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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 欠陥のあるの意味・解説 > 欠陥のあるに関連した英語例文

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欠陥のあるの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2863



例文

被検査物を撮像した画像が、ある一定の周期的な濃淡を有し、その中に欠陥あるような場合でも、欠陥を安定して検出できる表面欠陥検査方法および表面欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method of inspecting surface defects and an apparatus for inspecting surface defects for detecting defects stably, even when an image of an object to be inspected includes constant, periodic variations in density, and there is a defect therein. - 特許庁

ウェーハ上の多数の欠陥データの中から集積回路の動作に致命的な影響を与える可能性のある欠陥を、オペレータの容易な操作で選択し、選択した欠陥欠陥画像を表示できる方法の提供。例文帳に追加

To provide a method by which an operator can select defects having the possibility of exerting a fatal influence upon the operation of an integrated circuit from many pieces of defect data of a wafer surface by his or her easy operation so as to display defect images of the selected defects. - 特許庁

ヘッドの特定の部分の欠陥を撮像画像から抽出してその部分の欠陥を精度よく検出することができる磁気ヘッドの欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供することにある例文帳に追加

To provide an inspection method and apparatus of defects in a magnetic head for precisely detecting defects at a specific part of a head by extracting defects at the specific part of the head from captured images. - 特許庁

試料を検査して得られる欠陥の種類を記憶したデータベースを参照して、抽出した欠陥の種類を特定し、試料の領域ごとに欠陥の種類別の欠陥密度を求め、表示するようにしたものである例文帳に追加

By referring to a database storing the types of defects obtained by inspecting samples, a type of an extracted defect is specified and the density of defects of each type is determined for each region of the sample for display. - 特許庁

例文

また、試料を検査して得られる欠陥の種類を記憶したデータベースを参照して、抽出した欠陥の種類を特定し、試料の製造プロセスごとに欠陥の種類別の欠陥密度を求め、表示するようにしたものである例文帳に追加

Furthermore, by referring to the database, a type of the extracted defect is specified and the density of defects of each type is determined for each manufacturing process of the sample for display. - 特許庁


例文

欠陥のあるセルの位置を特定するとともに、欠陥の大きさを容易に把握することが可能な目封止ハニカム構造体の欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection method and a defect inspection device of a sealed honeycomb structure, capable of specifying the position of a cell having a defect and of readily grasping the defect size. - 特許庁

オペレータは、欠陥マークと実際の表面疵を対比し、欠陥マークが表面欠陥検出器14の誤作動によって付されたものであるときは、設定表示盤25から欠陥マークの消去指令を入力する。例文帳に追加

The operator compares a defect mark and an actual surface flaw, when a defect mark is imparted by the error operation of the surface defect detector 14, an erasing command of defect mark is inputted from the setting display board 25. - 特許庁

これにより円周疵あるいは島状欠陥を他の欠陥と分離して欠陥検出処理を段階的に行うことができるので、検出される欠陥数が増加してもデータ処理装置の処理ロードを低減することができる。例文帳に追加

Hereby, since defect detection processing of the circumferential flaw or the island defect can be performed stepwise separately from other defects, even if the number of defects to be detected is increased, a processing load of a data processing device can be reduced. - 特許庁

ウェハ上に欠陥あるか否かを検査する第1の欠陥検査処理(ステップS11)を実行した後、その第1の欠陥検査処理にて検出された欠陥により、不良チップを判定する(ステップS12,S13)。例文帳に追加

After first defect inspection processing (step S11) for inspecting whether there is a defect on a wafer or not is performed, a defective chip is determined by the defect detected by the first defect inspection processing (steps S12, S13). - 特許庁

例文

また、試し書き領域に欠陥ある場合は、OPC動作においてその欠陥領域(又は欠陥領域から再生された情報)が回避されるようにして、欠陥部分の影響が出ないようにする。例文帳に追加

If the trial write area has a defect, the defective region (or information reproduced from the defective region) is avoided in the OPC operation to eliminate the influence of the defective part. - 特許庁

例文

欠陥修正装置が備える欠陥検出部が、多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像との差画像である欠陥領域画像を生成する。例文帳に追加

A defect detection unit included in a defect correction device generates a defect region image being a difference image between a defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image. - 特許庁

あるプロセスが終了した後、欠陥検出装置2によりウェハWの欠陥を検出し、その欠陥位置データを欠陥観察装置3に送出する。例文帳に追加

After a certain process if completed, defects of a wafer W are detected by a defect detecting apparatus 2, and the defect positioning data is transferred to a defect observation apparatus 3. - 特許庁

次に、線状,円弧状欠陥の特徴量である欠陥幅,長さ等のパラメータにより欠陥判定処理(4015)を行い、線状,孤立欠陥候補を抽出する。例文帳に追加

Next, flaw determining processing (4015) is performed by a parameter such as flaw width, length or the like being the feature quantity of the linear and circular arc-like flaws to extract a linear and insular flaw candidate. - 特許庁

混載ウェハ(システムLSIなど)などに対して欠陥を高感度に検出し、しかも欠陥種を幅広く検出して、欠陥捕捉率を向上することができるようにした欠陥検査装置及びその方法を提供することにある例文帳に追加

To provide a defect inspection device capable of detecting with high sensitivity the defects in a mixed mount wafer (system LSI, or the like), capable of detecting widely a defect species, and capable of enhancing a defect capturing rate, and to provide a method therefor. - 特許庁

欠陥検出速度を犠牲にすることなく高い欠陥検出精度でフラットパネルの欠陥を検出し得る欠陥検出装置を実現することにある例文帳に追加

To achieve a defect detection apparatus for detecting defects in a flat panel at the high defect detection accuracy, without sacrificing defect detection speed. - 特許庁

そして他のレジストパターンについて、上記欠陥個所と同一個所に欠陥が存在するかを検査し、同一個所に欠陥が存在する場合、露光に用いたマスクに欠陥あると判定する。例文帳に追加

Then the other resist pattern is inspected whether a defect is present in the same portion as the above defective portion or not, and if the defect is present in the same portion, the mask used for exposure is determined as defective. - 特許庁

フラットパネルX線検出器では線状につながった線欠陥が生じる場合があり、さらにその線欠陥に隣接するラインに一目では欠陥とわかりづらい不確かな欠陥ラインが存在する場合がある例文帳に追加

In the flat-panel X-ray detector, a line defect connected in a line may be generated and further, an uncertain defective line that cannot be determined to be a defect at a glance may be present at times, in a line adjacent to the line defect. - 特許庁

混載ウェハ(システムLSIなど)などに対して欠陥を高感度に検出し、しかも欠陥種を幅広く検出して、欠陥捕捉率を向上させた欠陥検査装置を提供することにある例文帳に追加

To provide a device for inspecting defects that is improved in failure capture rate, and that detects flaws, with respect to mixed wafers (such as, system LSI) at high sensitivity, and moreover, that detects a wide range of defect seeds. - 特許庁

着色工程#100で着色されたカラーフィルタ基板に対して、欠陥の有無を検査する欠陥検査装置11と、欠陥検査装置11で検査した結果、カラーフィルタ基板に欠陥ある場合に、その欠陥部分を修正する欠陥修正装置14とを備えるカラーフィルタ欠陥修正一貫ラインである例文帳に追加

The continuous line for correcting the defect in the color filter is provided with a defect inspecting device 11 to inspect presence or absence of any defect with respect to a color filter substrate colored in a coloring step 100 and a defect correcting device 14 to correct a defective part in the case the defect is present in the color filter substrate as a result of inspection with the defect inspecting device 11. - 特許庁

先ず電子顕微鏡ユニット2によるレビュー結果に基づき、第1の判定部3により認定欠陥部位に欠陥が有ると認められる場合のみ、その旨の欠陥情報が欠陥情報分類部6に出力される。例文帳に追加

First, a review is carried out by an electron microscope unit 2, and only when a first determining section 3 recognizes that a defect exists in a recognized defect part, is related defect information output to a defect information classifying section 6. - 特許庁

あらかじめ登録された擬似欠陥と画像を比較することにより、擬似欠陥あるか否か判定しているので、画像比較検査部で検出された欠陥が本来欠陥と判断されるべきではない擬似欠陥あるか否かを精度よく判定することができる。例文帳に追加

Since the preliminarily registered false flaw is compared with the image to determine whether the image is the false flaw, it is precisely determined whether the flaw detected in the image comparing inspection part is the false flaw which must not originally determined as a flaw. - 特許庁

アクティブマトリクス基板、又はアクティブマトリクス液晶パネルにおいて、基板又はパネルに発生している欠陥、実装工程後に確認される欠陥、或いは将来欠陥となる恐れのある欠陥を検出し、検出した欠陥モードに応じた修正を行う。例文帳に追加

To detect an existing defect on a substrate or a panel, a defect confirmed after a mounting process, or a possible future defect, and to correct them according to detected defect modes, in an active matrix substrate or an active matrix liquid crystal display panel. - 特許庁

周期的なパターン上における欠陥の検出方法であって、パターンの周期分ずれた位置同士を比較して欠陥を検出し、検出した欠陥がパターン周期よりも大きなサイズである場合に、欠陥部と正常部を比較して欠陥のサイズを検出する。例文帳に追加

In the method for detecting the defect on the cyclic pattern, a defect is detected by comparing positions deviated for the cycle of the pattern, and when the detected defect has a size larger than the pattern cycle, a defective part is compared with a normal part, thereby detecting the size of the defect. - 特許庁

欠陥領域結合処理では、検査対象画像における個別欠陥領域間の距離が所定のしきい値内にある個別欠陥領域同士の類似度を算出し、類似度が一致する場合は一次欠陥領域として結合する一次欠陥領域結合処理を行う。例文帳に追加

In flaw region jointing processing, the similarity of mutual individual flaw regions, wherein the distance between the individual flaw regions in the inspection target image is within a predetermined threshold value, is calculated and, in the case where the simirality coincides, primary flaw region jointing processing jointed as a primary flaw region is performed. - 特許庁

基板表面のスクラッチやカケ欠陥の散乱光の指向性に影響されることなく、欠陥検出が高い精度で検出でき、かつ構造が簡単な欠陥検出光学系欠陥検出光学系および欠陥検査装置を提供することにある例文帳に追加

To provide a defect detection optical system and a defect inspection device that can detect a defect at a high accuracy and have a simple structure without being affected by scratch in a substrate surface or directivity of scattered light on a chip defect. - 特許庁

欠陥判定手段16により欠陥と判定されなかった欠陥候補領域は、連結評価手段17により連結可能か否かが評価され、連結可能である欠陥候補領域は連結され、再判定手段19により欠陥か否かが再判定される。例文帳に追加

The candidate flaw area, which is determined to be not a flaw by the flaw determination means 16, is evaluated whether it can be connected or not by a connection evaluation means 17, and the candidate flaw area which can be connected is connected and redetermined whether it is flaw or not by a re-determination means 19. - 特許庁

チップの信号パスの組の中の欠陥のある信号パスを検出する。例文帳に追加

A defective signal path among the set of signal paths of the chip is detected. - 特許庁

小さい脳半球あるいは脳半球の欠落をもたらす脳発展の欠陥例文帳に追加

a defect in brain development resulting in small or missing brain hemispheres  - 日本語WordNet

軌道の欠陥のあるレール部分を取り除くための方法及び機械例文帳に追加

METHOD AND MACHINE FOR REMOVING DEFECTIVE RAIL SECTION IN TRACK - 特許庁

あるいは、その領域は欠陥領域であると見なし、記録媒体上の欠陥登録領域に登録してもよい。例文帳に追加

Or, the region is assumed to a defective region and the information may be registered to a defect registering region on a record medium. - 特許庁

その顕微鏡像に示された像のコントラストは、積層欠陥のせいである例文帳に追加

The image contrast shown in the micrograph is ascribed to a stacking fault.  - 科学技術論文動詞集

欠陥結晶の最初のCBEDによる観察は、Johnsonによるものであるように思われる。例文帳に追加

The first CBED observations of faulted crystals appear to be those of Johnson.  - 科学技術論文動詞集

レンズの欠陥となるおそれのある残留気泡を除去可能にする。例文帳に追加

To remove a residual air bubble having fear becoming the flaw of a plastic lens. - 特許庁

なお、検出しにくい欠陥は、輝度を縦横に積算し、その値が所定値以下である領域に欠陥あると判定する。例文帳に追加

For defects which are hard to detect, the brightness is summed up longitudinally and transversely, to determine some defects existing at regions where the resulting value is below a prescribed value. - 特許庁

製造業者はその製品の欠陥に対して法的な責任がある例文帳に追加

Manufacturers are liable for defects in their products. - Tatoeba例文

製造業者はその製品の欠陥に対して法的な責任がある例文帳に追加

Manufacturers are liable for defects in their products.  - Tanaka Corpus

航空業務に支障を来すおそれのある心身の欠陥がないこと。例文帳に追加

A person shall not have any physical and mental defects that may disrupt flight operation.  - 日本法令外国語訳データベースシステム

欠陥のあるピクセル回路を識別するための方法および装置例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR IDENTIFYING DEFECTIVE PIXEL CIRCUIT - 特許庁

なお、凸形状の線状形状欠陥の高さは10nm以下である例文帳に追加

In addition, the heights of the projecting linear defects are ≤10 nm. - 特許庁

欠陥画素の補正不足、あるいは過補正に対する画質の低下を避ける。例文帳に追加

To avoid deterioration in the image quality due to deficient or excessive correction of a defective pixel. - 特許庁

半導体基板上の結晶欠陥やデバイスプロセス起因の表面欠陥を観察するための綺麗な表面を作成することによってデバイス膜剥離後のエッチングによる表面欠陥観察がし易くなり、表面にある欠陥が結晶起因の欠陥か、又はプロセス起因のストレスや汚染による欠陥なのかを明らかにすることができるようにしたシリコン基板の評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide an evaluation method of a silicon substrate where surface defect observation due to etching after device film peeling is facilitated, by creating a clear surface for observing crystal defects on a semiconductor substrate and surface defects due to a device process, and it can be made clear that defects on the surface are caused by crystal itself or stress and contamination due to the process. - 特許庁

マトリクス構造における進行性のある欠陥を容易に検出可能にする。例文帳に追加

To easily detect a progressive defect of a matrix structure. - 特許庁

そのお客は、商品に欠陥あるといつでもあくまで値引きを主張した。例文帳に追加

The customer insisted on a price reduction because of defects in the product. - Tatoeba例文

批判的に、建設的に欠陥と失敗を調べることは私の仕事である例文帳に追加

it is my task to look critically and constructively at the flaws and the failures  - 日本語WordNet

そのお客は、商品に欠陥あるといつでもあくまで値引きを主張した。例文帳に追加

The customer insisted on a price reduction because of defects in the product.  - Tanaka Corpus

しかし、FATFはある一定の戦略上重大な欠陥が残存すると判定した。例文帳に追加

However, the FATF has determined that certain strategic AML/CFT deficiencies remain.  - 財務省

しかし、FATFは、ある一定の戦略上重大な欠陥が残存すると判定した。例文帳に追加

However, the FATF has determined that certain strategic AML/CFT deficiencies remain.  - 財務省

鋼板表面の欠陥や異常を容易に且つ確実に発見することにある例文帳に追加

To easily and surely detect defects and abnormalities of steel plate surfaces. - 特許庁

本発明は、ゲル欠陥の少ないポリイミドフィルムを提供することにある例文帳に追加

To provide a polyimide film having little gel defects. - 特許庁

例文

結晶欠陥あるセクタ境界面の影響を低減する。例文帳に追加

To decrease influences of a sector interface as a crystal defect. - 特許庁

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