令値パターンとし、制御ビットを付加し、パターン発生装置１４の合成パターンメモリ１３に格納する。例文帳に追加

A composite arithmetic unit 11 of a control device 10 composes command values of an X-axis command value memory 12A and a Y-axis command value memory 12B to form one command value pattern, adds a control bit, and stores it in a composite pattern memory 13 of a pattern generator 14. - 特許庁

視点位置呼び出し部１６によって何れかの視点位置を呼び出すと、当該視点位置を用いて算出された補正パターンを補正パターン格納部１８から映像補正処理部１９に出力させて、当該補正パターンに従って映像補正処理部１９によって歪み補正処理を行わせる。例文帳に追加

When any view point position is called by a view point position calling section 16, a correction pattern calculated using the relevant view point position is output from the correction pattern storage section 18 to a video correction processing section 19 and in accordance with the relevant correction pattern, distortion correction processing is performed by the video correction processing section 19. - 特許庁

表面形状認識用センサチップ１００の基板１０１のセンサ領域１５１内に、複数の金属パターン１０４ａと格子状の金属パターン１０６ａを形成するとともに、センサ領域１５１の周囲を囲う枠状の金属パターン１０６ｂを形成する。例文帳に追加

Inside a sensor area 151 of a substrate 101 in the surface shape recognizing sensor chip 100, a plurality of metallic patterns 104a and a grid- shaped metallic pattern 106a are formed, while a frame-shaped metallic pattern 106b surrounding the sensor area 151 is formed. - 特許庁

表面の微細な凹凸により形成される光散乱パターンと回折格子パターンとを有するディスプレイにおいて、双方のパターンが同様に白色で光って見えるようにし、観察条件の変化に伴って、両者の差異が明らかとなるような視覚効果を持たせる。例文帳に追加

To provide a display having a light scattering pattern formed minutely unevenly on the surface of a base material and a diffraction grating pattern, to provide such a visual effect that both patterns seem to shine in white in the same way or become different clearly from each other when an observation condition is changed. - 特許庁

比較的に簡易且つ低コストの設備で微細パターンを形成することができ、しかも、寸法精度に優れて規格外れが少ない生産性に優れたレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびレジストパターンの形成装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a forming method of a resist pattern, a manufacturing method of a semiconductor device and a forming device for the resist pattern, which are capable of forming a fine pattern by comparatively simple and inexpensive equipment, and further, excellent in a dimensional accuracy and productivity and the less production of a substandard article. - 特許庁

操作可能画面制御部４０６は、遊技者が操作可能な画面の作成に当たり、背景画像記憶部４０７から基本画像のデータを読み出すと共に、差替画像パターン４０８のうちから必要なパターンを読み出し、これらをパターン一時記憶部４０９に格納する。例文帳に追加

An operable screen control part 406 prepares a screen which can be operated by the player, reads data of a basic picture from a background picture storage part 407, reads a required pattern from a replacing picture pattern 408 and stores the patterns in a pattern temporarily storage part 409. - 特許庁

離間した状態で、速度差検出用パターンを検出し（Ｓ２５）、Ｙ色のレジストパターンの検出結果と速度差検出用パターンの検出結果からベルト速度差を算出し（Ｓ２６）、算出した速度差に応じて、格納されている位置ずれ量を補正する（Ｓ２７）。例文帳に追加

In the thus separated state, the speed difference detecting pattern is detected (S25), a belt speed difference is calculated from the detection result of the resist pattern of Y color and the detection result of the speed difference detecting pattern (S26), and the stored positional shift amount is corrected according to the calculated speed difference (S27). - 特許庁

カラーSFPのエンジン制御側に持つ偽造追跡パターンを格納するECOボードのデータをSFPコントローラにダウンロードし、かつ、スキャナーから送られてきたデータにその偽造追跡パターンを埋め込み、電子化する際にその追跡パターンも一緒に電子ファイルに埋め込むこと手段を有する。例文帳に追加

An SFP-MFP controller comprises a means for downloading data of an ECO board for storing a forgery tracking pattern included at an engine control side of a color SFP to an SFP controller, embedding the forgery tracking pattern in data which are sent from a scanner, and also embedding the tracking pattern in an electronic file together in the case of electronization. - 特許庁

透明基板の前面に直交座標系の軸から一定方向に回転した方向に延びる斜線パターンのレイアウト（layout）に従って形成されたマスクパターンと、基板の背面にマスクパターンの延長方向に並ぶ方向に延びたライン（line）形態の位相格子と、を含むマスクを提供する。例文帳に追加

The mask includes a mask pattern formed in front side of a transparent panel following the layout (layout) of a slanted line pattern extending in the direction turned in a certain direction from the axis of a rectangular coordinate system, and a phase grating of lines (line) extending at the back side of the panel in parallel with the extending mask pattern. - 特許庁

その結果、交差部９２１を緩やかに硬化させて第１パターン要素９１となじませ、非交差部９２２を速やかに硬化させて第２パターン要素９２の形状が崩れることを防止し、基板９上に格子状のパターンを適切に形成することができる。例文帳に追加

As a result, a crossed part 921 is slowly hardened and adapted to each of first pattern elements 91 and the uncrossed part 922 is hardened quickly to prevent the second pattern element 92 from being out of shape, so that the lattice pattern can be adequately formed on the substrate 9. - 特許庁

同部は、入力データが、当該第１の区間データが第１のパターン表にすでに格納されたいずれかの第１の区間データとの一致（パターン一致）を検出しないと、入力した第１の区間データを第１のパターン表および第１の解析バッファに追記する。例文帳に追加

When the matching (pattern matching) of the input data with any first division data already stored in a first pattern table is not detected, the analyzing part adds the input first division data to a first pattern table and the first analysis buffer. - 特許庁

パターンシート５６の表面と反対側に位置する裏面をタイヤ２のトレッド部２Ａの外周面２０２に接着剤により接着して貼り付けることによって、トレッド部２Ａの外周面２０２に格子パターン５２（特定パターン５０）が形成される。例文帳に追加

The back surface of the pattern sheet 56, which is positioned opposite the front surface, is pasted on an outer peripheral surface 202 of the tread 2A of the tire 2 with an adhesive, thereby forming the grid pattern 52 (a specific pattern 50) on the outer peripheral surface 202 of the tread 2A. - 特許庁

発光制御部１ａの読出し部１ａ１は、擬似ランダムパターンテーブル１ｂに格納されたテーブル番号と読み出し位置を参照して、表示パターンテーブル１ｃの対応するテーブルから各ＬＥＤ１３の発光パターンデータを読出し、バッファ１ａ２に転送する。例文帳に追加

In this illumination apparatus, a reading part 1a1 of a light emitting control part 1a is constituted to read light emitting pattern data of respective LEDs 13 from a corresponding table of a display pattern table 1c by referring to a table number and reading position stored in a pseudo random pattern table 1b, and to transfer the data to a buffer 1a2. - 特許庁

さらに、経路パターン編集部１８は、それらの経路パターンに対して案内経路の修正を実行すると、修正後の経由地が経路パターンにおける経由地が経由地条件を満たすか否かを適格経路判定部１７に判定させる。例文帳に追加

In addition, a route pattern edition part 18 executes correction of the guide route relative to the route pattern, and thereafter allows the eligible route determination part 17 to determine whether the passing spot in the corrected route pattern satisfies the passing spot conditions. - 特許庁

電子線投影露光用マスクを用いて転写すべき原パターン形状１を、相補的な複数のパターン形状に分割するのにあたって、先ず、前記原パターン形状１を、その最小線幅を基準に一区画の大きさが決定された格子２を用いて分割する。例文帳に追加

When an original pattern profile 1 which is to be transferred by the use of an electron beam projection exposure mask is divided into a plurality of pattern profiles that are complementary to each other, the original pattern profile 1 is divided into demarcations by the use of grids 2 whose size is determined on the basis of the minimum line width of the original pattern profile 1. - 特許庁

上記マイクロレンズ４の高さ比（Ｈ／Ｒ）としては５／８以上１以下、間隔比（Ｓ／Ｄ）としては１／２以下、充填率としては４０％以上、素材の屈折率としては１．３以上１．８以下、配設パターンとしては正三角形格子パターン又はランダムパターンが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the height ratio (H/R) of the microlens 4 is 5/8-1, a space ratio (S/D) is ≤1/2, a filling rate is ≥40%, the refractive index of a stock material is 1.3-1.8, and a distribution pattern is an equilateral triangle grating pattern or a random pattern. - 特許庁

１画素が４ビット（１６階調）で表現されるデータを入力する場合、対応するパターンとして１６ビットのパターンではなく、その２倍の３２ビットのパターンを用意し、それをデジタルデータ出力装置１００１に格納しておく。例文帳に追加

In the case data expressing a pixel by 4 bits (16 gradations) are inputted, instead of a 16 bit pattern, a 32 bit pattern of a double size is prepared as a corresponding pattern thereof so as to be stored in a digital data outputting unit 1001. - 特許庁

低速なテスト周期でテストパターンを作成しながら高速なクロックを発生させることでテストパターン格納メモリの節約を実現し、さらに低速かつテストパターン記憶回路の記憶容量が少ない安価な半導体試験装置及びその装置を用いた半導体試験方法を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive semiconductor testing device which saves a test pattern storage memory by generating a fast clock while generating a test pattern in slow test cycles and is further slow and small in the storage capacity of a test pattern storage circuit, and a semiconductor testing method using the device. - 特許庁

モデル変形用データ生成部４は、指定された道路箇所に対応するパターンデータをパターンモデル格納部５から読み出し、当該パターンデータを参照しつつ上記抽出されたパラメータデータを加工することで、モデル変形用データを生成する。例文帳に追加

The data creating part 4 for deforming the model reads pattern data corresponding to the specified road location from a pattern model storage part 5, and creates data for deforming the model by processing the extracted parameter data while making reference to the pattern data. - 特許庁

本発明の定着装置は、ヒータの温度制御のために決定した平均通電率に対応する複数の通電パターンのうちで、高調波電流の規格に適合する通電パターンを次に使用すべき通電パターンとして決定する。例文帳に追加

A fixing device of the present invention determines an energization pattern which complies with a harmonic current specification among a plurality of energization patterns corresponding to an average energization rate determined for the heater temperature control as an energization pattern to be used next time. - 特許庁