「注入処理」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

これにより上記の反応が促進され、アルカリ注入やエアレーションなど大型で高価な装置を要する前後処理が不要になる。例文帳に追加

Thereby the reaction is accelerated and pre- and posttreatment such as alkali injection, aeration or the like, which require a large-sized and expensive apparatus is made unnecessary. - 特許庁

熱処理工程では、半導体基板９を加熱して半導体基板９に注入した不純物１２、１４を活性化する。例文帳に追加

In a heat treatment process, the semiconductor substrate 9 is heated to activate the impurities 12 and 14 injected into the semiconductor substrate 9. - 特許庁

ＳＣＲ排気ガス後処理装置においては、ポンプユニット及び調量ユニットにより尿素—水—溶液が排気ガス流内に注入される。例文帳に追加

In an SCR exhaust gas aftertreatment apparatus, urea-water-solution is injected into an exhaust gas stream by a pump unit and a metering unit. - 特許庁

その後、所望の熱処理を行なうことで、イオン注入層24を利用して埋め込み酸化膜（BOX）層25を形成する。例文帳に追加

Thereafter, the substrate is subjected to a predetermined heat treatment to form a buried oxide (BOX) film 25 utilizing the ion injected layer 24. - 特許庁

イオン注入したウェーハを、研磨した支持基板用ウェーハと共に、貼り合わせ界面の接着強度が大きくなるようにプラズマ処理を施す。例文帳に追加

The ion-implanted wafer is plasma-processed together with a polished support substrate wafer such that the strength of the lamination interface becomes greater. - 特許庁

続いて、熱処理によってｎ型イオン注入領域ｎ１を拡散および活性化させることで、ｎ型メモリエクステンション領域を形成する。例文帳に追加

Successively, the n-type ion implantation region n1 is diffused and activated through a heat treatment to form an n-type memory extension region. - 特許庁

正孔注入材料を水に分散した有機化合物含有液をサブピクセル電極２０ａに塗布し、正孔輸送層２０ｄを熱処理する。例文帳に追加

The organic compound content liquid with hole injection material dispersed therein is coated on the subpixel electrodes 20a, and a hole transporting layer 20d is thermally treated. - 特許庁

これにより、被処理物２の表面形状に対して垂直にイオンが注入されて、表面改質層５１が形成される。例文帳に追加

In this way, the surface shape of the object 2 to be treated is vertically impregnated with the ions, and a surface modified layer 51 is formed. - 特許庁

高周波プラズマ浸漬イオン注入リアクタのようなプラズマ処理チャンバにおいて精密な実時間ドーズ計測が必要とされる例文帳に追加

To solve a problem that a precise real time dose measurement is required in a plasma processing chamber such as high frequency plasma immersion ion implantation reactor. - 特許庁

間隔変更に設けられたガス注入マニホルド電極３０とウェーハ支持電極１２とを備えた真空処理反応装置である。例文帳に追加

A vacuum process reactor is provided with gas implanting manifolds 30 at irregular intervals as well as a wafer supporting electrode 12. - 特許庁

凝集不良フロックの割合を把握することにより、より適正な凝集剤注入操作を可能にし、処理水質の安定が可能になる。例文帳に追加

By grasping the ratio of the flocculation failure flocs, it is possible to appropriately operate the injection of a flocculant and to stabilize the quality of treated water. - 特許庁

イオン注入と高温熱処理の組み合わせを用いずに、高耐圧な半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device which has a high breakdown voltage without using a combination of ion implantation and high temperature heat treatment. - 特許庁

一定濃度の薬液注入で均一な強度の固化体を得ることができる砂地盤の浸透固化処理工法を提供することである。例文帳に追加

To provide an infiltration solidification processing method of a sand ground capable of obtaining a solidified body with uniform strength by injecting chemicals with fixed concentration. - 特許庁

それにより混和剤が余盛コンクリート２１内に一様に注入、均一に攪拌混合され、その強度が低下し、杭頭処理が容易となる。例文帳に追加

In this way, the admixture can be uniformly injected into the extra-fill concrete 21 and uniformly agitated and mixed to reduce the strength and facilitate the pile head treatment. - 特許庁

核酸を含む試料液が注入される複数のカートリッジを短時間で加圧抽出処理することができる安価な加圧装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive compressing device capable of performing the compression extraction treatment of a multiple number of cartridges injected with specimen liquid containing nucleic acid in a short time. - 特許庁

ポリシリコンに注入する不純物を上記の値とすることでＦＧガス処理による抵抗値の変化を微小なものに抑える。例文帳に追加

The change in the resistance by FG gas treatment is suppressed to a small degree by setting the impurity implanted into the polysilicon at the value above. - 特許庁

本発明は、小型化、かつ撹拌処理能力の優れた液状凝集剤注入撹拌装置を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide a liquid flocculant injecting/agitating apparatus which is made compact and has excellent agitating capacity. - 特許庁

カラム内に注入したサンプル溶液の全部を分析対象とすることができる自動分析前処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an automatic analysis pretreatment device capable of defining all sample solution filling a column as an analysis target. - 特許庁

処理基板へ注入する不純物濃度及び結晶状態を制御することができるプラズマドーピング方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma doping method and apparatus capable of controlling the concentration of an impurity to be injected to a treatment substrate and the crystallized state. - 特許庁

ドレン回収率と原水のＭアルカリ度によって復水処理剤の注入量を制御することを特徴としている。例文帳に追加

The amount of injected condensed-water processing agent is controlled based on drain recovery coefficient and methyl orange alkalinity of raw water. - 特許庁

本方法は、シリコン領域形成工程（Ｓ３０）と、熱処理工程（Ｓ３２）と、注入工程（Ｓ３６）を備えている。例文帳に追加

The method includes silicon region forming step (S30), a heat treatment step (S32), and injection step (S36). - 特許庁

このイオン注入層を境界として剥離した後、ＳＯＩウェーハを酸化処理し、所定厚さの酸化膜を形成する。例文帳に追加

After being stripped bordering on the ion implantation layer, the SOI wafer is oxidized to form an oxide film having a predetermined thickness. - 特許庁

無駄のない尿素水の注入量制御を実現することからなるボイラーの廃ガスの脱硝処理方法である。例文帳に追加

To provide a denitration method of a boiler waste gas by achieving the effective control of injection amount of urine-water. - 特許庁

電荷蓄積処理の後、プラズマ・ドライエッチングまたはプラズマ化学的気相成長法によりＯＮＯ積層膜５に電荷を注入する。例文帳に追加

An electric charge is poured into the ONO laminated film 5 by plasma dry etching or plasma chemical gas phase growing method after the charge accumulation treatment. - 特許庁

多結晶シリコン膜３をゲート電極形状にパターニングした後、全面に不純物（ボロン）をイオン注入し、熱処理を施す。例文帳に追加

Further, the polycrystalline silicon film 3 is patterned like a gate electrode, and impurities (boron) are applied to the entire surface through ion implantation, and it is heat-treated thereafter. - 特許庁

超音波レベル計１は放射性廃棄物の固化処理装置１０のモルタル注入装置１２に設けられるフード１３に設置される。例文帳に追加

The ultrasonic level gage 1 is installed in a hood 13 provided for a mortar injection device 12 of the solidifying equipment 10 of radioactive waste. - 特許庁

この生成した化学的活性種を含んだガスを微細管２に注入して、管内部の滅菌処理を行なう。例文帳に追加

The gas containing the chemically active species thus generated is injected into a microtube 2 to accomplish the sterilization treatment inside the tube. - 特許庁

キャビティ４内に、黒鉛球状化処理を施した鋳鉄を溶湯として注入してシリンダ部材を製造する。例文帳に追加

A cylinder member is manufactured by pouring a casted steel, to which a graphite balling treatment is applied, into the cavity 4 as a molten metal. - 特許庁

さらに、制御部１１は、この値を基に電磁弁７を制御し、処理タンク３に所望の量の液体窒素を注入する。例文帳に追加

A control part 11 calculates the optimum amount of liquid nitrogen necessary for freezing the weighed waste and controls the valve 7 so that a desired amount of liquid nitrogen is injected into the tank 3 according to the calculated optimum amount. - 特許庁

被処理水収容槽１０への注入水配管１２に加圧ポンプ１８と、水流混合器２０と、圧力調整弁２２とを設ける。例文帳に追加

A pressurizing pump 18, a water mixer 20 and a pressure regulation valve 22 are arranged at water charging piping to a storage tank for water to be treated. - 特許庁

樹脂成形用の樹脂注入のゲートのバリ取り研磨処理を不要にすることにより生産性の向上を図る。例文帳に追加

To improve productivity by eliminating a necessity of deburring and polishing of a gate for injecting a resin to mold the resin. - 特許庁

該負圧にする処理の終えた状態において液晶注入孔21a のみに液晶が接するように液晶を供給する。例文帳に追加

Liquid crystals are so supplied that the liquid crystals come into contact only the liquid crystal injection hole 21a in the state that the processing to generate the negative pressure ends. - 特許庁

このため、実際に被験者に注入された薬液の薬液条件データを会計処理装置９００に簡単かつ確実に提供することができる。例文帳に追加

Accordingly, the liquid medicine condition data of liquid medicine actually injected into a subject can simply and reliably be provided to the accounting processor 900. - 特許庁

排ガスへ適切な量のアンモニアを注入することのできる高イオウ油焚きボイラの排煙処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for treating the exhaust gas of a boiler using oil of a high sulfur concentration which can inject a proper amount of ammonia into the exhaust gas. - 特許庁

さらに、求めた測定対象物質の濃度を基に、冷却水水質の管理および冷却水へ水処理薬剤を注入することとした。例文帳に追加

Further, the quality control of cooling water and the injection of the water treatment chemical agent in cooling water is performed on the basis of the calculated concentration of the measuring target material. - 特許庁

連結環状溝８８にシール剤２０を注入してターミナル１８を覆って絶縁し、さらに加熱処理によりシール剤２０を硬化させる。例文帳に追加

The terminal 18 is then covered and insulated by sealant 20 poured into the linked annular groove 88 and the sealant 20 is hardened through heat treatment. - 特許庁

不純物領域になる部分のシリコン膜を炭化処理する前に、この部分に不純物を注入する。例文帳に追加

Before carbonizing the silicon film of a portion being the impurity region, an impurity is doped into the portion. - 特許庁

その後、Ｎ型トランジスタのソース・ドレイン領域となる部分に対してイオン注入処理を施す。例文帳に追加

Then, ion implantation is carried out for a part being a source-drain region of an N-type transistor. - 特許庁

イオン注入時におけるＴＦＴのゲート絶縁膜の破壊を、処理工程の増大を招くことなく、防止することができる。例文帳に追加

To prevent the breaking of the gate insulating films of TFT in ion implantation without increasing the number of treating steps. - 特許庁

（ｄ）半導体基板を熱処理し、歪形成用の不純物が注入された領域を再結晶化させる。例文帳に追加

The semiconductor substrate is heat-treated to recrystallize the region, into which the impurity for forming strain has been injected (d). - 特許庁

そして、タンク１３より加圧井戸に注入した浄化処理液を汚染土壌１５中に浸透させ、揚水井戸７から汲み上げる。例文帳に追加

Then, a purifying treatment liquid injected from a tank 13 into the pressurizing well is penetrated into contaminated soil 15 and pumped up from the pumping well 7. - 特許庁

この方法の優位点は、この方法がＦを導入するための金属ゲートエッチングを用いて、追加の注入や処理が不要であることである。例文帳に追加

A key advantage of the method is that no additional implantations or treatments are required by using the metal gate etch for introducing fluorine. - 特許庁

制御パラメータの補正やデータの学習等の煩雑な処理を不要にし、塩素注入率を最適に制御可能とする。例文帳に追加

To provide a system for controlling the injection of chlorine where complicated treatment such as the correction of control parameters and the learning of data is made needless, and the injection ratio of chlorine can be optimally controlled. - 特許庁

また、電子供与物質は、０．１μｍｏｌ／Ｌ〜３０μｍｏｌ／Ｌとなるように被処理水に注入されることが好ましい。例文帳に追加

Further, the electron donative substance is preferably injected in the water to be treated so as to become 0.1 μmol/L to 30 μmol/L. - 特許庁

なお、前記注入されたイオンを前記金属の膜が形成された後の熱処理によって活性化する工程を同時に行なうことが望ましい。例文帳に追加

It is preferable that the method include a step of activating the implanted ion by heat treatment that follows the formation of the metal film. - 特許庁