「欠陥のある」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明の目的は、パネル欠陥の位置においてピクセルに電気的な補償を行い、パネル欠陥を完璧に補償することのできる平板表示装置とその画質制御方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a flat panel display device capable of completely compensating panel defects by electrically compensating pixels in the position of the panel defects, and to provide an image quality control method therefor. - 特許庁

本発明のリダンダンシ制御回路は、電圧（ＳＶＴ）が印加されて絶縁破壊されることにより、欠陥の位置を示す欠陥アドレスの情報がプログラムされる複数のプログラム素子を備えた回路である。例文帳に追加

This redundancy control circuit is a circuit provided with a plurality of program elements in which information of a defective address indicating defect is programmed by applying voltage (SVT) and breaking insulation. - 特許庁

また、ひとつの欠陥について複数の検査装置による検査データを登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。例文帳に追加

Furthermore, inspection data by a plurality of inspection devices can be registered in one defect and the grouping information of defects as an analyzing object can be selected arbitrarily. - 特許庁

１つ以上の欠陥のあるノズルによって起こるプリント不良を、欠陥のないノズルへ画像値を再配分することにより補正する画像処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of processing images whereby printing failures caused by one or more defective nozzles are corrected by redistributing image values to nozzles without defects. - 特許庁

差分検出回路１１では、２つの画像信号を比較し、その差が一定以上であるときには、その差分信号としきい値レジスタ１４の最適しきい値とに基づいて、欠陥判定部１２によって欠陥を判定する。例文帳に追加

The difference detection circuit 11 compares two image signals and if the difference is larger than a specified value, a defect judging section 12 judges the chip defective based on the difference signal and the optimal threshold of a threshold register 14. - 特許庁

また、最も高い応力が負荷される部位の表面に存在する鋳巣欠陥のうち最大の鋳巣欠陥の寸法を極値統計法により推定した推定値が９００μｍ以下である。例文帳に追加

Further, an estimated value of the size of the maximum casting cavity in the casting cavity defect existing on the surface of a portion where the highest stress is applied, which is estimated by an extreme value statistical method, is ≤900 μm. - 特許庁

この欠陥検出光は、情報の記録又は再生時において、ＲＦ信号光よりも書き込み又は読み出しの順序が後である位置に集光しており、実際に情報の書き込み又は読み出しが行われる以前に欠陥が検出される。例文帳に追加

The defect detection light is converged in a position where the its writing/reading order is after the RF signal during information recording/reproducing, and a defect is detected before actual information writing or reading. - 特許庁

また、ひとつの欠陥について複数の検査装置による検査データを登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。例文帳に追加

Moreover, inspection data by a plurality of inspection devices about one defect are allowed to be registered, and classification information of a defect which is an object for analysis is allowed to be arbitrarily selected. - 特許庁

クラスタ生成部５６では、２分探索木の構造を有し、それぞれが同一の欠陥に由来する欠陥要素の集合である複数のクラスタが生成される。例文帳に追加

A cluster generation part 56 has a binary search tree structure and generates a plurality of clusters each being a set of defect factors respectively deriving from the same defect. - 特許庁

シリコンウェーハ１１が点欠陥の凝集体の検出下限値を１×１０^3個／ｃｍ^3とするとき、点欠陥の凝集体の数が検出下限値以下である。例文帳に追加

When the lower limit value of the number of detected aggregates of point defects is set at 1×103 pieces/cm3, the number of the detected aggregates of point defects in the wafer 11 is smaller than the lower limit value. - 特許庁

ＧａＮ基板上にエピタキシャル層や電極等を形成した後、チップ状に分割する際の欠け、バリ、ひび割れの発生が、ＧａＮ基板の欠陥密度、特に横方向の欠陥密度と深い関係がある。例文帳に追加

Occurrence of chipping, burrs and cracking when forming an epitaxial layer and an electrode, etc., on the GaN substrate and then dividing it in the chip shape is deeply related to the defect density of the GaN substrate, especially the defect density in a lateral direction. - 特許庁

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の下方にある部分の緩衝膜３の膜厚を薄くして膜薄部５を形成する。例文帳に追加

A pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the thickness of the buffer film 3 on a portion below the pattern defect is thinned to form a film thin portion 5. - 特許庁

クラスタ生成部５６では、２分探索木の構造を有し、それぞれが同一の欠陥に由来する欠陥要素の集合である複数のクラスタが生成される。例文帳に追加

A cluster-forming part 56 has a binary search tree structure and forms a plurality of clusters which are clusters of the defect elements, respectively derived from the same defect. - 特許庁

欠陥等の有無のみならず、欠陥等の発生位置の検出精度に優れ、しかも装置構成が簡略である金属管検査装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a metallic pipe inspection device capable of detecting not only the presence or absence of a flaw but also a position where the flaw occurs with high accuracy and simplifying a device configuration. - 特許庁

固体撮像素子の動作温度が高い場合、明線および暗線の線状欠陥を検出し、検出された線状欠陥の画素信号を補正する撮像装置および画素信号の補正方法を提供するにある。例文帳に追加

To provide an imaging apparatus for detecting a linear defect of bright and dark lines and correcting a pixel signal of the detected linear defect when the operating temperature of a solid-state image sensor is high, and to provide a correction method of the pixel signal. - 特許庁

判定機構４０は接合部に欠陥のある場合、予め蓄積されたろう接の欠陥原因別類別パターンとの相関性を評価し、その原因を指示する。例文帳に追加

A judging mechanism 40 evaluates the correlation with the preliminarily accumulated classification pattern by a flaw cause of soldering to indicate its cause. - 特許庁

スジ、ムラ等の塗布欠陥のない塗布層を形成する方法を提供し、また、スジ、ムラ等の塗布欠陥のない製版用フィルムあるいは医療用画像記録用フィルムとして有用な感熱記録媒体を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for forming a coating layer having no coating defects such as streak, ununiformity or the like and a heat sensitive recording medium useful for a plate-making film or a medical image recording film having no coating defects such as streak, ununiformity or the like. - 特許庁

メモリ部１への書き込みアクセスの際に、欠陥判定回路２において書き込み対象の記憶領域に欠陥があると判定されると、メモリ部１への書き込みデータはスキャンフリップフロップＳＦＦ５に書き込まれる。例文帳に追加

When presence of defect in the write-in objective storage area is determined by a defect determination circuit 2 at the writing access to the memory section 1, the write data to the memory section 1 are written into the scan flip-flop SFF 5. - 特許庁

検出感度や異物座標検出誤差の機差が小さく、異物等の欠陥の高い位置座標精度が得られるウェハ表面欠陥検査装置およびその方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a wafer surface defect inspection device capable of reducing instrument errors of detection sensitivity and foreign matter coordinate detection error, and capable of obtaining high position coordinate precision for a defect such as a foreign matter, and a method therefor. - 特許庁

積層構造製品が完成する前に、塗膜の欠陥を発見することができるようにして、欠陥のある積層構造製品の発見を容易にした積層構造製品の製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing device for a laminated structure product which can easily discover a defective coating film prior to the completion of the laminated structure product, while facilitating the discovery of the defective laminated structured product. - 特許庁

半導体ウエハ上の欠陥を検出する方法において、検出された欠陥の形状が凸形状なのか、あるいは凹形状なのかを識別する方法を提供すること。例文帳に追加

To identify a protruded or recessed shape of a detected defect, in a method for detecting the defect on a semiconductor wafer. - 特許庁

FATFは資金洗浄・テロ資金供与対策に関する戦略上重大な欠陥が残っていることに懸念を持っており、そのため、これらの欠陥がすでに対処されているかを明らかにするため、同国への更なる関与が必要である。例文帳に追加

The FATF has concerns that strategic AML/CFT deficiencies remain and, therefore, further engagement with Algeria is needed to clarify whether these deficiencies have been addressed.  - 財務省

しかし、FATFは資金洗浄・テロ資金供与対策に関する戦略上重大な欠陥が残っていることに懸念を持っており、そのため、これらの欠陥が既に対処されているかを明らかにするため、同国への更なる関与が必要である。例文帳に追加

However, the FATF has concerns that strategic AML/CFT deficiencies remain and, therefore, further engagement with Algeria is needed to clarify whether these deficiencies have been addressed.  - 財務省

欠陥撮像部３は、フィルム面に対して所定角度θ傾けて配置されているため、欠陥の高さ成分（フィルム１の厚み方向の成分）を撮像可能である。例文帳に追加

Each defect imaging part 3 is able to image a height component (thickness-directional component of the film 1) of the defect, because arranged to be inclined with respect to a film face by a prescribed angle θ. - 特許庁

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device. - 特許庁

３次元形状について判定する必要があるシャドマスクの孔欠陥を、欠陥の種類によらず統一的かつ機械的に、位置決めの精度を必要とせず、高識別能で検出することを課題とする。例文帳に追加

To highly distinguishably detect holes-defect of a shadow mask necessary for judging a three dimension shape, uniformly and mechanically regardless of the kindness of the defects, and without necessitating an accuracy of positioning. - 特許庁

ゲート線パターンに欠陥があるような場合であっても、基板全体が使用不可となるような致命的な欠陥の発生を防止し、歩留まりの向上が可能なマトリクスアレイ基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method if producing a matrix array substrate by which production of fatal defects in a substrate resulting in that the whole substrate can no be used is prevented even when some defects are present in a gate line pattern and by which the production yield can be improved. - 特許庁

ウォーターマーク欠陥、及び、溶け残り欠陥が発生し難い液浸露光用の上層膜を形成するための材料である共重合体を得る共重合体の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a copolymer which is a material for forming an upper layer film for immersion exposure less liable to develop a water mark defect and a dissolution residue defect. - 特許庁

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection device of a high resolution realizing the increase of inspection speed in a technology of inspecting defects of patterns, foreign matters, remnants, steps or the like on a wafer in the course of manufacturing process by electron beams. - 特許庁

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam. - 特許庁

電気光学装置の製造段階で周辺回路の欠陥を検出し、欠陥のある場合に製品として使用する前に予め不良品として除去することを可能にする。例文帳に追加

To detect a defect of a peripheral circuit in a manufacturing stage of an electro-optical device, and to remove it beforehand as a defective product before being used as a product, in the case of having a defect. - 特許庁

複数の光電変換画素を有する撮像素子からの画素データを受け、該撮像素子の画素欠陥に起因する不良画素データを適切に修正する画素欠陥修正装置である。例文帳に追加

A pixel defect correction device receives pixel data from the imaging device having plural photoelectric conversion pixels to properly correct defective pixel data caused by the pixel defect of this imaging device. - 特許庁

半導体基板の製造工程において、検査装置によって検出された欠陥データに基づいて欠陥分布状態解析を行い、装置あるいはプロセス起因の不良原因の特定を容易にする。例文帳に追加

To facilitate specification of a trouble caused by an inspection equipment or process by performing defect distribution state analysis based on defect data detected by the inspection equipment in the production process of a semiconductor substrate. - 特許庁

本発明は、ＣＣＤカメラ、レーザー式反射検出機および／または接触式変位検出機により、燃料電池用のセルおよび／またはハーフセルの欠陥を検出することを特徴とする燃料電池材料の欠陥検出方法である。例文帳に追加

A defect detecting method for fuel cell material detects defects in cells or half-cells for fuel cells by means of a CCD camera, a laser reflection detector, and/or a contact displacement detector. - 特許庁

所望の欠陥領域あるいは所望の無欠陥領域を有するシリコン単結晶を容易に歩留まりよく製造できる半導体単結晶の製造装置及び製造方法を実現すること。例文帳に追加

To provide a manufacturing device and a manufacturing method for a semiconductor single crystal by which a silicon single crystal having a desired defect region or a desired defect-free region can be easily manufactured in high yield. - 特許庁

欠陥検出の対象である配線パターンと他の標準パターンとを比較する必要がないため、短い時間で微細パターンの欠陥を検出することができる。例文帳に追加

Since the comparison of the wiring pattern to be inspected with the other reference pattern is dispensed with, the defect of a minute pattern can be detected in a short time. - 特許庁

接続孔または接続孔の終点制御の精度を高めることができ、半導体装置に欠陥が生じるのを抑制し得るエッチング方法、および欠陥が抑制された半導体装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide an etching method, by which the accuracy of a connection hole or end point control of the connecting hole can be enhanced and occurrence of defects in a semiconductor device can be suppressed, and to provide a semiconductor device in which defects are suppressed. - 特許庁

半導体ウェーハの製造工程において、検査装置によって検出された欠陥データに基づいて欠陥分布状態解析を行い、装置あるいはプロセス起因の不良原因の特定を容易にする。例文帳に追加

To analyze a defect distribution state based on defect data detected by an inspection apparatus and easily identify a defect reason due to an apparatus or a process in a semiconductor wafer manufacturing process. - 特許庁

高トナー消費量の画像（例えば、べた画像）を連続してプリントを行っても、スジ状欠陥、雨だれ状の画像欠陥が無く高解像度のプリント画像が得られる画像形成方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide an image forming method capable of obtaining a printed image with high resolution free from image defects such as stripe-like defects and raindrop-like defects even when images with consumption of a large amount of toner (for example, a solid image) are continuously printed. - 特許庁

また、前記欠陥の状態を把握する際には、前記データベースを参照して、既に不良チップ領域であるとして特定されているチップ領域については前記欠陥の状態の把握を省略する。例文帳に追加

Furthermore, in acquiring the state of a defect, the database is referred to and the acquisition of the state of a defect is eliminated in a chip region having been already specified as a defective chip region. - 特許庁

リアルタイムデータを記録するための欠陥管理情報を貯蔵する記録媒体、その欠陥管理方法とリアルタイムデータの記録方法を提供する。例文帳に追加

To provide a recording medium to store a defect control information for recording real time data, a defect control method thereof and a real time data recording method. - 特許庁

輝度プロファイルは、検査対象であるウェハ２外観を実際に撮像して得られる特性であり、欠陥の形態を明確に示すため、良品パターン等との比較による場合と比べて、欠陥分類の確実性が格段に増す。例文帳に追加

Since the luminance profile is a property acquired by actually photographing the wafer 2 to be inspected and clearly shows the forms of defects, the reliability of defect classification is substantially improved, when compared with the case of comparison with a non-defective pattern. - 特許庁

複数の検査レシピは、互いにトレードオフの関係にある特性値（帯電ロバスト性、欠陥検出速度、欠陥検出精度等）を持つ複数の軸により特定される座標系上に配置されて表示される。例文帳に追加

For display, many inspection recipes are arranged on the coordinate system specified by many axes having characteristics values (charge robustness, defect detection speed, defect detection accuracy and others) which have the mutual trade-off relationship. - 特許庁

カラーフィルタの欠陥部分を短時間で修正することができ、修正部分の識別が困難であるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for correcting a defect in a color filter with which a defective part of the color filter can be corrected in a short time and identification of a corrected part is difficult. - 特許庁

偏光板の欠陥検査の代表的なひとつである、クロスニコル法による目視検査を行った際に、異物や欠陥等が見づらくなることがなく、高度な検査精度を実現することのできる離型フィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a mold release film preventing a foreign matter and a defect from getting difficult to be observed, when conducting visual inspection by a crossed Nicols method that is representative one for defect inspection of a polarizing plate, and attaining high inspection precision. - 特許庁