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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 欠陥のあるの意味・解説 > 欠陥のあるに関連した英語例文

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欠陥のあるの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2863



例文

本検査装置1は、絵柄を有する検査対象の欠陥を、高精度で検査することが可能である例文帳に追加

The inspection device 1 can inspect with high accuracy defects in the inspection object having patterns. - 特許庁

MTF(E0)>0.55に設定しても画素寸法/2以下の欠陥を検出可能である例文帳に追加

The defect not more than the half of the image size may be detected even if the MIF(E0) is set>0.55. - 特許庁

様々な欠陥を含む可能性がある検査対象であっても、高精度の検査を実現する。例文帳に追加

To achieve highly accurate inspection even with respect to an inspection target having possibility containing various flaws. - 特許庁

その結果、見逃し欠陥ある場合などには(S7、S8)、評価値を算出する(S10)。例文帳に追加

As a result, if there is an overlooked defect or the like (S7 and S8), evaluation values are calculated (S10). - 特許庁

例文

電子顕微鏡装置を用い複数の欠陥を含む基板を検査する基板検査方法である例文帳に追加

A substrate including a plurality of defects is inspected by using an electron microscope device in the substrate inspection method. - 特許庁


例文

高い感度であるとともに、現像欠陥の発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive type photoresist composition having high sensitivity and few developing defects. - 特許庁

欠陥検査が容易であり、かつ、CADデータのハンドリングが容易であるフォトマスクを提供すること。例文帳に追加

To provide a photomask which facilitates defect inspection and which facilitates handling of CAD data. - 特許庁

製膜時あるいは熱処理中に欠陥が発生し難いゼオライト膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a zeolite membrane which hardly causes faults during membrane production or heat treatment. - 特許庁

シャッタチャンスを極力生かしつつ、欠陥のある撮影を抑えた撮影装置を提供する。例文帳に追加

To provide a photographing apparatus which suppresses defective photographing while utilizing a shutter chance as effectively as possible. - 特許庁

例文

欠陥のある糸を判別するために、洗糸装置(4)において誤差関数を計算する。例文帳に追加

In order to judge a defective yarn, an error function is calculated in a yarn washing device 4. - 特許庁

例文

そして、上記撮影された画像より電力ケーブルあるいは付属品内部の欠陥を検出する。例文帳に追加

Hereby, a defect on the power cable or on the accessory inside is detected from the photographed image. - 特許庁

最短距離の関係にある欠陥セクタ105を補完相手セクタとして選定する。例文帳に追加

The defective sector 105 of a shortest distance relation is selected as a complimentary opposite sector. - 特許庁

結晶欠陥11のある部分は、レジスト膜12は露光されないため、開口が形成される。例文帳に追加

Since the resist film 12 on a part having a crystal defect 11 is not exposed, an opening is formed. - 特許庁

読み取り開始までに時間を要することなく、補正の対象である欠陥画素を探す。例文帳に追加

To search defective pixels as the object of correction without requiring time until the start of reading. - 特許庁

鋳物品質であるガス欠陥を改善することができる鋳物製造用構造体を提供する。例文帳に追加

To provide a structure for producing a casting with which gas defect as the casting quality can be improved. - 特許庁

また相対的に欠陥の少ない最終製品に加工することも容易である例文帳に追加

Further, an end product with a relatively small amount of defects can be easily processed. - 特許庁

リコイルラインでは、欠陥のある位置が検査台に近づくと自動的にライン速度が減速される。例文帳に追加

In the recoil line, as the position of a defect approaches an inspection base, an line speed is automatically decelerated. - 特許庁

凹凸欠陥の高さあるいは深さを基準に不良ディスクと正常ディスクとを区別する。例文帳に追加

To distinguish a faulty disk from a normal disk, with reference to the height or depth of a recessed and protruded defect. - 特許庁

不揮発性メモリ15は、算出された撮像素子の画素欠陥位置を記録する記録手段である例文帳に追加

A nonvolatile memory 15 is a recording means for recording the calculated positions of pixel defects of the image sensing element. - 特許庁

寸法が小さくなっても、めっき欠陥を発生しない、薄膜ヘッドの端子を得ることにある例文帳に追加

To provide an improved manufacturing method of a thin film head, by which a terminal having no defect can be obtained even when its size is made small. - 特許庁

セクタに欠陥ある場合、トラックのセクタは書き込み中にスキップされる(507)。例文帳に追加

When the sector has a defect, the sector of the track is skipped in writing (507). - 特許庁

欠陥の有無を正確に検出し、検査対象物が良品であるか否かを精度よく判定する。例文帳に追加

To precisely determine the quality of an inspection target by accurately detecting the presence of a defect. - 特許庁

金属配線に欠陥のある半導体デバイスを不良と判断できる検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide an inspection method capable of determining a semiconductor device having a defect in metal wiring, as defective one. - 特許庁

鋳物品質であるガス欠陥を改善することができる鋳物製造用構造体を提供する。例文帳に追加

To provide a structure for manufacturing a casting with which the gaseous defect can be improved as the casting quality. - 特許庁

ある引き上げ速度プロファイルで育成されたSi単結晶の欠陥領域あるいは無欠陥領域のタイプを明確に検出し、このデータを次の引き上げにフィードバックすることよって、欠陥領域のないSi単結晶を安定して育成する。例文帳に追加

To stably grow an Si single crystal having no defective region by clearly detecting the type of a defective region or a defect-free region of an Si single crystal grown with a certain pull speed profile and feeding back such data for the subsequent pulling. - 特許庁

特に、酸素欠陥を有する二酸化チタン添加樹脂層における二酸化チタン含有率が0.5重量%から50重量%である場合や、酸素欠陥を有する二酸化チタンの酸素欠陥の割合が、二酸化チタン中酸素原子の数の0.01%から25%である場合が好ましい。例文帳に追加

It is especially preferable that the content of titanium dioxide in the titanium dioxide added resin layer having the oxygen defect is 0.5-50 wt.% or the ratio of the oxygen defect of titanium dioxide having the oxygen defect is 0.01-25% of the number of oxygen atoms in titanium dioxide. - 特許庁

表層欠陥をレーザ光等で観察する際、半導体ウェーハ表層にある結晶欠陥の正確な位置を決定できる半導体ウェーハ表層結晶欠陥観察用試料とこの試料の作製方法を提供するものである例文帳に追加

To provide a sample for observing a semiconductor wafer surface crystal defect, with which accurate position of the crystal defect in the semiconductor wafer surface is decided, when a surface defect is observed with laser beam, etc., and to provide a method for manufacturing the sample. - 特許庁

主マスクMMの分割マスクMDMにより順次露光を行い、かつ主マスクMMの欠陥ある分割マスクMDMを露光する際に、当該欠陥ある分割マスクMDMに対応する欠陥のない補償マスクCMの分割マスクCDMを用いて露光を行う。例文帳に追加

When exposure of patterns are performed in order using the split masks MDM of the main mask MM and a pattern is exposed using the split mask MDM having the defect of the mask MM, the exposure is performed using the split mask CDM, which corresponds to the mask MDM having the defect and has no defect, of the mask CM. - 特許庁

磁気ディスクの磁性膜の有無あるいは磁性膜が薄い欠陥等の磁気的な欠陥を検査することによって磁気ディスク検査のスループットを向上させることができる磁気ディスク欠陥検査方法および検査装置を提供することにある例文帳に追加

To provide a flaw inspection method for a magnetic disk capable of inspecting the presence of the magnetic film of the magnetic disk or the magnetic flaw such as a thin flaw or the like of the magnetic film to enhance the inspection throughput of the magnetic disk, and an inspection device. - 特許庁

欠陥の1つである異物をほとんど検出することなく、ガラスディスクに対してチャック等による疵や欠け、割れ等の外周欠陥を高精度に検出することができるガラスディスクの周面欠陥検出光学系および検査装置を提供することにある例文帳に追加

To provide an optical system for detecting peripheral surface defects of a glass disk and a device of detecting the peripheral surface defects, which can detect the peripheral surface defects, such as flaws or cracks due to a chuck used for the glass disk with high accuracy, without hardly detecting foreign matters which is one of the defects. - 特許庁

欠陥判断部52は、取り入れた画像が表面H、裏面R及び中間Iの欠陥Df,Dr,Diの何れかを含む異常画像であるときに、これが一ヶ所、二カ所又は三ヶ所に出たときにそれぞれR、I又はHに欠陥あると判断する。例文帳に追加

The defect-determining part 52 determines that there are the defects on the back face R, an intermediate part I or the back face H, when the captured image is an abnormal image including the defect Df, Dr, Di on the front face H, the back face R or the intermediate part I and the defects appear at one, two or three locations. - 特許庁

第2処理部52は、データを書き込むべき第1記録層あるいは第2記録層に欠陥領域が存在する場合、第1記録層あるいは第2記録層の交替領域であって、かつ欠陥領域とは異なった交替領域に、欠陥領域に書き込む予定のデータを書き込む。例文帳に追加

If a defective area exists in the first recording area or the second recording area in which data is to be written, a second processing part 52 writes data scheduled to be written in the defective area in an alternate area which is an alternate area of the first recording area or the second recording area and is different from the defective area. - 特許庁

また、本発明によれば、変換部で基準データに選択エリアを設定し、欠陥判定部でアルゴリズムを用いて、各エリアの検査精度に応じた所定のしきい値を読み出し、欠陥の判定、検出を行うことにより、擬似欠陥の検出を抑制しつつ、かつ迅速なパターン検査をすることが可能である例文帳に追加

Or the detection of the untrue defects can be suppressed and the pattern can be rapidly inspected by setting the selected area to reference data by using a conversion part, reading a predetermined threshold corresponding to inspection accuracy of each area and determining and detecting the defects. - 特許庁

本発明の目的は、液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、ブロッブ欠陥、ブリッジ欠陥等の現像欠陥の発生を抑制することができる感放射線性樹脂組成物を提供することである例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition that has an excellent reactivity with an alkali developer while securing hydrophobicity during liquid immersion exposure, and can prevent occurrence of development defects such as blob defects and bridge defects. - 特許庁

表面の平滑性に優れ、かつ、欠陥のない同厚のアルミニウム接合板を安価に提供する。例文帳に追加

To inexpensively provide a joined aluminum plate with a uniform thickness having superior smoothness of the surface and having no defect. - 特許庁

複数の欠陥検査アルゴリズムを実行可能な検査装置の利用効率を向上させる。例文帳に追加

To improve utilization efficiency of an inspection apparatus capable of executing a plurality of defect inspecting algorithms. - 特許庁

また、画素欠陥情報を記憶する記憶領域が満杯、或いは追記しようとする画素欠陥情報のすべてを記憶しきれない場合には、欠陥レベルの大きいものから順位付けして或いは検出時期の新しいものから順位付けして上位のものから記憶させる。例文帳に追加

When a region for storing the pixel defect information is full or when the pixel defect information cannot be stored entirely, the pixel defect information is ranked and stored sequentially starting from one having the highest defect level or a latest detection time. - 特許庁

探傷精度の劣化を抑制し、深くにある欠陥を軸方向に走査的に探傷する際に、微小欠陥の存在の検出を可能にし、存在検出が従来可能であった欠陥の検出時の信号のS/N比を改善すること。例文帳に追加

To suppress the deterioration of flaw detection accuracy, detect the existence of a minute flaw when detecting a flaw in a deep part in the axial direction in a scanning manner, and improve an S/N ratio of a signal when detecting a flaw whose existence can be detected conventionally. - 特許庁

アルミニウム合金鋳物における鋳物欠陥の補修処理方法および補修処理装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR REPAIR-PROCESSING CASTING DEFECT IN ALUMINUM ALLOY CASTING - 特許庁

渦電流検査システムにおける長手方向欠陥のための方法及びアルゴリズムを提供する。例文帳に追加

To provide a method and algorithm for elongated defects in an eddy current inspection system. - 特許庁

渦電流検査システムにおける長手方向欠陥のための方法及びアルゴリズム例文帳に追加

METHOD AND ALGORITHM FOR ELONGATED DEFECT IN EDDY CURRENT INSPECTION SYSTEM - 特許庁

2画像の対応する各画素同士の画素値の差分を検出して、この差分が検出閾値を超えるとき画素部分を欠陥として検出する画像欠陥検査装置及び方法において、比較する2画像に明度差がある場合の疑似欠陥の発生を低減する。例文帳に追加

To reduce the generation of a pseudo-defect when a lightness difference exists between two compared images, in an image defect inspection device and a method for detecting a difference between fellow picture elements corresponding to the two images to detect a picture element portion as a defect when the difference exceeds a detection threshold. - 特許庁

欠陥部の下地に相当する画素を含む欠陥部近傍の比較参照樹脂のレーザ光透過率に応じて、レーザ光の照射強度を変更する、あるいは、欠陥部の高さに応じて、レーザ光照射系のレンズ倍率を変えて焦点深度を調整する。例文帳に追加

This method changes an irradiation intensity of a laser beam depending on a laser beam permeability of a comparing/referring resin in the vicinity of a defective part including a pixel corresponding to a substrate of the defective part, or adjusts a focal depth by changing a lens magnification of a laser beam irradiation system depending on the height of the defective part. - 特許庁

この結果、異なったマスク上のパターン領域の同一位置に欠陥ある可能性はほとんど回避されるため、欠陥によって劣化したマスクパターン像には、欠陥の無いマスクパターン像が重ね合わされることとなり、その修復が可能となる。例文帳に追加

As a result, possibility of defects existing on the same positions in pattern regions on the different masks can be practically avoided, so that a mask pattern image which is deteriorated by defects is overlapped with a mask pattern image which has no defects, and restoration of the mask pattern image becomes possible. - 特許庁

情報記録媒体に所定の大きさのブロック単位でデータを記録する際に、データの記録中のブロックが欠陥ブロックであるか否かを判別し(ステップ409)、その結果、記録中のブロックが欠陥ブロックである場合に、該欠陥ブロックに続く少なくとも1ブロックがスキップされた欠陥ブロック近傍のブロックにデータを新たに記録する(ステップ419〜427、407)。例文帳に追加

When data are recorded to an information recording medium in units of block whether a block where the data are being recorded is defective or not is discriminated (step 409), and as a result, when the block is defective, the data are recorded newly to a block which is nearby the defective block, but not the block right behind the defective block (steps 419 to 427, 407). - 特許庁

本発明は、種々の大きさの欠陥部にたいしても高精度に修正を行える欠陥修正装置を提供することであり、また、本発明の他の目的は、上記欠陥修正装置に用いられるレーザの出力判定システムを提供することである例文帳に追加

To provide a defect correction device capable of high accuracy correction of defects having a variety of dimensions and also to provide a laser-output decision system to be employed for the defect correction device. - 特許庁

JIS R 1601に基づく4点曲げ試験を行った複合セラミック体1の破面を観察し、破壊の起点となった内部欠陥の投影面積の平方根を欠陥サイズとした場合に、その欠陥サイズが55μm以下である例文帳に追加

When a fracture surface of the composite ceramic body 1 subjected to a four-point bending test according to JIS R 1601 is observed and the square root of the projected area of an internal defect acting as the starting point of breakdown is regarded as a defect size, the defect size is55 μm. - 特許庁

埋設状態にある円筒形構造物の欠陥の検出に適用され、送受信されるSH波の伝達効率に優れ、その欠陥を精度よく容易に検出することができる円筒形構造物の欠陥検出方法を提供する。例文帳に追加

To provide a defect detection method of a cylindrical structure applied to defect detection of the cylindrical structure in the buried state, having excellent transmission efficiency of an SH wave to be transmitted and received, and capable of detecting the defect accurately and easily. - 特許庁

埋設状態にあるコンクリート構造物の欠陥の検出に適用され、送受信されるSH波の伝達効率に優れ、その欠陥を精度よく容易に検出できるコンクリート構造物の欠陥検出方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of detecting a defect of a concrete structure which is applied to the detection of a defect of a concrete structure which is laid underground, and is excellent in the transmission efficiency of SH wave which is transmitted and received, and can detect the defect with high precision easily. - 特許庁

例文

およびウエーハ内部に棒状の空洞欠陥および/または板状の空洞欠陥を含むシリコンウエーハであって、ウエーハ表面から少なくとも0.5μmの深さにわたり空洞欠陥がウエーハ内部の1/2以下の密度であるシリコンウエーハ。例文帳に追加

Furthermore, the silicon wafer contains rod-shaped void defects and/or plate-like void defects and has a characteristic that the density of the void defects contained in the space from the surface of the wafer to the depth of at least 0.5 μm is not more than 1/2 of that of the void defects contained in the inside of the wafer. - 特許庁

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