「欠陥のある」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

欠陥情報４００に基づいて、倍率演算部４８２が欠陥領域の表示倍率α１（表示倍率データ４０３）を演算する。例文帳に追加

On the basis of defect information 400, the multiplication calculation part 482 calculates display magnification α1 (display magnification data 403) of a defect region. - 特許庁

被検査体表面に形成されたパターンに欠陥が有る場合に、その欠陥がショート（短絡）、オープン（断線）、または異物付着の欠陥（ダスト）であるか否かを自動的に判別すること。例文帳に追加

To automatically discriminate whether a defect is a short (short- circuit), open (disconnection) or the defect of contamination deposition (dust) in the case that the defect is present on a pattern formed on an inspected body surface. - 特許庁

撮像系にシェーディングがあっても、ヘッドの特定の部分の欠陥を撮像画像から抽出してその部分の欠陥を精度よく検出することができる磁気ヘッドの欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide an inspection method and apparatus of defects in a magnetic head for precisely detecting defects at a specific part of the head by extracting defects at that part from a captured image even if an imaging system has shading. - 特許庁

位相欠陥部上に２種類の材料からなる多層膜を積層することにより、該位相欠陥部と高反射部の位相差を実用上０（ゼロ）とし、該位相欠陥部の反射率と高反射部の反射率を実用上等しくするように行う反射型フォトマスクの位相欠陥修正方法である。例文帳に追加

In the phase defect correction method of reflection type mask, phase difference between a phase defect part and a high reflection part is practically brought to 0 (zero) by laminating a multilayer film composed of two kinds of material on the phase defect part, and the reflectance of the phase defect part is substantially equalized to the reflectance of the high reflection part. - 特許庁

２つの被検査画像のグレイレベル差信号から検出した欠陥が、真欠陥及び疑似欠陥のいずれであるかを、検出に使用した元の被検査画像のグレイレベル値信号のＳＮ比に応じて判別する。例文帳に追加

It is discriminated that the flaw detected from the gray level difference signal of two images to be inspected is either one of the true flaw and the false flaw, corresponding to the S/N ratio of the gray level value signal of the original image to be inspected used in detection. - 特許庁

より望ましくは、その画素群単位情報を、欠陥画素が含まれている画素群であることを認定するするための含欠陥画素群特定情報と、画素群内における欠陥画素の位置を特定するための欠陥画素群内位置特定情報によって構成する。例文帳に追加

More desirably, the pixel group unit information is constituted of specification information including a defective pixel group for identifying a pixel group including the defective pixel and position specification information in the defective pixel group for specifying a position of the defective pixel in the pixel group. - 特許庁

本発明の課題は、パターン検査に加えて異物等の外観検査が可能で且つ欠陥がどのような欠陥モードなのかを正確に検査することができる金属箔パターンエッチング製品の欠陥検査方法を提供することにある。例文帳に追加

To allow visual inspection for a foreign matter and the like, in addition to pattern inspection, and to accurately inspect a defect mode as to a defect. - 特許庁

検査対象物の外観に生じている欠陥を画像処理により検査する欠陥検出方法及び欠陥検出装置であって、検査対象物の各検査ポイントにおける画像データを、所定の平均値と比較することにより欠陥を検出するものである。例文帳に追加

The method and device inspect the defect generated in the outward appearance of the object to be inspected through the image processing and the defect is detected by comparing image data at respective inspection points of the object to be inspected with a specific mean value. - 特許庁

本発明の欠陥補修方法は、欠陥の内部に存在する不純物の一部あるいは全部を除去する第１の工程と、前記欠陥を封止する第２の工程とを有する。例文帳に追加

This defect repairing method comprises a first process of eliminating a part or the whole of impurities existing inside a defect, and a second process of sealing the defect. - 特許庁

本発明の目的は、原子炉圧力容器内部の構造物表面に開口した亀裂等の欠陥を確実に封止でき、この欠陥を構造物の外部環境から確実に隔離できる欠陥補修方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a defect repairing method for positively sealing a defect such as a crack opened in the surface of a structure inside a reactor pressure vessel and positively isolating the defect from the external environment of the structure. - 特許庁

画像処理による欠陥検査方法であり、被検査体の表面状態に依存することなく、クラック等の欠陥の有無の検出が自動的に精度よく検査できる欠陥検査方法を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide a defect-inspecting method using image processing, independent of the surface state of an inspected object, and automatically and accurately detecting and inspecting the existence of defects, such as cracks. - 特許庁

そのデータを複数の欠陥セクタがある領域に記録させる場合、複数の欠陥セクタ、及びそれらの間に挟まれた非欠陥セクタをまとめて交替領域内の領域と交替させる。例文帳に追加

When these data are made to be recorded in an area having a plurality of defective sectors, the plurality of the defective sectors and non- defective sectors held among these defective sectors are made to be alternated with an area in an alternate area. - 特許庁

スキャットロメトリー法による欠陥の座標が異物あるいは傷の座標と一致すれば、ナノプリント時の欠陥ではないと判断し、一致しなければナノプリント時の欠陥と判断する。例文帳に追加

If the coordinates of the flaw by the scatterometry method coincide with those of the foreign matter or crack, the flaw is determined to be not the flaw during nano-imprinting and, if the coordinates of the flaw do not coincide with those of the foreign matter or crack, the flaw is determined to be the flaw during nano-imprinting. - 特許庁

電解質膜に欠陥部があると、酸素ガスが電解質膜の一方の面へ漏洩するから、欠陥部に近接する調光薄膜が漏洩酸素ガスで脱水素化し、調光薄膜の反射率が局部的に変化して欠陥部を検査できる（欠陥部検査）。例文帳に追加

When a defective part is present in the electrolyte membrane, since the oxygen gas leaks to the one surface of the electrolyte membrane, the light modulation thin film adjacent to a defective part is dehydrogenated by leaked oxygen gas, the reflectance of the light modulation thin film is locally changed, and thereby, the defective part can be inspected (defective part inspection). - 特許庁

透光性基板表面にある凹欠陥を修正して転写パターン欠陥やマスクパターン欠陥の発生を防止するマスクブランク用透光性基板、マスクブランク及び露光用マスクの製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a production method for a mask blank-use translucent substrate, a mask blank and an exposing mask to prevent occurrence of a transfer pattern defect and a mask pattern defect by correcting a recessed defect on the surface of a translucent substrate, and to provide a method of correcting a defect in an exposing mask. - 特許庁

次に、周期性特徴量である、欠陥の発生方向，欠陥同士の間隔，発生座標等のパラメータにより周期性判定処理(4016)を行うことによって、周期的に発生する線状，円弧状欠陥と、孤立に発生する線状，円弧状欠陥とを分類して検出する。例文帳に追加

Subsequently, periodic determining processing (4016) is performed by a parameter such as a flaw occurring direction, the mutual interval between the flaws, produced coordinates or the like being a periodic feature quantity to classify the periodically occurring linear and circular arc-like flaws and the insularly occurring linear and circular arc-like flaws to detect them. - 特許庁

マイコン部１０６は、該範囲分けした範囲毎に、該範囲中に存在する欠陥画素の期待値と欠陥画素の検出個数との差分値が所定範囲内に収まるように、画素が欠陥画素であると判定する個別欠陥検出条件を可変制御する。例文帳に追加

A microcomputer part 106 variably controls an individual defect detection condition for judging a pixel as a defective pixel for each divided range so that a difference between an expected value of defective pixels existing in the range and the number of detected defective pixels falls within a prescribed range. - 特許庁

あるいは角度別の欠陥数ヒストグラムデータにおける角度別の欠陥検出量についての標準偏差値を越える集計角度領域において島状欠陥の検出をする。例文帳に追加

Otherwise, an island defect is detected in a totalized angle domain exceeding a standard deviation value on a defect detection amount classified by angle in defect number histogram data classified by angle. - 特許庁

走査幅が一定であることに起因する欠陥の誤検出の問題を解決し、欠陥の誤検出を低減し、欠陥の検出精度を向上させる。例文帳に追加

To solve the problem of misdetecting defects caused by the fact that a scanning width is constant, reduce misdetection of defects, and improve the detecting accuracy of defects. - 特許庁

非欠陥の範囲を欠陥として報告することを最小にしながら、現在の検査技術を用いて、正確に検出するのが困難である関心の欠陥を検出し且つ見分ける。例文帳に追加

To provide an improved method of defect detection and reporting technique for detecting and differentiating defects of interest that are difficult to detect accurately, using current inspection techniques, while minimizing the reporting of non-defective areas reported as being defective. - 特許庁

そして、色判別部が、欠陥原因色特定部で特定された色成分が、Ｋ色の場合は欠陥の原因は単色であり、ＣＭＹＫ色の場合は、欠陥の原因は混色であると判別する。例文帳に追加

A color determination part determines that a cause of the defect is a monochromic color when the color component specified by the defect cause color specifying part is the K color, and determines that the cause of the defect is a color mixture when the color component is the CMYK color. - 特許庁

ある工程で発生した欠陥が後の工程にどの程度影響を与えているかを正確に把握することができる基板の欠陥検査方法および基板の欠陥検査システムを提供する。例文帳に追加

To provide a substrate defect inspection method and a substrate defect inspection system that can grasp accurately how a defect occurred in a certain process affects the subsequent processes. - 特許庁

上記主表面の研磨加工は、当該主表面を精密加工した後欠陥検査を行って当該主表面上の欠陥を特定し、この特定された欠陥に対して実施するものである。例文帳に追加

After the principal surface is subjected to precision processing and to defect inspection, to specify a defect on the principal surface, the polishing process is carried out on the specified defect. - 特許庁

検査と同時にあるいは並行して欠陥部の荷電粒子線画像の信号量を含む欠陥の特徴量を算出し、これによって欠陥の電気的性質に基づく分類を即座に行えるようにする。例文帳に追加

The method for checking the pattern comprises calculating the feature amount of a defect which includes the signal amount of a charged particle beam image of the defect, simultaneously or concurrently upon checking, and immediately sorting the defects based on the electrical properties of the defects. - 特許庁

基板真上の突起欠陥と多層膜中央の突起欠陥であっても、修正用多層膜を積層することでこれらの位相欠陥を修正することが可能である。例文帳に追加

Phase defect can be corrected by laminating a multilayer film for correction, even for a protrusion defect directly above a substrate and a protrusion defect in the center of the multilayer film. - 特許庁

欠陥のある光電変換素子からの欠陥画素データの欠陥補正を高速に行い且つ回路規模を小さくすることが可能なデータ補正処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a device for processing data correction which corrects a defect of defective data from a defective photoelectric converting element at high speed and whose circuit scale can be made small. - 特許庁

照明条件、もしくは検出条件の異なる検査結果を統合することで、ノイズやNuisance欠陥と真の欠陥を高精度に判別することができる欠陥検査装置及びその方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a defect inspection device and a method thereof for highly accurately distinguishing noise or nuisance defects from real defects by unifying inspection results different from each other in lighting conditions or detection conditions. - 特許庁

画像処理部２４は、欠陥の大きさを示す情報に基づいて、目視によって欠陥の判断が可能な大きさの欠陥があるかどうかを判断する。例文帳に追加

An image processing section 24 determines whether a defect exists, whose size allows to make a defect decision by visual inspection, based on information representing the size of the defect. - 特許庁

有機ＥＬ素子の欠陥除去方法および有機ＥＬ素子の製造方法であって、（１）上記有機ＥＬ層中もしくはその表面に存在する欠陥を検出する欠陥検出工程と、（２）上記検出された欠陥にレーザ光を照射して上記欠陥の近傍にある有機ＥＬ層構成物と共に上記欠陥を除去する欠陥除去工程とを少なくとも有することを特徴とする有機ＥＬ素子の欠陥除去方法を提供し、（３）上記有機ＥＬ層の除去された部分を再度形成する有機ＥＬ層二次形成工程とを少なくとも有する。例文帳に追加

The method for removing defects in an organic EL device and manufacturing it include at least processes of (1) detecting defects in the organic EL layer or its surface, (2) radiating a laser beam on the defects and removing them with the neighboring organic EL composition around it, for the removing method, and (3) a secondary formation process for making up the removed part of the organic EL layer. - 特許庁

鋼板を圧延しながら鋼板に現れる表面欠陥を簡単且つ容易に検出でき、且つ欠陥部分を切断しなくてもコイルとして出荷された後で欠陥の種類とグレード及び欠陥の位置情報を確認できるようにすることにある。例文帳に追加

To provide a method and equipment capable of detecting simply and easily surface defects appearing in steel strip being rolled and confirming information on kinds, grades and positions of the defects without cutting the defective portions after the sheet steel has been shipped in the shape of a coil. - 特許庁

本発明にかかる欠陥修正装置２３は、基板上に設けられた画素パターンのうちの欠陥画素に対して、レーザー光を照射することによって欠陥を除去するものである。例文帳に追加

The apparatus 23 for correcting the defect is used for removing the defect of the defective pixels in the pixel pattern provided on the substrate by irradiating the defective pixels with a laser beam. - 特許庁

また、欠陥画素置換処理部１５０が感度補正処理部１４０によって欠陥画素と判定された画素からの出力信号を欠陥画素の近傍にある画素の出力信号に置換する。例文帳に追加

A defective pixel substitution processing unit 150 is designed to substitute an output signal of a pixel existing near the defective pixel for an output signal from a pixel determined to be a defective pixel by the sensitivity correction processing unit 140. - 特許庁

検出する画像欠陥のサイズに関らず、放射線画像の画像欠陥を精度良く検出することのできる画放射線画像撮影装置及び画像欠陥検出方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a radiation image photographing apparatus which can detect an image defect of a radiation image precisely regardless of the size of an image defect to be detected, and to provide a method for detecting an image defect. - 特許庁

光沢のある包装部材で包装された包装物であっても、包装欠陥の検出精度が高い包装物の欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a package flaw inspecting apparatus enhanced in the detection accuracy of a packing flaw even with respect to a package packed by a packaging member having gloss. - 特許庁

本発明は、成長中の膜に付着若しくは埋め込まれて成るパーティクルなどの成膜欠陥が極めて少ない低欠陥薄膜及びその製造方法である低欠陥成膜法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a low-defect thin film which is extremely little in deposition defects such as particles attached or embedded in a film under growth and a low-defect deposition method which is a method for manufacturing the same. - 特許庁

外観検査装置によって検出された汚れ欠陥から、作業員の選別によらず、その汚れ欠陥が良品であるか否を選別するカラーフィルタ汚れ欠陥の選別方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of sorting color filter dirt flaws for sorting non-defective dirt flaws from defective ones, without having to depend on the sorting of workers, as to dirt flaws detected by a visual inspection device. - 特許庁

その際、検査用画像データを欠陥検出用画像の画像状態に対応させて変換することにより、欠陥検出用画像から検出される異常個所が、真の欠陥であるか否かを判定することができる。例文帳に追加

In this case, the image data for inspection is converted in correspondence with the image state of the image for defect detection, and thus it is discriminated whether the abnormal position detected from the image for defect detection is a true defect or not. - 特許庁

欠陥に発展するおそれのある潜在的欠陥を検出し，潜在的欠陥の再割り当てを行うことによって，ハードディスクドライブの実行性及び信頼性が向上する。例文帳に追加

By detecting the potential defect which possibly develops to the defect and reassigning the potential defect, availability and reliability of the hard disk drive are improved. - 特許庁

検出位置で検出された欠陥が搬送ライン上のどの位置まで到達しているかを、搬送ラインの後方にある検査位置において容易に把握することができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。例文帳に追加

To easily grasp which position the flaw detected at a detection position arrives at on a feed line at the inspection position present behind the feed line. - 特許庁

設置スペースが少なくて済み、光源とスクリーン間から反射ミラーを省け、しかも表示欠陥（点欠陥・線欠陥・シミムラ欠陥等）を自動検出可能な電気光学装置の検査装置及び検査方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a device and a method for inspecting an electro-optical device which requires only a few installation space, in which a reflection mirror is omitted from a light source and a screen and which can automatically detect display defects (such as point defects, line defects, stain and uneven defects). - 特許庁

酸素イオンが注入されるシリコン基板は、ボイド欠陥又はＣＯＰからなる結晶欠陥密度が１×１０^5ｃｍ^-3以上でありかつ結晶欠陥のサイズ分布の最大頻度が０．１２μｍ以下であることが好ましい。例文帳に追加

The oxygen ion-implanted silicon substrate has preferably a void defect or COP crystal defect density of ≥1×10^5 cm^-3, and a maximum frequency of ≤0.12 μm in the crystal defect size distribution. - 特許庁

ディスク上の欠陥について円周疵か、島状欠陥かの判定を高速に処理することが可能な欠陥検査方法および検査装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a defect inspection method and an inspection device determining quickly whether a defect on a disk is a circumferential flaw or an island defect. - 特許庁

煩雑なしきい値設定を行うことなく、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a flaw inspecting device capable of detecting a flaw which is desired by a user embedded in noise or the flaw unnecessary to be detected with high sensitivity at a high speed without setting a complicated threshold, and a flaw inspecting method. - 特許庁

そして撮像素子上の画素が欠陥画素であることを検出すると、検出された欠陥画素に割り振られた番号を、当該画素の位置を示す情報として欠陥画素情報に追加する。例文帳に追加

Then, when a pixel on the imaging element is detected to be a defective pixel, the number allocated to the detected defective pixel is added to defective pixel information as information indicating the position of the pixel. - 特許庁

封止体に欠陥がない場合には半導体素子１からの光はレンズ５に入射せず、封止体に欠陥がある場合にはその欠陥によって生じる散乱光がレンズ５に入射する。例文帳に追加

If there is no defect in the sealant, the light from the semiconductor element 1 is never incident into the lens 5, and if there are any defects in the sealant, scattered light generated by the defects is incident into the lens 5. - 特許庁